お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2020-11-20 14:30
[招待講演]絶縁膜原子層エッチングにおける加工特性の定量考察
久保井信行ソニーセミコンダクタソリューションズSDM2020-32 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2020-32
抄録 (和) F系ガスを用いポリマー層が形成される絶縁膜の原子層エッチング(ALE)では必ずしもSelf-limitでないため、半導体製造の実用においては、加工メカニズムの理解と緻密な制御が非常に重要となる。本論文では、著者らがこれまで構築してきた絶縁膜の表面反応モデルに、デポジッションステップ時の残留Fやポリマー層中のFの影響を加味して現実的なALE反応をモデル化し、SiO2膜とSi3N4膜上でのポリマー膜厚の違いのメカニズムおよびサイクル時間の制御、ポリマー層と絶縁膜の界面でのイオンエネルギーの制御、低ダメージ化のためのイオンエネルギー単色化が重要であることを、従来のCWエッチングと対比しつつシミュレーション解析で定量的に初めて示した。また、SAC加工で課題となっているSiO2エッチレート改善の考察を行い、改善条件と限界を示した。 
(英) (Not available yet)
キーワード (和) 絶縁膜 / 原子層エッチング / エッチレート / 選択比 / モデリング / シミュレーション / /  
(英) / / / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 120, no. 239, SDM2020-32, pp. 47-51, 2020年11月.
資料番号 SDM2020-32 
発行日 2020-11-12 (SDM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2020-32 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2020-32

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2020-11-19 - 2020-11-20 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英) Online 
テーマ(和) プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
テーマ(英) Process, Device, Circuit simulation, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2020-11-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 絶縁膜原子層エッチングにおける加工特性の定量考察 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Insights into etching properties of atomic layer etching process for dielectric films 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) 絶縁膜 /  
キーワード(2)(和/英) 原子層エッチング /  
キーワード(3)(和/英) エッチレート /  
キーワード(4)(和/英) 選択比 /  
キーワード(5)(和/英) モデリング /  
キーワード(6)(和/英) シミュレーション /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 久保井 信行 / Nobuyuki Kuboi / クボイ ノブユキ
第1著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第2著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第3著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第4著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2020-11-20 14:30:00 
発表時間 60分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2020-32 
巻番号(vol) vol.120 
号番号(no) no.239 
ページ範囲 pp.47-51 
ページ数
発行日 2020-11-12 (SDM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会