10月27日(金) 午後 13:30 - 16:10 |
(1) |
13:30-13:50 |
化学気相堆積した窒化ホウ素炭素膜の形成条件の検討 |
○小坂舞人・浦上法之・橋本佳男(信州大) |
(2) |
13:50-14:10 |
SiC溶液法における坩堝からの炭素の溶解現象と結晶品質の関係 ~ 炭素溶解速度と炭素溶解度 ~ |
○高橋 大・玄 光龍・土本直道・鈴木皓己・沓掛穂高・太子敏則(信州大) |
(3) |
14:10-14:30 |
sol-gel法によるMgSnO薄膜作製に関する研究 |
○小柳津和成・高野 泰(静岡大) |
(4) |
14:30-14:50 |
シリコンの発光増強を目的としたデバイス構造の検討 |
○杉下佑磨・犬飼圭祐・五島敬史郎(愛知工大) |
|
14:50-15:10 |
休憩 ( 20分 ) |
(5) |
15:10-15:30 |
Cu2ZnSnS4光吸収層およびII-VI系バッファ層の界面制御 |
○蓮池玲美・ミョー タンテイ(信州大)・百瀬成空(長野高専)・伊東謙太郎・橋本佳男(信州大) |
(6) |
15:30-15:50 |
Cu2ZnSnS4化合物薄膜太陽電池の開発 ~ プリカーサおよび基板の最適化 ~ |
○長田孝幸・ミョー タンテイ(信州大)・百瀬成空(長野高専)・伊東謙太郎・橋本佳男(信州大) |
(7) |
15:50-16:10 |
薄膜太陽電池用Cu2(Sn1-xGex)S3光吸収層の作製 |
○小林 純・ミョー タンテイ(信州大)・百瀬成空(長野高専)・伊東謙太郎・橋本佳男(信州大) |
10月28日(土) 午前 09:50 - 11:45 |
(8) |
09:50-10:10 |
メッシュグラフェンの合成及び前処理膜としての検討 |
○中西 誠・姜 天水・稲田剛基・村松寛之・林 卓哉(信州大) |
(9) |
10:10-10:30 |
LT系固溶体セラミックスの特性 |
○八木綾仁・番場教子(信州大) |
|
10:30-10:45 |
休憩 ( 15分 ) |
(10) |
10:45-11:05 |
単結晶アシスト及び2段階焼成によるニオブ酸リチウムセラミックスの作製 |
高宮 開・横山裕紀・小笠原 孝・高須敬士・○番場教子(信州大) |
(11) |
11:05-11:25 |
有機金属分解法を用いたビスマス高置換ネオジム鉄ガリウムガーネットの形成 |
○倉橋秀之・佐々木孝介・後藤太一・高木宏幸・中村雄一・林 攀梅・内田裕久・井上光輝(豊橋技科大) |
(12) |
11:25-11:45 |
磁気光学イメージングのための磁気光学材料およびイメージング装置の作製に関する研究 |
○西本光佑・橋本良介(鈴鹿高専)・高木宏幸・後藤太一・中村雄一・リム パンボイ・内田裕久・井上光輝(豊橋技科大) |