お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2021-11-25 10:55
発光分光によるCuハライド薄膜の欠陥の検討
藤島 睦田中久仁彦渡辺海斗辻本直也長岡技科大ED2021-17 CPM2021-51 LQE2021-29 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2021-17 CPM2021-51 LQE2021-29
抄録 (和) 本研究ではp型半導体であるCuBr1-xIx(CuBrI)薄膜をスピンコート法によりガラス基板上に堆積させ,薄膜作製時に発生するハロゲン抜けの低減を溶液浸透法により試みた.作製したサンプルは,透過スペクトル,Electron probe micro analysis (EPMA),X-ray diffraction (XRD),Photoluminescence (PL)により評価した.透過スペクトルの結果より,透過率は約80%であることがわかった.また,ハロゲンを含む溶液に浸すことで励起子吸収が高エネルギー側にシフトすることがわかった.EPMAの結果より薄膜内の臭素の増加はみられなかったものの,ヨウ素を増加させることができた.XRDの結果から,溶液に浸すことで膜中のヨウ素が増え、部分的にヨウ素過剰なCuBrIとややヨウ素過剰なCuBrIができていることがわかった.また,PLの結果より,溶液に浸すことで励起子発光が強まり,欠陥に由来する発光が弱くなっていることがわかった. 
(英) In this study, CuBr1-xIx (CuBrI) thin films, which are transparent p-type semiconductors, were deposited on glass substrates by spin coating method. The samples were characterized by transmission spectra, Electron probe micro analysis (EPMA), X-ray diffraction (XRD) and Photoluminescence (PL). The transmission spectra showed that the transmittance was about 80%. EPMA results showed that the bromine in the film did not increase but the iodine increased. The PL results show that the exciton luminescence is enhanced by immersion in the solution, while the luminescence originating from defects is weakened.
キーワード (和) p型半導体 / CuBrI / Photoluminescence / 溶液浸透法 / / / /  
(英) p-type semiconductor / CuBrI / Photoluminescence / solution penetration method / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 121, no. 260, CPM2021-51, pp. 13-18, 2021年11月.
資料番号 CPM2021-51 
発行日 2021-11-18 (ED, CPM, LQE) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード ED2021-17 CPM2021-51 LQE2021-29 エレソ技報アーカイブへのリンク:ED2021-17 CPM2021-51 LQE2021-29

研究会情報
研究会 ED CPM LQE  
開催期間 2021-11-25 - 2021-11-26 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英) Online 
テーマ(和) 窒化物半導体光、電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 CPM 
会議コード 2021-11-ED-CPM-LQE 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 発光分光によるCuハライド薄膜の欠陥の検討 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Investigation of defects suppression in Cu halide thin films by emission spectroscopy 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) p型半導体 / p-type semiconductor  
キーワード(2)(和/英) CuBrI / CuBrI  
キーワード(3)(和/英) Photoluminescence / Photoluminescence  
キーワード(4)(和/英) 溶液浸透法 / solution penetration method  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 藤島 睦 / Chikashi Fujishima / フジシマ チカシ
第1著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaoka Univ Tech)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 田中 久仁彦 / Kunihiko Tanaka / タナカ クニヒコ
第2著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaoka Univ Tech)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 渡辺 海斗 / Kaito Watanabe / ワタナベ カイト
第3著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaoka Univ Tech)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 辻本 直也 / Naoya Tujimoto / ツジモト ナオヤ
第4著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学 (略称: 長岡技科大)
Nagaoka University of Technology (略称: Nagaoka Univ Tech)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第5著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第6著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第7著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第8著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第9著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第10著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第11著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2021-11-25 10:55:00 
発表時間 25分 
申込先研究会 CPM 
資料番号 ED2021-17, CPM2021-51, LQE2021-29 
巻番号(vol) vol.121 
号番号(no) no.259(ED), no.260(CPM), no.261(LQE) 
ページ範囲 pp.13-18 
ページ数
発行日 2021-11-18 (ED, CPM, LQE) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会