講演抄録/キーワード |
講演名 |
2005-10-12 16:45
光反応性液晶高分子中での偏光干渉法による2次元周期構造の形成 ○江本顕雄・小野浩司(長岡技科大)・川月喜弘(兵庫県立大) エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2005-73 |
抄録 |
(和) |
側鎖にメソゲンと光反応部を有する液晶高分子に紫外偏光を照射すると、光応答部の軸選択的な反応とその後の熱処理によって、照射偏光方向に一致した分子の再配列を誘起できる。本件研究では3光束偏光干渉ホログラムを利用して、異方性を有する2次元周期構造の形成を行った。結果として、幾何学模様の表面構造を有する2次元異方性格子を得た。 |
(英) |
We performed preparation of two-dimensional anisotropic gratings with surface relief modulation in photoreactive polymer liquid crystals. The grating formation originate the axis-selectively photoreaction of the side chain groups by exposing to the linearly polarized ultraviolet interference light and subsequent annealing. By means of three-beam interferometry, the two-dimensional surface relief modulations consist of geometrical figure and two-dimensionally periodic anisotropic refractive-index modulations were observed. |
キーワード |
(和) |
液晶高分子 / 偏光 / 2次元周期構造 / 偏光ホログラム / / / / |
(英) |
polymer liquid crystal / polarized beam / two-dimensional grating / polarization hologram / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 105, no. 321, OPE2005-73, pp. 47-52, 2005年10月. |
資料番号 |
OPE2005-73 |
発行日 |
2005-10-05 (OPE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 |
著作権に ついて |
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