講演抄録/キーワード |
講演名 |
2012-11-26 16:00
ランダム・テレグラフ・ノイズに起因した組合せ回路遅延ゆらぎに対する基板バイアスの影響 ○松本高士(京大)・小林和淑(京都工繊大)・小野寺秀俊(京大) VLD2012-70 DC2012-36 |
抄録 |
(和) |
近年のLSI素子の微細化により、NBTIおよび、RTNなどのゲート絶縁膜の信頼性が回路の信頼性に与える影響がますます深刻になってきた。本研究ではRTNが回路の信頼性に与える影響を40nm CMOSテクノロジにおいて試作した回路によって実測した結果に基づいて報告する。微細なサイズのインバータで構成される組合せ回路遅延ゆらぎを1,655個のリング発振回路で実測するとともに、基板バイアスがRTNによる遅延ゆらぎに対して与える影響を明らかにした。 |
(英) |
Designing reliable systems has become more difficult in recent years.
In this paper, statistical nature of RTN-induced delay fluctuation is described by measuring 1,655 ROs fabricated in a commercial 40 nm CMOS technology. We also investigated the impact of body-biasing technique on RTN-induced circuit delay fluctuation. |
キーワード |
(和) |
ディペンダブルVLSI / CMOS / RTN / 基板バイアス技術 / / / / |
(英) |
dependable VLSI / CMOS / RTN / Body-Biasing Technique / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 112, no. 320, VLD2012-70, pp. 63-68, 2012年11月. |
資料番号 |
VLD2012-70 |
発行日 |
2012-11-19 (VLD, DC) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
VLD2012-70 DC2012-36 |
研究会情報 |
研究会 |
VLD DC IPSJ-SLDM CPSY RECONF ICD CPM |
開催期間 |
2012-11-26 - 2012-11-28 |
開催地(和) |
九州大学百年講堂 |
開催地(英) |
Centennial Hall Kyushu University School of Medicine |
テーマ(和) |
デザインガイア2012 -VLSI設計の新しい大地- |
テーマ(英) |
Design Gaia 2012 -New Field of VLSI Design- |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
VLD |
会議コード |
2012-11-VLD-DC-SLDM-CPSY-RECONF-ICD-CPM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
ランダム・テレグラフ・ノイズに起因した組合せ回路遅延ゆらぎに対する基板バイアスの影響 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Impact of Body-Biasing Technique on RTN-induced Delay Fluctuation |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
ディペンダブルVLSI / dependable VLSI |
キーワード(2)(和/英) |
CMOS / CMOS |
キーワード(3)(和/英) |
RTN / RTN |
キーワード(4)(和/英) |
基板バイアス技術 / Body-Biasing Technique |
キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
松本 高士 / Takashi Matsumoto / マツモト タカシ |
第1著者 所属(和/英) |
京都大学 (略称: 京大)
Kyoto University (略称: Kyoto Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小林 和淑 / Kazutoshi Kobayashi / コバヤシ カズトシ |
第2著者 所属(和/英) |
京都工芸繊維大学 (略称: 京都工繊大)
Kyoto Institute of Technology (略称: Kyoto Inst. Tech.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
小野寺 秀俊 / Hidetoshi Onodera / オノデラ ヒデトシ |
第3著者 所属(和/英) |
京都大学 (略称: 京大)
Kyoto University (略称: Kyoto Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2012-11-26 16:00:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
VLD |
資料番号 |
VLD2012-70, DC2012-36 |
巻番号(vol) |
vol.112 |
号番号(no) |
no.320(VLD), no.321(DC) |
ページ範囲 |
pp.63-68 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2012-11-19 (VLD, DC) |