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講演抄録/キーワード
講演名 2020-02-07 14:20
[招待講演]真空紫外光を用いた印刷・めっきによる配線技術
三成剛生李 万里孫 晴晴李 玲頴物質・材料研究機構)・リュウ シューイン鄭州大)・金原正幸C-INKSDM2019-94 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2019-94
抄録 (和) 高精細なプリンテッドエレクトロニクス技術と、選択的無電解めっき技術を紹介します。 
(英) We propose new metallization methods based on "surface selective deposition" or "selective electroless plating".
キーワード (和) プリンテッドエレクトロニクス / 無電解めっき / 真空紫外光 / 薄膜トランジスタ / / / /  
(英) Printed Electronics / Electroless Plating / Vacuum Ultraviolet / Thin-Film Transistors / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 119, no. 410, SDM2019-94, pp. 27-30, 2020年2月.
資料番号 SDM2019-94 
発行日 2020-01-31 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2019-94 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2019-94

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2020-02-07 - 2020-02-07 
開催地(和) 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室(419号室) 
開催地(英) Tokyo University-Hongo 
テーマ(和) 配線・実装技術と関連材料技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2020-02-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 真空紫外光を用いた印刷・めっきによる配線技術 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Solution-processed interconnections using vacuum ultraviolet 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) プリンテッドエレクトロニクス / Printed Electronics  
キーワード(2)(和/英) 無電解めっき / Electroless Plating  
キーワード(3)(和/英) 真空紫外光 / Vacuum Ultraviolet  
キーワード(4)(和/英) 薄膜トランジスタ / Thin-Film Transistors  
キーワード(5)(和/英) /  
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キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 三成 剛生 / Takeo Minari / ミナリ タケオ
第1著者 所属(和/英) 物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称: NIMS)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 李 万里 / Wanli Li / リー ワンリ
第2著者 所属(和/英) 物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称: NIMS)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 孫 晴晴 / Qingqing Sun / スン チンチン
第3著者 所属(和/英) 物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称: NIMS)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 李 玲頴 / Lingying Li / リ レイエイ
第4著者 所属(和/英) 物質・材料研究機構 (略称: 物質・材料研究機構)
National Institute for Materials Science (略称: NIMS)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) リュウ シューイン / Xuying Liu / リュウ シューイン
第5著者 所属(和/英) 鄭州大学 (略称: 鄭州大)
Zhengzhou University (略称: Zhengzhou Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 金原 正幸 / Masayuki Kanehara /
第6著者 所属(和/英) 株式会社C-INK (略称: C-INK)
C-INK Co., Ltd. (略称: C-INK)
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講演者 第1著者 
発表日時 2020-02-07 14:20:00 
発表時間 35分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2019-94 
巻番号(vol) vol.119 
号番号(no) no.410 
ページ範囲 pp.27-30 
ページ数
発行日 2020-01-31 (SDM) 


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