電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 詳細情報 |
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スケジュール情報 | |||||||||||||||
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開催案内 | |||||||||||||||
************************************************************************* 平成28年11月度SDM研究会 開催通知と論文募集のご案内 ************************************************************************* ★シリコン材料・デバイス研究会(SDM) 専門委員長 国清 辰也(ルネサス エレクトロ二クス) 副委員長 品田 高宏(東北大) 幹事 黒田 理人(東北大)、 山口 直(ルネサス エレクトロ二クス) 幹事補佐 池田 浩也(静岡大) 下記要領にて、11月度SDM研究会発表論文を募集いたします。 共催:応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 ■テーマ:「プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般」 ■日程:2016年11月10日(木)~11日(金) ■会場:機械振興会館 6F 6-66会議室 ■開催プログラム 確定後、以下にアップされます。随時ご確認ください。 http://ken.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM ■申込締切:2016年9月5日(月) ■申込方法: 発表申し込みのWebページ (http://ken.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM)より、 発表題目・著者・発表者・所属・論文概要(100文字程度)・連絡先 を記入して申込みお願いします。受付後、「技術研究報告」用原稿 の作成に関するご連絡をさせていただきます。 ■論文原稿提出締切:2016年10月18日(火) ■論文頁数:研究会原稿用紙A4版6ページ以内 ■スコープ 1.プロセス・デバイス・回路のシミュレーション ・デバイスシミュレーション全般 (MOSFET、FinFET、Ultra Thin Body SOI、グラフェンなどのフロンティアデバイス等) ・フロントエンド・バックエンドプロセスシミュレーション全般 (不純物拡散、配線、シリコン貫通ビア等) ・高周波やノイズモデリングを含む、回路シミュレーション用コンパクトデバイスモデリング 2.シミュレーション設計技術 ・0.5V駆動回路に向けたバイスシミュレーションおよび回路シミュレーション ・新規メモリ、MEMSのデバイスシミュレーションおよび回路シミュレーション 3.LSI物理設計、回路設計 ・0.5V駆動回路に向けた物理設計 ・新規及び微細化メモリの回路設計 4.半導体シミュレーション技術の応用展開 ・MEMSシミュレーション設計 ・バイオシステムへの半導体シミュレーション技術の応用展開 ・有機素子のモデリング、シミュレーション ・Photovoltaic deviceへの応用 ■照会先: 〒312-8504 茨城県ひたちなか市堀口751番地 ルネサス エレクトロニクス(株) 国清辰也 TEL(029)-272-3111 内線(3485) FAX(029)-270-2430 E-mail:tatsuya.kunikiyo.zn[atmark]renesas.com 〒243-0014 神奈川県厚木市旭町4丁目14-1 ソニー(株) 安斎久浩 TEL(050)3141-4277 FAX(050)3809-1414 E-mail:Hisahiro.Ansai[atmark]jp.sony.com |
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