講演抄録/キーワード |
講演名 |
2020-04-13 14:20
[招待講演]シリコン薄膜の低温結晶化と薄膜トランジスタへの応用 ○浦岡行治(奈良先端大) エレソ技報アーカイブはこちら |
抄録 |
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文献情報 |
信学技報 |
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研究会情報 |
研究会 |
SDM OME |
開催期間 |
2020-04-13 - 2020-04-14 |
開催地(和) |
沖縄県青年会館 |
開催地(英) |
Okinawaken Seinen Kaikan |
テーマ(和) |
薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 |
テーマ(英) |
Thin film devices (Si, compound, organic, flexible), Biotechnology, Materials, Characterization, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2020-04-SDM-OME |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
シリコン薄膜の低温結晶化と薄膜トランジスタへの応用 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Low temperature crystallization of silicon thin film and its application to thin film transistor |
サブタイトル(英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
浦岡 行治 / Yukiharu Uraoka / ウラオカ ユキハル |
第1著者 所属(和/英) |
奈良先端科学技術大学院大学 (略称: 奈良先端大)
Nara Intitute of Science and Technology (略称: NAIST) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2020-04-13 14:20:00 |
発表時間 |
30分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
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巻番号(vol) |
vol. |
号番号(no) |
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ページ範囲 |
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ページ数 |
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発行日 |
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