お知らせ 研究会の開催と会場に参加される皆様へのお願い(2022年6月開催~)
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2005-12-22 13:10
ダイヤモンド電子放出素子の開発 ~ 素子の均一形成と大電流化 ~
西林良樹辰己夏生難波暁彦山本喜之今井貴浩住友電工エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2005-183
抄録 (和) これまで我々はダイヤモンドの微細先端の尖鋭加工技術を開発し、ダイヤモンドの電子エミッタに応用することを検討してきた。比較的まとまった面積から大きな電子放出を得るためには、均一に電子を放出させることが重要であると考え、SiON、SiO2マスクを用いてエミッタ形状や高さの均一性を向上させ、デバイスを一様に形成する工夫を行い、最終的に1mm2の面積から約150mAの放出電流を得ることができた。今回のエミッタは均一性を優先して2インチ多結晶ボロンドープエミッタからの結果であり、作製方法や特性についての報告を行う。 
(英) The authors have developed diamond emitter devices for large current. In order to achieve that, it is important to fabricate uniform emitter tip and devices. Uniform devise have been fabricated using uniform SiON or SiO2 mask and other improvements. In this report, the authors report on uniform fabrication of emitter devices and their electron emission properties.
キーワード (和) ダイヤモンド / 微細加工 / 均一加工 / 大電流 / 電子源 / / /  
(英) Diamond / Micro-fabrication / uniform device / large emission current / Electron source / / /  
文献情報 信学技報, vol. 105, no. 498, ED2005-183, pp. 7-10, 2005年12月.
資料番号 ED2005-183 
発行日 2005-12-15 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2005-183

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2005-12-22 - 2005-12-22 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英)  
テーマ(和) 電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2005-12-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) ダイヤモンド電子放出素子の開発 
サブタイトル(和) 素子の均一形成と大電流化 
タイトル(英) Development of diamond electron emission devices 
サブタイトル(英) Fabrication of unifom devices with large current 
キーワード(1)(和/英) ダイヤモンド / Diamond  
キーワード(2)(和/英) 微細加工 / Micro-fabrication  
キーワード(3)(和/英) 均一加工 / uniform device  
キーワード(4)(和/英) 大電流 / large emission current  
キーワード(5)(和/英) 電子源 / Electron source  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 西林 良樹 / Yoshiki Nishibayashi / ニシバヤシ ヨシキ
第1著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社 (略称: 住友電工)
Sumitomo Electric Industries, Ltd. (略称: SEI)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 辰己 夏生 / Natsuo Tatsumi / タツミ ナツオ
第2著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社 (略称: 住友電工)
Sumitomo Electric Industries, Ltd. (略称: SEI)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 難波 暁彦 / Akihiko Namba / ナンバ アキヒコ
第3著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社 (略称: 住友電工)
Sumitomo Electric Industries, Ltd. (略称: SEI)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 山本 喜之 / Yoshiyuki Yamamoto / ヤマモト ヨシユキ
第4著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社 (略称: 住友電工)
Sumitomo Electric Industries, Ltd. (略称: SEI)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 今井 貴浩 / Takahiro Imai / イマイ タカヒロ
第5著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社 (略称: 住友電工)
Sumitomo Electric Industries, Ltd. (略称: SEI)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2005-12-22 13:10:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2005-183 
巻番号(vol) vol.105 
号番号(no) no.498 
ページ範囲 pp.7-10 
ページ数
発行日 2005-12-15 (ED) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会