お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2005-12-22 12:45
触媒金属上に成長したBCNのフィールドエミッション特性
木村千春岡田邦孝阪大)・岡本幸一和田 優舞鶴高専)・青木秀充杉野 隆阪大エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2005-182
抄録 (和) 金属上に様々な温度においてBCN薄膜を作製し、BCN薄膜のフィールドエミッション特性を評価した。シリコン基板上のBCN薄膜の成長に比べ、触媒として鉄(Fe)を用いた場合、成長速度の促進が観測された。BCN薄膜の成長温度を変え、表面形状を観察したところ成長温度の低下とともに薄膜表面の粗さは増大した。温度以外の成長条件を同じにしても、成長温度の低下につれてBCN薄膜への炭素の取り込み量は増加した。Feの触媒効果を利用してBCN薄膜をガラス基板上に200℃で堆積させ、フィールドエミッション特性を評価したところ5.1V/μmという閾値での電子放出を実現した。 
(英) Field emission characteristics of the boron carbon nitride (BCN) films deposited on the iron substrate at various temperatures are investigated. The growth rate of BCN films deposited on the iron substrate is higher than that deposited on the Si substrate because iron is a catalyst metal and accelerates the growth of BCN films. The surface roughness and carbon (C) composition ratio are examined by atomic force microscopic (AFM) observation and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) measurement, respectively. The C composition ratio increases with decreasing growth temperature. The surface roughness also increases with decreasing growth temperature. The turn-on electric field as low as 5.1 V/μm is achieved for the BCN film deposited at 200 ℃ on the glass substrate.
キーワード (和) ホウ素-炭素-窒素 / フィールドエミッション / 触媒金属 / / / / /  
(英) B-C-N / Field emission / Catalytic metal / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 105, no. 498, ED2005-182, pp. 1-6, 2005年12月.
資料番号 ED2005-182 
発行日 2005-12-15 (ED) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2005-182

研究会情報
研究会 ED  
開催期間 2005-12-22 - 2005-12-22 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英)  
テーマ(和) 電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ED 
会議コード 2005-12-ED 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 触媒金属上に成長したBCNのフィールドエミッション特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英)
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) ホウ素-炭素-窒素 / B-C-N  
キーワード(2)(和/英) フィールドエミッション / Field emission  
キーワード(3)(和/英) 触媒金属 / Catalytic metal  
キーワード(4)(和/英) /  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 木村 千春 / Chiharu Kimura / キムラ チハル
第1著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka Unisersity (略称: Osaka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡田 邦孝 / Kunitaka Okada / オカダ クニタカ
第2著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka Unisersity (略称: Osaka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 岡本 幸一 / * /
第3著者 所属(和/英) 舞鶴工業高等専門学校 (略称: 舞鶴高専)
Maizuru National College of Technology (略称: Maizuru National College of Tech.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 和田 優 / * /
第4著者 所属(和/英) 舞鶴工業高等専門学校 (略称: 舞鶴高専)
Maizuru National College of Technology (略称: Maizuru National College of Tech.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 青木 秀充 / Hidemitsu Aoki /
第5著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka Unisersity (略称: Osaka Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 杉野 隆 / Takashi Sugino /
第6著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka Unisersity (略称: Osaka Univ.)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2005-12-22 12:45:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 ED 
資料番号 ED2005-182 
巻番号(vol) vol.105 
号番号(no) no.498 
ページ範囲 pp.1-6 
ページ数
発行日 2005-12-15 (ED) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会