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講演抄録／キーワード
講演名 2018-10-19 10:05
半導体障壁層を有する全単結晶磁気トンネル接合の作製とトンネル磁気抵抗
○齋藤秀和（産総研）・Sai Krishna Narayananellore（物質・材料研究機構）・松尾紀宏・土光尚樹・昆　慎太郎・安川雪子（千葉工大）・湯浅新治（産総研）   エレソ技報アーカイブはこちら
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文献情報 信学技報
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研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2018-10-18 - 2018-10-19 
開催地（和） 大阪大学 
開催地（英） Osaka University 
テーマ（和） ヘッド，スピントロニクス，一般 
テーマ（英） Recording Head, Spintronics, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2018-10-MRIS-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） 半導体障壁層を有する全単結晶磁気トンネル接合の作製とトンネル磁気抵抗 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） Fabrication and tunneling magnetoresistance in fully epitaxial magnetic tunnel junctions with a semiconductor tunnel barrier 
サブタイトル（英）  
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 齋藤 秀和 / Hidekazu Saito / サイトウ ヒデカズ
第1著者 所属（和/英） 産業技術総合研究所 (略称： 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） Sai Krishna Narayananellore / Sai Krishna Narayananellore /
第2著者 所属（和/英） 物質材料研究機構 (略称： 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称： NIMS)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 松尾 紀宏 / Norihiro Matsuo / マツオ ノリヒロ
第3著者 所属（和/英） 千葉工業大学 (略称： 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称： Chiba Inst. of Technol.)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 土光 尚樹 / Naoki Doko / ドコウ ナオキ
第4著者 所属（和/英） 千葉工業大学 (略称： 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称： Chiba Inst. of Technol.)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 昆 慎太郎 / Shintaro Kon / コン シンタロウ
第5著者 所属（和/英） 千葉工業大学 (略称： 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称： Chiba Inst. of Technol.)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ） 安川 雪子 / Yukiko Yasukawa / ヤスカワ ユキコ
第6著者 所属（和/英） 千葉工業大学 (略称： 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称： Chiba Inst. of Technol.)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ） 湯浅 新治 / Shinji Yuasa / ユアサ シンジ
第7著者 所属（和/英） 産業技術総合研究所 (略称： 産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (略称： AIST)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-10-19 10:05:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 MRIS 
資料番号  
巻番号（vol） vol.118 
号番号（no） no.255 
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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