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講演抄録/キーワード
講演名
2018-12-25 11:45
ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス
○
滝下雄太
(
龍谷大
)・
是友大地
・
曲 勇作
・
古田 守
(
高知工科大
)・
松田時宜
・
木村 睦
(
龍谷大
)
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抄録
(和)
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キーワード
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文献情報
信学技報
資料番号
発行日
ISSN
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研究会情報
研究会
EID SDM ITE-IDY
開催期間
2018-12-25 - 2018-12-25
開催地(和)
龍谷大学 響都ホール 校友会館
開催地(英)
テーマ(和)
シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術
テーマ(英)
講演論文情報の詳細
申込み研究会
ITE-IDY
会議コード
2018-12-EID-SDM-IDY
本文の言語
日本語
タイトル(和)
ミストCVD法によるGTO薄膜を用いたデバイス
サブタイトル(和)
タイトル(英)
Device Using Thin Film of GTO by MistCVD Method
サブタイトル(英)
キーワード(1)(和/英)
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キーワード(2)(和/英)
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キーワード(3)(和/英)
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キーワード(4)(和/英)
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キーワード(5)(和/英)
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キーワード(6)(和/英)
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キーワード(7)(和/英)
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キーワード(8)(和/英)
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ)
滝下 雄太
/
Yuta Takishita
/
タキシタ ユウタ
第1著者 所属(和/英)
龍谷大学
(略称:
龍谷大
)
Ryukoku University
(略称:
Ryukoku Univ.
)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ)
是友 大地
/
Daichi Koretomo
/
コレトモ ダイチ
第2著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Kochi University of Technology
(略称:
KUT
)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ)
曲 勇作
/
Yusaku Magari
/
マガリ ユウサク
第3著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Kochi University of Technology
(略称:
KUT
)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ)
古田 守
/
Mamoru Furuta
/
フルタ マモル
第4著者 所属(和/英)
高知工科大学
(略称:
高知工科大
)
Kochi University of Technology
(略称:
KUT
)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ)
松田 時宜
/
Tokiyoshi Matsuda
/
マツダ トキヨシ
第5著者 所属(和/英)
龍谷大学
(略称:
龍谷大
)
Ryukoku University
(略称:
Ryukoku Univ.
)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ)
木村 睦
/
Mutsumi Kimura
/
キムラ ムツミ
第6著者 所属(和/英)
龍谷大学
(略称:
龍谷大
)
Ryukoku University
(略称:
Ryukoku Univ.
)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第7著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第8著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第9著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第10著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第11著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ)
/ /
第12著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第13著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第14著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第15著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第16著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第17著者 所属(和/英)
(略称: )
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第18著者 所属(和/英)
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第19著者 所属(和/英)
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ)
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第20著者 所属(和/英)
(略称: )
(略称: )
講演者
第1著者
発表日時
2018-12-25 11:45:00
発表時間
15分
申込先研究会
ITE-IDY
資料番号
巻番号(vol)
vol.118
号番号(no)
ページ範囲
ページ数
発行日
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