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講演抄録／キーワード
講演名 2018-12-25 14:45
ミストCVD法により作製したGa-Sn-O薄膜熱電変換素子の評価
○荒牧達也・野村竜生・池口　翼・松田時宜（龍谷大）・梅田鉄馬・上沼睦典（奈良先端大）・木村　睦（龍谷大）   エレソ技報アーカイブはこちら
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文献情報 信学技報
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研究会情報
研究会 EID SDM ITE-IDY  
開催期間 2018-12-25 - 2018-12-25 
開催地（和） 龍谷大学 響都ホール 校友会館 
開催地（英）  
テーマ（和） シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術 
テーマ（英）  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 ITE-IDY 
会議コード 2018-12-EID-SDM-IDY 
本文の言語 日本語 
タイトル（和） ミストCVD法により作製したGa-Sn-O薄膜熱電変換素子の評価 
サブタイトル（和）  
タイトル（英） Evaluation of Ga-Sn-O thin film thermoelectric conversion devise made by Mist CVD 
サブタイトル（英）  
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第1著者 氏名（和/英/ヨミ） 荒牧 達也 / Tatsuya Aramaki / アラマキ タツヤ
第1著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第2著者 氏名（和/英/ヨミ） 野村 竜生 / Ryuki Nomura / ノムラ リュウキ
第2著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第3著者 氏名（和/英/ヨミ） 池口 翼 / Yoku Ikeguchi / イケグチ ヨク
第3著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第4著者 氏名（和/英/ヨミ） 松田 時宜 / Tokiyoshi Matsuda / マツダ トキヨシ
第4著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
第5著者 氏名（和/英/ヨミ） 梅田 鉄馬 / Kenta Umeda / ウメダ ケンタ
第5著者 所属（和/英） 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST)
第6著者 氏名（和/英/ヨミ） 上沼 睦典 / Mutsunori Uenuma / ウエヌマ ムツノリ
第6著者 所属（和/英） 奈良先端科学技術大学院大学 (略称： 奈良先端大)
Nara Institute of Science and Technology (略称： NAIST)
第7著者 氏名（和/英/ヨミ） 木村 睦 / Mutsumi Kimura / ムツミ キムラ
第7著者 所属（和/英） 龍谷大学 (略称： 龍谷大)
Ryukoku University (略称： Ryukoku Univ.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2018-12-25 14:45:00 
発表時間 15分 
申込先研究会 ITE-IDY 
資料番号  
巻番号（vol） vol.118 
号番号（no）  
ページ範囲  
ページ数  
発行日  

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