お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2018-11-09 10:20
[招待講演]4H-SiC MOS反転層における電子輸送のモデリング
田中 一森 伸也阪大SDM2018-71 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2018-71
抄録 (和) 4H-SiC MOS界面における電子散乱過程を定式化し,モンテカルロシミュレーションにより電子移動度の計算を行った.フォノン・イオン化不純物・表面ラフネス散乱に加え,界面準位捕獲電荷によるクーロン散乱とSiC中の中性欠陥による散乱を考慮した.この際,界面準位に捕獲された電荷が散乱源として働くだけでなく遮蔽効果ももたらすと考えることで,実験的に報告されているHall移動度の振る舞いが再現された. 
(英) We formulated scattering mechanisms in 4H-SiC MOS interfaces and calculated the electron mobility by a Monte Carlo simulation. In addition to phonon, ionized impurity, and surface roughness scattering, we considered Coulomb scattering by the charges trapped at interface states and scattering by neutral defects in SiC. By assuming that the trapped charges contribute to screening as well as scattering, the developed model is able to reproduce experimental behaviors of Hall mobility.
キーワード (和) 4H-SiC / MOS / 界面準位 / 散乱 / 移動度 / / /  
(英) 4H-SiC / MOS / interface states / scattering / mobility / / /  
文献情報 信学技報, vol. 118, no. 291, SDM2018-71, pp. 35-40, 2018年11月.
資料番号 SDM2018-71 
発行日 2018-11-01 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2018-71 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2018-71

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2018-11-08 - 2018-11-09 
開催地(和) 機械振興会館 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. 
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit simulation, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2018-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 4H-SiC MOS反転層における電子輸送のモデリング 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Modeling of Electron Transport in 4H-SiC MOS Inversion Layers 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 4H-SiC / 4H-SiC  
キーワード(2)(和/英) MOS / MOS  
キーワード(3)(和/英) 界面準位 / interface states  
キーワード(4)(和/英) 散乱 / scattering  
キーワード(5)(和/英) 移動度 / mobility  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 一 / Hajime Tanaka / タナカ ハジメ
第1著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 森 伸也 / Nobuya Mori / モリ ノブヤ
第2著者 所属(和/英) 大阪大学 (略称: 阪大)
Osaka University (略称: Osaka Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2018-11-09 10:20:00 
発表時間 60分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2018-71 
巻番号(vol) vol.118 
号番号(no) no.291 
ページ範囲 pp.35-40 
ページ数
発行日 2018-11-01 (SDM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会