| IEICE Technical Committee Submission System Announcement |
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| Announcement | |||||||||||||||
************************************************************************* 平成28年度10月SDM研究会 開催通知と論文募集のご案内 ************************************************************************* ★シリコン材料・デバイス研究会（SDM） 専門委員長 国清 辰也 (ルネサス エレクトロニクス) 副委員長 品田 高宏 (東北大) 幹事 黒田 理人 (東北大)， 山口 直 (ルネサス エレクトロニクス) 幹事補佐 池田 浩也 (静岡大) 10月研究会担当幹事 黒田 理人（東北大） 大見 俊一郎（東工大） 山口 直 (ルネサス エレクトロニクス) 下記要領にて、平成28年度10月SDM研究会発表論文を募集いたします。 ■テーマ：「プロセス科学と新プロセス技術」 ■日程：2016年10月26日（水）～27日（木） ■会場：東北大学未来科学技術共同研究センター 未来情報産業研究館５Ｆ ■開催プログラム 確定後、以下にアップされます。随時ご確認ください。 http://ken.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM ■招待講演 1．ルネサスエレクトロニクス株式会社 槇山 秀樹 様、 超低電圧0.4V動作SOTB-CMOS回路のダイ間遅延ばらつきを抑制する基板バイアス制御技術 平成27年度 シリコン材料・デバイス研究会若手優秀発表賞 受賞記念招待講演 2. ルネサスエレクトロニクス株式会社 山本 芳樹 様 基板バイアス技術を用いたSOTB 2Mbit SRAMの超低電圧動作 平成27年度 シリコン材料・デバイス研究会若手優秀発表賞 受賞記念招待講演 3．静岡大学電子工学研究所 特任准教授 徐 珉雄 先生 科学計測用CMOSイメージセンサのための低ノイズイメージングテクニック 4．パナソニック・タワージャズ セミコンダクター株式会社 高橋 広樹 様 Novel Pixel Structure with Stacked Deep Photodiode to Achieve High NIR Sensitivity and High MTF 他1名程度を予定 ■申込締切：2016年8月12日（金） ■申込方法： 以下の発表申し込みのWebページ http://ken.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM より、発表題目・著者・発表者・所属・論文概要(100～200文字程度)・連絡先 を記入して申込みお願いします。受付後、「技術研究報告」用原稿 の作成に関するご連絡をさせていただきます。 ■論文原稿提出締切：開催日の約3週間前（原稿執筆依頼時に通知） ■論文頁数（一般講演）：研究会原稿用紙A4版6ページ以内 （招待講演）：研究会原稿用紙A4版8ページ以内 ■照会先： 〒980-8579 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉6-6-11-811 東北大学大学院工学研究科 技術社会システム専攻 黒田 理人 TEL(022)795-4833， FAX(022)795-4834 E-mail：rihito.kuroda.e3[atmark]tohoku.ac.jp ふるって投稿くださいますよう，また近辺の方々にご投稿を御呼びかけくださいますよう 何卒よろしくお願い申し上げます。皆様のご協力をどうぞよろしくお願いいたします。 |
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