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講演抄録/キーワード
講演名 2019-05-17 11:35
マイクロ波表面波プラズマCVDを用いたGrapheneの直接成長とその分析
市村 進名古屋産業振興公社)・Riteshkumar Ratneshkumar VishwakarmaZhu Rucheng梅野正義シーズテクノED2019-25 CPM2019-16 SDM2019-23 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2019-25 CPM2019-16 SDM2019-23
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文献情報 信学技報, vol. 119, no. 35, CPM2019-16, pp. 71-76, 2019年5月.
資料番号 CPM2019-16 
発行日 2019-05-09 (ED, CPM, SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
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研究会情報
研究会 SDM ED CPM  
開催期間 2019-05-16 - 2019-05-17 
開催地(和) 静岡大学(浜松) 
開催地(英) Shizuoka Univ. (Hamamatsu) 
テーマ(和) 機能性デバイス材料・作製・特性評価および関連技術 
テーマ(英) Materials, Fabrication, and Characterization of Functional Devices, and Related Technology 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2019-05-SDM-ED-CPM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) マイクロ波表面波プラズマCVDを用いたGrapheneの直接成長とその分析 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Direct growth of Graphene using microwave surface wave plasma CVD and its analysis 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 市村 進 / Susumu Ichimura / イチムラ ススム
第1著者 所属(和/英) 公益財団法人 名古屋産業振興公社 (略称: 名古屋産業振興公社)
Nagoya Industries Promotion Corporation (略称: Nagoya Industries Promotion Corporation)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) Riteshkumar Ratneshkumar Vishwakarma / Riteshkumar Ratneshkumar Vishwakarma1 / Riteshkumar Ratneshkumar Vishwakarma
第2著者 所属(和/英) シーズテクノ株式会社 (略称: シーズテクノ)
C`s Techno Inc. (略称: C`s Techno Inc.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) Zhu Rucheng / Zhu Rucheng / Zhu Rucheng
第3著者 所属(和/英) シーズテクノ株式会社 (略称: シーズテクノ)
C`s Techno Inc. (略称: C`s Techno Inc.)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅野 正義 / Masayoshi Umeno / ウメノ マサヨシ
第4著者 所属(和/英) シーズテクノ株式会社 (略称: シーズテクノ)
C`s Techno Inc. (略称: C`s Techno Inc.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2019-05-17 11:35:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 ED2019-25, CPM2019-16, SDM2019-23 
巻番号(vol) vol.119 
号番号(no) no.34(ED), no.35(CPM), no.36(SDM) 
ページ範囲 pp.71-76 
ページ数
発行日 2019-05-09 (ED, CPM, SDM) 


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