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電子情報通信学会 研究会発表申込システム
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 スケジュール情報
研究会 SDM
開催日 2020-07-01 - 2020-07-01
会場 名古屋大学 VBL3F
発表申込締切日 2020-04-21
議題 MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術 (応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催)

 開催案内

新型コロナウイルスの感染拡大防止のため本研究会は開催を中止します 。

SDM 6月度研究会は、「MOSデバイス・メモリ高性能化ー材料・プロセス技術」をテーマに開催いたします。
この研究会は、2002年より応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会、表面・界面・シリコン材料研究委員会が企画する研究集会と合同開催となっており、今年も同様のスタイルで、名古屋大学ベンチャービジネスラボラトリー ベンチャーホール3Fにて、午前・午後の1日研究会として開催いたします。


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