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シリコン材料・デバイス研究会(SDM) [schedule] [select]
専門委員長 渡辺 重佳 (湘南工科大)
副委員長 杉井 寿博 (富士通マイクロエレクトロニクス)
幹事 川中 繁 (東芝), 安斎 久浩 (ソニー)
幹事補佐 大見 俊一郎 (東工大)

電子デバイス研究会(ED) [schedule] [select]
専門委員長 葛原 正明 (福井大)
副委員長 橋詰 保 (北大)
幹事 村田 浩一 (NTT)
幹事補佐 原 直紀 (富士通研), 津田 邦男 (東芝)

電子部品・材料研究会(CPM) [schedule] [select]
専門委員長 上村 喜一 (信州大)
副委員長 安井 寛治 (長岡技科大)
幹事 清水 英彦 (新潟大), 大庭 直樹 (NTT)
幹事補佐 竹村 泰司 (横浜国大), 今井 欽之 (NTT)

日時 2009年 5月14日(木) 13:30 - 17:05
2009年 5月15日(金) 09:00 - 14:40
議題 結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料) 
会場名 豊橋技術科学大学 サテライトオフィス(テクノスU) 
住所 豊橋市松葉町2-10
交通案内 豊橋駅より徒歩約5分
https://www.ieice.org/~ed/jpn/access%20tecknos-U.pdf
会場世話人
連絡先
豊橋技術科学大学 電気・電子工学系 若原昭浩
お知らせ ◎5月14日研究会終了後、懇親会を予定していますのでご参加ください。

5月14日(木) 午後 
13:30 - 17:05
(1) 13:30-13:55 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価 ○以西雅章・倉地雄史・山田典史・武内俊憲・宝珍敬志(静岡大)
(2) 13:55-14:20 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の評価 ○山田典史・宝珍敬志・以西雅章(静岡大)
(3) 14:20-14:45 RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn2O4薄膜生成における石英円筒の効果 ○細川貴之・関川智士・以西雅章(静岡大)
(4) 14:45-15:10 Ga2O3薄膜の作製と酸素センサ特性の評価 ○茅野真也・堀内郁志・以西雅章(静岡大)
  15:10-15:25 休憩 ( 15分 )
(5) 15:25-15:50 RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜の生成と光触媒特性 ○伊藤達也・遠藤立弥・以西雅章(静岡大)・境 哲也・星 陽一(東京工芸大)
(6) 15:50-16:15 A proposal for Highly Transparent Chalcogenide Alloys for Thin-Film-Solar-Cell Applications ○Asraf M. Abdel Haleem・Masaya Ichimura(Nagoya Inst. of Tech.)
(7) 16:15-16:40 第一原理計算によるCu2ZnSnS4(CZTS)の結晶構造と電子構造の解析 ○中島佑基・市村正也(名工大)
(8) 16:40-17:05 Deposition of Microcrystalline SiGe by Magnetron Sputtering on SiO2 Substrates ○Akihiko Hiroe・Tetsuya Goto・Akinobu Teramoto・Tadahiro Ohmi(Tohoku Univ.)
5月15日(金) 午前 
09:00 - 11:45
(9) 09:00-09:25 Growth of Homogeneous InGaSb Ternary Bulk Crystal and the Observation of Composition Profile in the Solution by X-Ray Penetration Method ○Govindasamy Rajesh・Hisashi Morii・Toru Aoki・Tadanobu Koyama・Yoshimi Momose・Akira Tanaka(Shizuoka Univ.)・Tetsuo Ozawa(Shizuoka Inst. of Science and Tech.)・Yuko Inatomi(JAXA)・Yasuhiro Hayakawa(Shizuoka Univ.)
(10) 09:25-09:50 Si基板上化合物半導体ナノワイヤのMBE-VLS成長 ○山口雅史・白 知鉉・市橋弘英・堀内 功(名大)・澤木宣彦(愛知工大)
(11) 09:50-10:15 Selective epitaxy growth mechanism of GaAs on circularly patterned GaAs (100) substrates by LPE and CCLP ○Mouleeswaran Deivasigamani.・Tadanobu Koyama・Yasuhiro Hayakawa(Shizuoka Univ.)
  10:15-10:30 休憩 ( 15分 )
(12) 10:30-10:55 MOVPE法によるSi基板上GaPの高温成長 ○高木達也・岡本拓也・福家俊郎・高野 泰(静岡大)
(13) 10:55-11:20 p-GaPNの発光機構と変調ドープGaAsN/GaPN高歪量子井戸への応用 ○光吉三郎・梅野和行・浦上法之・岡田 浩・古川雄三・若原昭浩(豊橋技科大)
(14) 11:20-11:45 自己形成InGaAsN/GaPN量子ドットの成長と発光特性 ○浦上法之・野間亮佑・梅野和行・光吉三郎・岡田 浩・古川雄三・若原昭浩(豊橋技科大)
5月15日(金) 午後 
13:00 - 14:40
(15) 13:00-13:25 AlN/sapphire上のAlGaNのMOVPE成長と電子線励起による深紫外発光 ○武富浩幸・三宅秀人・平松和政(三重大)・福世文嗣・岡田知幸・高岡秀嗣・吉田治正(浜松ホトニクス)
(16) 13:25-13:50 MOVPE法によるr面サファイア上へのa面GaN成長 ○馬 ベイ・宮川鈴衣奈・胡 衛国・三宅秀人・平松和政(三重大)
(17) 13:50-14:15 AlGaN/GaN HEMTの動作安定性評価 ○田島正文・橋詰 保(北大)
(18) 14:15-14:40 GaNの電気化学酸化による表面制御 ○原田脩央・塩崎奈々子・橋詰 保(北大)

問合先と今後の予定
SDM シリコン材料・デバイス研究会(SDM)   [今後の予定はこちら]
問合先 川中繁 (東芝)
TEL 045-776-5670, FAX 045-776-4104
E--mail geba 
ED 電子デバイス研究会(ED)   [今後の予定はこちら]
問合先 村田 浩一(NTT)
TEL:046-240-2871、FAX:046-270-2872
E--mailaecl
原 直紀 (富士通研究所)
TEL : 046-250-8242、FAX : 046-250-8168
E--mail : o
津田 邦男(東芝)
TEL : 044-549-2142、FAX : 044-520-1501
E--mail : oba 
CPM 電子部品・材料研究会(CPM)   [今後の予定はこちら]
問合先 清水英彦(新潟大学)
TEL 025-262-6811, FAX 025-262-6811
E--mail: engi-u

竹村 泰司(横浜国立大学)
TEL 045-339-4151, FAX 045-339-4151
E--mail: y 


Last modified: 2009-09-07 15:48:15


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