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講演抄録/キーワード
講演名 2005-01-17 14:05
60MHz帯疎結合マイクロストリップ方向性結合器
平島隆洋藤井亮一中国職能開発大)・藤井修逸アドテックプラズマテクノロジー)・田中 聡福山大エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2004-208 MW2004-215
抄録 (和) 筆者らは,半導体製造用高周波電源の出力評価に利用される13.56MHz帯マイクロストリップ疎結合方向性結合器を提案してきた.本方向性結合器は,結合部分の線路長が約1/250波長と非常に小型で,かつ40dB以上の大きな方向性を有している.今回は,近年多く利用されるようになってきた60MHz帯半導体製造用高周波電源に対応したマイクロストリップ疎結合方向性結合器を設計・製作したので報告する.試作器は,結合度43.0dBのときに,リターンロス35.1dB,インサーションロス0.0072dB,方向性38.6dBという良好な結果を得ている. 
(英) We proposed the 13.56 MHz band microstrip directional coupler used for the power measurement of the RF plasma generator for the semiconductor manufactured. The part of coupling section is compact size of about 1/250 wavelength, and this coupler has a high directivity of over 40 dB. In this report, a microstrip directional coupler corresponding to the 60 MHz band generator which comes to be used well recently. This coupler attains the good result of a return loss of 35.1 dB, an insertion loss of 0.0072 dB, a directivity of 38.6 dB at 43.0 dB coupled.
キーワード (和) RF帯方向性結合器 / 疎結合 / エッジ結合マイクロストリップ線路 / / / / /  
(英) RF Directional Coupler / Loosely-Coupled / Edge-Coupled Microstrip Line / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 104, no. 551, MW2004-215, pp. 27-32, 2005年1月.
資料番号 MW2004-215 
発行日 2005-01-10 (ED, MW) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2004-208 MW2004-215

研究会情報
研究会 MW ED  
開催期間 2005-01-17 - 2005-01-18 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英)  
テーマ(和) 超高速・超高周波デバイスおよびIC/一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MW 
会議コード 2005-01-MW-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 60MHz帯疎結合マイクロストリップ方向性結合器 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) 60-MHz-Band Loosely-Coupled Microstrip Directional Coupler 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) RF帯方向性結合器 / RF Directional Coupler  
キーワード(2)(和/英) 疎結合 / Loosely-Coupled  
キーワード(3)(和/英) エッジ結合マイクロストリップ線路 / Edge-Coupled Microstrip Line  
キーワード(4)(和/英) /  
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キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 平島 隆洋 / Takahiro Hirashima / ヒラシマ タカヒロ
第1著者 所属(和/英) 中国職業能力開発大学校 (略称: 中国職能開発大)
Chugoku Polytechnic College (略称: Chugoku Polytechnic College)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤井 亮一 / Ryoichi Fujii / フジイ リョウイチ
第2著者 所属(和/英) 中国職業能力開発大学校附属福山職業能力開発短期大学校 (略称: 中国職能開発大)
Fukuyama Polytechnic College (略称: Fukuyama Polytechnic College)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤井 修逸 / Shuitsu Fujii / フジイ シュウイツ
第3著者 所属(和/英) 株式会社アドテックプラズマテクノロジー (略称: アドテックプラズマテクノロジー)
ADTEC Plasma Technology Co. Ltd. (略称: ADTEC Plasma Technology)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 聡 / Satoshi Tanaka / タナカ サトシ
第4著者 所属(和/英) 福山大学 (略称: 福山大)
Fukuyama University (略称: Fukuyama Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2005-01-17 14:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 MW 
資料番号 ED2004-208, MW2004-215 
巻番号(vol) vol.104 
号番号(no) no.549(ED), no.551(MW) 
ページ範囲 pp.27-32 
ページ数
発行日 2005-01-10 (ED, MW) 


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