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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2006-06-21 13:50 光電子分光法によるAl2O3/SiNx/poly-Siスタック構造における界面反応評価 ○古川寛章・多比良昌弘・大田晃生・中川 博・村上秀樹・宮崎誠一（広島大）・米田賢司・堀川貢弘・小山邦明・三宅秀治（エルピーダメモリ） エレソ技報アーカイブへのリンク：  SDM2006-44 |
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| 抄録 | （和） | (まだ登録されていません) |
| （英） | (Not available yet) | |
| キーワード | （和） | / / / / / / / |
| （英） | / / / / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 106, no. 108, SDM2006-44, pp. 13-17, 2006年6月. | |
| 資料番号 | SDM2006-44 | |
| 発行日 | 2006-06-14 (SDM) | |
| ISSN | Print edition: ISSN 0913-5685 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | エレソ技報アーカイブへのリンク：SDM2006-44 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
| 開催期間 | 2006-06-21 - 2006-06-22 |
| 開催地（和） | 広島大学, 学士会館 |
| 開催地（英） | Faculty Club, Hiroshima Univ. |
| テーマ（和） | ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術 |
| テーマ（英） | Science and Technologies of Dielectric Thin Films for Future Electron Devices |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | SDM |
| 会議コード | 2006-06-SDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | 光電子分光法によるAl2O3/SiNx/poly-Siスタック構造における界面反応評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characterization of Interfacial Reactions in Al2O3/SiNx/poly-Si Stack Structure by Photoemission Measurements |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | / |
| キーワード(2)（和/英） | / |
| キーワード(3)（和/英） | / |
| キーワード(4)（和/英） | / |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 古川 寛章 / Hiroaki Furukawa / フルカワ ヒロアキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 広島大学 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 多比良 昌弘 / Masahiro Taira / タイラ マサヒロ |
| 第2著者 所属（和/英） | 広島大学 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 大田 晃生 / Akio Ohta / オオタ アキオ |
| 第3著者 所属（和/英） | 広島大学 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中川 博 / Hiroshi Nakagawa / ナカガワ ヒロシ |
| 第4著者 所属（和/英） | 広島大学 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 村上 秀樹 / Hideki Murakami / ムラカミ ヒデキ |
| 第5著者 所属（和/英） | 広島大学 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宮崎 誠一 / Seiichi Miyazaki / ミヤザキ セイイチ |
| 第6著者 所属（和/英） | 広島大学 (略称： 広島大) Hiroshima University (略称： Hiroshima Univ.) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | 米田 賢司 / Kenji Komeda / コメダ ケンジ |
| 第7著者 所属（和/英） | エルピーダメモリ株式会社 (略称： エルピーダメモリ) Elpida Memory, Inc (略称： Elpida Memory) |
| 第8著者 氏名（和/英/ヨミ） | 堀川 貢弘 / Mitsuhiro Horikawa / ホリカワ ミツヒロ |
| 第8著者 所属（和/英） | エルピーダメモリ株式会社 (略称： エルピーダメモリ) Elpida Memory, Inc (略称： Elpida Memory) |
| 第9著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小山 邦明 / Kuniaki Koyama / コヤマ クニアキ |
| 第9著者 所属（和/英） | エルピーダメモリ株式会社 (略称： エルピーダメモリ) Elpida Memory, Inc (略称： Elpida Memory) |
| 第10著者 氏名（和/英/ヨミ） | 三宅 秀治 / Hideharu Miyake / ミヤケ ヒデハル |
| 第10著者 所属（和/英） | エルピーダメモリ株式会社 (略称： エルピーダメモリ) Elpida Memory, Inc (略称： Elpida Memory) |
| 第11著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第11著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 第12著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第13著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第14著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 第18著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
| 第18著者 所属（和/英） | (略称： ) (略称： ) |
| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2006-06-21 13:50:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | SDM |
| 資料番号 | SDM2006-44 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | no.108 |
| ページ範囲 | pp.13-17 |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | 2006-06-14 (SDM) |
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