講演抄録/キーワード |
講演名 |
2023-01-30 14:55
[招待講演]RonAと逆導通信頼性のトレードオフ改善を実現する、SiC-MOSFETにおける効果的なSBD内蔵構造 ○朝羽俊介・古川 大・楠本雄司(東芝デバイス&ストレージ)・飯島良介(東芝)・河野洋志(東芝デバイス&ストレージ) SDM2022-82 |
抄録 |
(和) |
逆導通動作時のバイポーラ電流によって特性劣化するSiC-MOSFETの信頼性課題は、Schottky Barrier Diode (SBD)を内蔵したデバイス構造によって抑制可能である。SBD内蔵MOSFETのデバイス構造に起因した、特性オン抵抗(RonA)と逆導通信頼性の強いトレードオフを改善するために、内蔵SBDを市松模様に配置するデバイス構造を検討した。コンタクト構造を中心とした構造の見直しの結果、高チャネル密度によるRonAの低減と、効果的なSBD配置によるバイポーラ電流の抑制効果向上を同時に実現し、トレードオフの改善に成功した。 |
(英) |
Degradation in performance due to the bipolar current through parasitic diode during reverse operation of SiC-MOSFET can be suppressed by the device structure with embedded Schottky Barrie Diode (SBD). The new device structure with check-pattern embedded SBDs was developed to improve both specific on-resistance (RonA) and reliability. The channel density is increased by the effective design and that contributed to low RonA. Simultaneously, uniformly distributed SBDs limited the harmful bipolar conduction better. Improving in the trade-off relation of RonA and reliability in reverse conduction was demonstrated. |
キーワード |
(和) |
SiC / MOSFET / デバイス構造 / SBD内蔵 / / / / |
(英) |
SiC / MOSFET / device structure / embedded-SBD / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 122, no. 375, SDM2022-82, pp. 13-16, 2023年1月. |
資料番号 |
SDM2022-82 |
発行日 |
2023-01-23 (SDM) |
ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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