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 スケジュール情報
研究会 SDM
開催日 2015-10-29 - 2015-10-30
会場 東北大学未来研
発表申込締切日 2015-08-21
議題 プロセス科学と新プロセス技術

 開催案内

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平成27年度10月SDM研究会
開催通知と論文募集のご案内
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★シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
専門委員長 大野 裕三(筑波大) 副委員長 国清 辰也(ルネサス エレクトロニクス)
幹事 黒田 理人(東北大) 幹事補佐 山口 直 (ルネサス エレクトロニクス)

10月研究会担当幹事
黒田 理人(東北大)
大見 俊一郎(東工大)
山口 直 (ルネサス エレクトロニクス)

下記要領にて、平成26年度10月SDM研究会発表論文を募集いたします。


■テーマ:「プロセス科学と新プロセス技術」

■日程:2015年10月29日(木)~30日(金)

■会場:東北大学未来科学技術共同研究センター
未来情報産業研究館5F

■開催プログラム
確定後、以下にアップされます。随時ご確認ください。
http://ken.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM

現時点で下記の3件の招待講演を予定しております。
・NHK放送技術研究所 藤崎 好英氏
「大画面シート型ディスプレイ実現に向けたディスプレイ材料・プロセス技術」
・日新イオン機器 中島 良樹氏
「イオン注入技術の現状と課題(仮題)」
・東京エレクトロン 上田 博一氏
「マイクロ波励起プラズマによる立体構造体への等方均一注入技術」
・東芝 財津 光一郎氏
「フラッシュメモリとCMOSロジックの近接混載技術による低消費電力・高速FPGA」


■申込締切:2014年8月21日(金)

■申込方法:
以下の発表申し込みのWebページ
http://ken.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM
より、発表題目・著者・発表者・所属・論文概要(100~200文字程度)・連絡先
を記入して申込みお願いします。受付後、「技術研究報告」用原稿
の作成に関するご連絡をさせていただきます。

■論文原稿提出締切:開催日の約3週間前(原稿執筆依頼時に通知)

■論文頁数(一般講演):研究会原稿用紙A4版6ページ以内
(招待講演):研究会原稿用紙A4版8ページ以内

■照会先:
〒980-8579 宮城県仙台市青葉区荒巻字青葉6-6-11-811
東北大学大学院工学研究科
技術社会システム専攻
黒田 理人
TEL(022)795-4833,
FAX(022)795-4834
E-mail:rihito.kuroda.e3[atmark]tohoku.ac.jp

ふるって投稿くださいますよう,また近辺の方々にご投稿を御呼びかけくださいますよう
何卒よろしくお願い申し上げます。皆様のご協力をどうぞよろしくお願いいたします。


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