研究会情報 |
研究会 |
VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM |
開催期間 |
2011-11-28 - 2011-11-30 |
開催地(和) |
ニューウェルシティ宮崎 |
開催地(英) |
NewWelCity Miyazaki |
テーマ(和) |
デザインガイア2011 -VLSI設計の新しい大地― |
テーマ(英) |
Design Gaia 2010 -New Field of VLSI Design- |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2011-11-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
MEMS/CMOS集積化技術の過去・現在・未来 |
サブタイトル(和) |
デバイス技術と設計技術の変遷 |
タイトル(英) |
The Past, Present, and Future of MEMS/CMOS Integration Technologies |
サブタイトル(英) |
Transitions in Device Processes and Design Techniques |
キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
高尾 英邦 / Hidekuni Takao / タカオ ヒデクニ |
第1著者 所属(和/英) |
香川大学 (略称: 香川大)
Kagawa University (略称: Kagawa Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2011-11-28 10:00:00 |
発表時間 |
50分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
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巻番号(vol) |
vol.111 |
号番号(no) |
no.326(CPM), no.327(ICD) |
ページ範囲 |
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ページ数 |
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発行日 |
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