講演抄録/キーワード |
講演名 |
2023-10-27 11:50
低温成膜されたZrO2膜の特性評価 ○武山真弓・佐藤 勝(北見工大) MRIS2023-19 CPM2023-53 OME2023-40 |
抄録 |
(和) |
(まだ登録されていません) |
(英) |
(Not available yet) |
キーワード |
(和) |
/ / / / / / / |
(英) |
/ / / / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 123, no. 230, CPM2023-53, pp. 40-41, 2023年10月. |
資料番号 |
CPM2023-53 |
発行日 |
2023-10-19 (MRIS, CPM, OME) |
ISSN |
Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
MRIS2023-19 CPM2023-53 OME2023-40 |
研究会情報 |
研究会 |
MRIS CPM ITE-MMS OME |
開催期間 |
2023-10-26 - 2023-10-27 |
開催地(和) |
新潟大学(駅南キャンパスときめいと) |
開催地(英) |
Niigata Univ. Ekiminami Campus |
テーマ(和) |
スピントロニクス・固体メモリ・機能性材料・薄膜プロセス・材料・デバイス+一般 |
テーマ(英) |
Spintronics, Solid State Memory, Functional material, Thin film process, Material, Devices, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
CPM |
会議コード |
2023-10-MRIS-CPM-MMS-OME |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
低温成膜されたZrO2膜の特性評価 |
サブタイトル(和) |
|
タイトル(英) |
Evaluation of characterization of ZrO2 film deposited by low-temperature process |
サブタイトル(英) |
|
キーワード(1)(和/英) |
/ |
キーワード(2)(和/英) |
/ |
キーワード(3)(和/英) |
/ |
キーワード(4)(和/英) |
/ |
キーワード(5)(和/英) |
/ |
キーワード(6)(和/英) |
/ |
キーワード(7)(和/英) |
/ |
キーワード(8)(和/英) |
/ |
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama / タケヤマ マユミ |
第1著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Technol.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
佐藤 勝 / Masaru Sato / サトウ マサル |
第2著者 所属(和/英) |
北見工業大学 (略称: 北見工大)
Kitami Institute of Technology (略称: Kitami Inst. Technol.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第3著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第4著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第5著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第6著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第7著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第8著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第9著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第10著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第11著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第12著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第13著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第14著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第15著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第16著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第17著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第18著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第19著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第20著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第21著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第21著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第22著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第22著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第23著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第23著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第24著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第24著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第25著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第25著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第26著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第26著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第27著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第27著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第28著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第28著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第29著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第29著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第30著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第30著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第31著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第31著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第32著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第32著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第33著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第33著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第34著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第34著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第35著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第35著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第36著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第36著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2023-10-27 11:50:00 |
発表時間 |
25分 |
申込先研究会 |
CPM |
資料番号 |
MRIS2023-19, CPM2023-53, OME2023-40 |
巻番号(vol) |
vol.123 |
号番号(no) |
no.229(MRIS), no.230(CPM), no.231(OME) |
ページ範囲 |
pp.40-41 |
ページ数 |
2 |
発行日 |
2023-10-19 (MRIS, CPM, OME) |
|