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講演抄録／キーワード
講演名
2015-03-02 14:25
［招待講演］インターカレーションによる低抵抗多層グラフェン配線の実現
○
近藤大雄
（
産総研/富士通研
）・
中野美尚
・
周 波
・
井 亜希子
（
産総研
）・
林 賢二郎
（
産総研/富士通研
）・
高橋 誠
（
産総研
）・
佐藤信太郎
・
横山直樹
（
産総研/富士通研
）
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抄録
（和）
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（英）
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キーワード
（和）
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（英）
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文献情報
信学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
SDM
開催期間
2015-03-02 - 2015-03-02
開催地（和）
機械振興会館
開催地（英）
Kikai-Shinko-Kaikan Bldg
テーマ（和）
配線・実装技術と関連材料技術
テーマ（英）
http://www.ieice.org/jpn/about/syozai.html
講演論文情報の詳細
申込み研究会
SDM
会議コード
2015-03-SDM
本文の言語
日本語
タイトル（和）
インターカレーションによる低抵抗多層グラフェン配線の実現
サブタイトル（和）
タイトル（英）
Intercalated multi-layer graphene interconnects with low resistivity
サブタイトル（英）
キーワード(1)（和/英）
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キーワード(2)（和/英）
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キーワード(3)（和/英）
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キーワード(4)（和/英）
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キーワード(5)（和/英）
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キーワード(6)（和/英）
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キーワード(7)（和/英）
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キーワード(8)（和/英）
/
第1著者 氏名（和/英/ヨミ）
近藤 大雄
/
Daiyu Kondo
/
コンドウ D
第1著者 所属（和/英）
産総研/富士通研
(略称：
産総研/富士通研
)
AIST/Fujitsu Labs.
(略称：
AIST/Fujitsu Labs.
)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ）
中野 美尚
/
Haruhisa Nakano
/
ナカノ H
第2著者 所属（和/英）
産総研
(略称：
産総研
)
AIST
(略称：
AIST
)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ）
周 波
/
Bo Zhou
/
Bo Zhou
第3著者 所属（和/英）
産総研
(略称：
産総研
)
AIST
(略称：
AIST
)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ）
井 亜希子
/
Akiko I
/
イ A
第4著者 所属（和/英）
産総研
(略称：
産総研
)
AIST
(略称：
AIST
)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ）
林 賢二郎
/
Kenjiro Hayashi
/
ハヤシ K
第5著者 所属（和/英）
産総研/富士通研
(略称：
産総研/富士通研
)
AIST/Fujitsu Labs.
(略称：
AIST/Fujitsu Labs.
)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ）
高橋 誠
/
Makoto Takahashi
/
タカハシ S
第6著者 所属（和/英）
産総研
(略称：
産総研
)
AIST
(略称：
AIST
)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ）
佐藤 信太郎
/
Shintaro Sato
/
サトウ S
第7著者 所属（和/英）
産総研/富士通研
(略称：
産総研/富士通研
)
AIST/Fujitsu Labs.
(略称：
AIST/Fujitsu Labs.
)
第8著者 氏名（和/英/ヨミ）
横山 直樹
/
Naoki Yokoyama
/
ヨコヤマ N
第8著者 所属（和/英）
産総研/富士通研
(略称：
産総研/富士通研
)
AIST/Fujitsu Labs.
(略称：
AIST/Fujitsu Labs.
)
第9著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第9著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第10著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第10著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第11著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第11著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第12著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第12著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第13著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第13著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第14著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第14著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第15著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第15著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第16著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第16著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第17著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第17著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第18著者 氏名（和/英/ヨミ）
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第18著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第19著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第19著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
第20著者 氏名（和/英/ヨミ）
/ /
第20著者 所属（和/英）
(略称： )
(略称： )
講演者
第1著者
発表日時
2015-03-02 14:25:00
発表時間
30分
申込先研究会
SDM
資料番号
巻番号（vol）
vol.114
号番号（no）
no.469
ページ範囲
ページ数
発行日
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