| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 詳細情報 |
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| スケジュール情報 | |||||||||||||||
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| 開催案内 | |||||||||||||||
SDM 6月度研究会は、一昨年度よりテーマ名称を「ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術」から「MOSデバイス・メモリ高性能化－材料・プロセス技術」に変更しています。この度の研究会は、過去14回の6月度研究会に引き続き、応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会、表面・界面・シリコン材料研究委員会が企画する研究集会と合同開催となります。昨年と同様なスタイルで、会場はキャンパス・イノベーションセンター東京にて、午前・午後の1日研究会として開催いたします。 |
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