講演抄録/キーワード |
講演名 |
2015-04-30 13:50
レーザーアニールによる低抵抗結晶化Si薄膜 ○野口 隆・岡田竜弥(琉球大) SDM2015-15 OME2015-15 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2015-15 OME2015-15 |
抄録 |
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文献情報 |
信学技報, vol. 115, no. 18, SDM2015-15, pp. 57-61, 2015年4月. |
資料番号 |
SDM2015-15 |
発行日 |
2015-04-22 (SDM, OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
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研究会情報 |
研究会 |
OME SDM |
開催期間 |
2015-04-29 - 2015-04-30 |
開催地(和) |
大濱信泉記念館多目的ホール |
開催地(英) |
Oh-hama Nobumoto Memorial Hall |
テーマ(和) |
薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術、バイオテクノロジー、および一般 |
テーマ(英) |
Thin FIlms, Functional Electronics Devices, New Functional Materials and Evaluation, BIomtechnology |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2015-04-OME-SDM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
レーザーアニールによる低抵抗結晶化Si薄膜 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Low Resistivity of poly-Si films by LA Laser Annealing |
サブタイトル(英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
野口 隆 / Takashi Noguchi / ノグチ タカシ |
第1著者 所属(和/英) |
琉球大学 (略称: 琉球大)
Univeristy of the Ryukyus (略称: Univ. Ryukyus) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
岡田 竜弥 / Tatsuya Okada / オカダ タツヤ |
第2著者 所属(和/英) |
琉球大学 (略称: 琉球大)
Univeristy of the Ryukyus (略称: Univ. Ryukyus) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2015-04-30 13:50:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
SDM2015-15, OME2015-15 |
巻番号(vol) |
vol.115 |
号番号(no) |
no.18(SDM), no.19(OME) |
ページ範囲 |
pp.57-61 |
ページ数 |
5 |
発行日 |
2015-04-22 (SDM, OME) |
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