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講演抄録/キーワード
講演名 2023-01-30 14:55
[招待講演]RonAと逆導通信頼性のトレードオフ改善を実現する、SiC-MOSFETにおける効果的なSBD内蔵構造
朝羽俊介古川 大楠本雄司東芝デバイス&ストレージ)・飯島良介東芝)・河野洋志東芝デバイス&ストレージSDM2022-82
抄録 (和) 逆導通動作時のバイポーラ電流によって特性劣化するSiC-MOSFETの信頼性課題は、Schottky Barrier Diode (SBD)を内蔵したデバイス構造によって抑制可能である。SBD内蔵MOSFETのデバイス構造に起因した、特性オン抵抗(RonA)と逆導通信頼性の強いトレードオフを改善するために、内蔵SBDを市松模様に配置するデバイス構造を検討した。コンタクト構造を中心とした構造の見直しの結果、高チャネル密度によるRonAの低減と、効果的なSBD配置によるバイポーラ電流の抑制効果向上を同時に実現し、トレードオフの改善に成功した。 
(英) Degradation in performance due to the bipolar current through parasitic diode during reverse operation of SiC-MOSFET can be suppressed by the device structure with embedded Schottky Barrie Diode (SBD). The new device structure with check-pattern embedded SBDs was developed to improve both specific on-resistance (RonA) and reliability. The channel density is increased by the effective design and that contributed to low RonA. Simultaneously, uniformly distributed SBDs limited the harmful bipolar conduction better. Improving in the trade-off relation of RonA and reliability in reverse conduction was demonstrated.
キーワード (和) SiC / MOSFET / デバイス構造 / SBD内蔵 / / / /  
(英) SiC / MOSFET / device structure / embedded-SBD / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 122, no. 375, SDM2022-82, pp. 13-16, 2023年1月.
資料番号 SDM2022-82 
発行日 2023-01-23 (SDM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2022-82

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2023-01-30 - 2023-01-30 
開催地(和) 機械振興会館(B3-1) 
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. B3-1 
テーマ(和) 先端CMOSデバイス・ プロセス技術(IEDM特集) 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2023-01-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) RonAと逆導通信頼性のトレードオフ改善を実現する、SiC-MOSFETにおける効果的なSBD内蔵構造 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Design guidlines for SBD integration into SiC-MOSFET breaking RonA- diode conduction capability trade-off 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) SiC / SiC  
キーワード(2)(和/英) MOSFET / MOSFET  
キーワード(3)(和/英) デバイス構造 / device structure  
キーワード(4)(和/英) SBD内蔵 / embedded-SBD  
キーワード(5)(和/英) /  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 朝羽 俊介 / Shunsuke Asaba / アサバ シュンスケ
第1著者 所属(和/英) 東芝デバイス&ストレージ (略称: 東芝デバイス&ストレージ)
Toshiba Electronic Devices & Storage (略称: Toshiba D&S)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 古川 大 / Masaru Furukawa / フルカワ マサル
第2著者 所属(和/英) 東芝デバイス&ストレージ (略称: 東芝デバイス&ストレージ)
Toshiba Electronic Devices & Storage (略称: Toshiba D&S)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 楠本 雄司 / Yuji Kusumoto / クスモト ユウジ
第3著者 所属(和/英) 東芝デバイス&ストレージ (略称: 東芝デバイス&ストレージ)
Toshiba Electronic Devices & Storage (略称: Toshiba D&S)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 飯島 良介 / Ryosuke Iijima / イイジマ リョウスケ
第4著者 所属(和/英) 東芝 (略称: 東芝)
Toshiba (略称: Toshiba)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 河野 洋志 / Hiroshi Kono / コウノ ヒロシ
第5著者 所属(和/英) 東芝デバイス&ストレージ (略称: 東芝デバイス&ストレージ)
Toshiba Electronic Devices & Storage (略称: Toshiba D&S)
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講演者 第1著者 
発表日時 2023-01-30 14:55:00 
発表時間 30分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2022-82 
巻番号(vol) vol.122 
号番号(no) no.375 
ページ範囲 pp.13-16 
ページ数
発行日 2023-01-23 (SDM) 


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