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講演抄録/キーワード
講演名 2009-10-30 14:05
長周期ファイバグレーティング製作後の加熱によるピーク損失波長調節における短波長移動拡大
アビリシャーミアン ファテメイ森下克己阪電通大OFT2009-51
抄録 (和) 長周期ファイバグレーティングのピーク損失波長を加熱により,短波長側に大きく調節できるようにした.また,ピーク損失波長の短波長及び長波長側への移動のメカニズムについても調べた.加熱温度を低くするほど,ガラス構造緩和が残留応力緩和より遅くなり,残留応力緩和により起こる短波長側への移動が,加熱初期により大きく現れることが分かった.ピーク損失波長の41 nmもの大きな短波長側への移動が,600 °Cで3500 分加熱することによって達成された.41 nmの移動を引き起こした残留応力緩和によるコアの屈折率減少は約10–4であることが,数値解析により明らかになった. 
(英) The adjustable range of resonance wavelengths of long-period fiber gratings was broadened toward the blue wavelength side by heating. The mechanisms of the blue and red wavelength shifts were investigated. It becomes clear that the glass structure relaxes more slowly than the residual stress with decreasing heating temperature and the blue shift caused by the residual stress relaxation appears more strongly at the early stage of heating. The large blue shift of a resonance wavelength, 41 nm, was obtained by heating a long-period grating at 600 °C for 3500 minutes. The core index reduction inducing the blue shift was estimated at about 10–4 by numerical analysis.
キーワード (和) 長周期ファイバグレーティング / ピーク損失波長調節 / ガラス構造緩和 / 残留応力緩和 / / / /  
(英) long period fiber grating / resonance wavelength adjustment / glass structure relaxation / residual stress relaxation / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 109, no. 255, OFT2009-51, pp. 83-88, 2009年10月.
資料番号 OFT2009-51 
発行日 2009-10-22 (OFT) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード OFT2009-51

研究会情報
研究会 OFT  
開催期間 2009-10-29 - 2009-10-30 
開催地(和) 別府国際コンベンションセンター【変更】 
開催地(英)  
テーマ(和) 一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 OFT 
会議コード 2009-10-OFT 
本文の言語 英語(日本語タイトルあり) 
タイトル(和) 長周期ファイバグレーティング製作後の加熱によるピーク損失波長調節における短波長移動拡大 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Expanding Blue Shift on Post-Fabrication Resonance Wavelength Adjustment of Long-Period Fiber Gratings by Heating 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 長周期ファイバグレーティング / long period fiber grating  
キーワード(2)(和/英) ピーク損失波長調節 / resonance wavelength adjustment  
キーワード(3)(和/英) ガラス構造緩和 / glass structure relaxation  
キーワード(4)(和/英) 残留応力緩和 / residual stress relaxation  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) アビリシャーミアン ファテメイ / Fatemeh Abrishamian / アビリシャーミアン ファテメイ
第1著者 所属(和/英) 大阪電気通信大学 (略称: 阪電通大)
Osaka Electro-Communication University (略称: Osaka Electro-Comm. Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 森下 克己 / Katsumi Morishita / モリシタ カツミ
第2著者 所属(和/英) 大阪電気通信大学 (略称: 阪電通大)
Osaka Electro-Communication University (略称: Osaka Electro-Comm. Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2009-10-30 14:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 OFT 
資料番号 OFT2009-51 
巻番号(vol) vol.109 
号番号(no) no.255 
ページ範囲 pp.83-88 
ページ数
発行日 2009-10-22 (OFT) 


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