研究会情報 |
研究会 |
SDM |
開催期間 |
2011-07-04 - 2011-07-04 |
開催地(和) |
名古屋大学(ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー) |
開催地(英) |
VBL, Nagoya Univ. |
テーマ(和) |
ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術(応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会との合同開催) |
テーマ(英) |
Science and Technology for Dielectric Thin Films for Electron Devices |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2011-07-SDM |
本文の言語 |
英語 |
タイトル(和) |
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サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Evaluation of Electrical Property at SrTiO3 Bicrystal Interface by EBIC |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
加藤 哲司 / Tetsuji Kato / カトウ テツジ |
第1著者 所属(和/英) |
大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
Son Phu Thanh Pham / Son Phu Thanh Pham / サン フォー タン ファム |
第2著者 所属(和/英) |
大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
中村 芳明 / Yoshiaki Nakamura / ナカムラ ヨシアキ |
第3著者 所属(和/英) |
大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
吉川 純 / Jun Kikkawa / キッカワ ジュン |
第4著者 所属(和/英) |
大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
酒井 朗 / Akira Sakai / サカイ アキラ |
第5著者 所属(和/英) |
大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 所属(和/英) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 所属(和/英) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 所属(和/英) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 所属(和/英) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 所属(和/英) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 所属(和/英) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第2著者 |
発表日時 |
2011-07-04 16:00:00 |
発表時間 |
20分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
SDM2011-66 |
巻番号(vol) |
vol.111 |
号番号(no) |
no.114 |
ページ範囲 |
pp.93-96 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2011-06-27 (SDM) |