講演抄録/キーワード |
講演名 |
2011-08-25 13:10
UVレーザ直接描画による光配線板用交差光導波路の損失特性 ○石倉隆広・隠岐正義・加藤圭亮(千歳科技大)・須田俊央(フォトニックサイエンステクノロジ)・小林壮一(千歳科技大) EMD2011-35 CPM2011-79 OPE2011-70 LQE2011-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-35 CPM2011-79 OPE2011-70 LQE2011-33 |
抄録 |
(和) |
本報告ではナノハイブリッドシリコーンを用いた光配線板用ポリマーマルチモード交差光導波路の作製及びその評価について述べている。作製にはレーザ直接描画法を採用し,光配線板用ポリマーマルチモード交差光導波路及び多重交差光導波路を作製し,損失特性,クロストークについて検討した。 |
(英) |
We report the fabrications and measurements of the polymer multimode optical cross waveguides of the nano-hybrid silicone. The laser direct drawing method for fabricating the tilted polymer multimode optical cross waveguides and the multiple optical cross waveguides was adopted. The insertion loss and the cross talk of the cross waveguides are measured and discussed. |
キーワード |
(和) |
ポリマー光導波路 / 光配線板 / レーザ直接描画法 / / / / / |
(英) |
Polymer optical waveguide / Optical backplane / Laser direct drawing / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 111, no. 185, OPE2011-70, pp. 23-26, 2011年8月. |
資料番号 |
OPE2011-70 |
発行日 |
2011-08-18 (EMD, CPM, OPE, LQE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
EMD2011-35 CPM2011-79 OPE2011-70 LQE2011-33 エレソ技報アーカイブへのリンク:EMD2011-35 CPM2011-79 OPE2011-70 LQE2011-33 |
研究会情報 |
研究会 |
CPM OPE LQE EMD |
開催期間 |
2011-08-25 - 2011-08-26 |
開催地(和) |
北海道大学 創成科学研究棟 5階 大会議室 |
開催地(英) |
Hokkaido Univ. |
テーマ(和) |
光部品・電子デバイス実装技術、一般 |
テーマ(英) |
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講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
OPE |
会議コード |
2011-08-CPM-OPE-LQE-EMD |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
UVレーザ直接描画による光配線板用交差光導波路の損失特性 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Loss Characteristics of Optical cross Waveguides for Optical Backplane by Direct UV Laser Drawing |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
ポリマー光導波路 / Polymer optical waveguide |
キーワード(2)(和/英) |
光配線板 / Optical backplane |
キーワード(3)(和/英) |
レーザ直接描画法 / Laser direct drawing |
キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
石倉 隆広 / Takahiro Ishikura / イシクラ タカヒロ |
第1著者 所属(和/英) |
千歳科学技術大学 (略称: 千歳科技大)
Chitose Institute of Science and Technology (略称: CIST) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
隠岐 正義 / Seigi Oki / オキ セイギ |
第2著者 所属(和/英) |
千歳科学技術大学 (略称: 千歳科技大)
Chitose Institute of Science and Technology (略称: CIST) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
加藤 圭亮 / Keisuke Katou / カトウ ケイスケ |
第3著者 所属(和/英) |
千歳科学技術大学 (略称: 千歳科技大)
Chitose Institute of Science and Technology (略称: CIST) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
須田 俊央 / Toshihiro Suda / スダ トシヒロ |
第4著者 所属(和/英) |
フォトニクスサイエンステクノロジ株式会社 (略称: フォトニックサイエンステクノロジ)
Photonic Science Technology, Inc. (略称: PSTI) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小林 壮一 / Soichi Kobayashi / コバヤシ ソウイチ |
第5著者 所属(和/英) |
千歳科学技術大学 (略称: 千歳科技大)
Chitose Institute of Science and Technology (略称: CIST) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2011-08-25 13:10:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
OPE |
資料番号 |
EMD2011-35, CPM2011-79, OPE2011-70, LQE2011-33 |
巻番号(vol) |
vol.111 |
号番号(no) |
no.183(EMD), no.184(CPM), no.185(OPE), no.186(LQE) |
ページ範囲 |
pp.23-26 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2011-08-18 (EMD, CPM, OPE, LQE) |