講演抄録/キーワード |
講演名 |
2019-04-18 13:25
室温原子層堆積法を用いたZnO薄膜の特性評価 ○吉田一樹・齋藤健太郎・三浦正範・鹿又健作・廣瀬文彦(山形大) ED2019-2 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2019-2 |
抄録 |
(和) |
酸化亜鉛(ZnO)は低コスト、ワイドバンドギャップ、高い可視光透過性、無毒といった特徴を持つ。このため透明導電膜、UVセンサの材料として研究されており近年ではガスバリア材料としても期待されている。我々はこれまでにジメチル亜鉛(Dimethylzinc: DMZ)とプラズマ励起加湿アルゴンを用いた原子層堆積法によってSi基板上にZnOを室温形成するプロセスを開発した。本論ではDMZ導入量を変化させることで成膜速度の改善を行った。また得られた膜を分光エリプソメトリによって分析しTauc-Lorentzモデルを用いたフィッティングを行った。その結果、波長380nm以下で光吸収係数の立ち上がりを確認しそのバンドギャップは最大で3.28eVであることが分かった。本論では得られた膜の光学特性及びその構造について議論する。 |
(英) |
(Not available yet) |
キーワード |
(和) |
原子層堆積法 / プラズマ励起加湿アルゴン / 酸化亜鉛 / 分光エリプソメトリ / Tauc-Lorentzモデル / / / |
(英) |
atomic layer deposition / plasma excited humidified argon / zinc oxide / ellipsometry / Tauc- Lorentz / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 119, no. 9, ED2019-2, pp. 5-8, 2019年4月. |
資料番号 |
ED2019-2 |
発行日 |
2019-04-11 (ED) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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