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★シリコン材料・デバイス研究会（SDM）
専門委員長　大見俊一郎 (東工大)　　副委員長　宇佐美達矢 (日本エーエスエム)
幹事　諏訪智之 (東北大)，野田泰史 (パナソニック)
幹事補佐　細井卓治 (関西学院大)，二瀬卓也 (サンディスク)

★有機エレクトロニクス研究会（OME）
専門委員長　山田俊樹 (NICT)　　副委員長　伊東栄次 (信州大学)
幹事　梶井博武 (阪大)，嘉治寿彦 (東京農工大)
幹事補佐　清家善之 (愛知工大)，馬場暁 (新潟大学)

日時　2023年 4月21日(金)　13：40～16：45
　　　2023年 4月22日(土)　09：40～16：35

会場沖縄県青年会館（〒900-0033 沖縄県那覇市久米2-15-23．モノレール旭橋駅下車徒歩5分．http://www.okiseikan.or.jp/．会場担当佐道泰造（九州大）．098-864-1780（会場））

議題薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般

4月21日(金) 午後（13：40～16：45）

(1) 13:40 - 14:15
［招待講演］細胞の分子認識サイトの分子分解能での可視化
○林　智広・田原寛之（東工大）

(2) 14:15 - 14:50
［招待講演］酸化モリブデンとマグネシウムの反応により生成した酸化マグネシウムを陰極中間層用材料として用いる有機薄膜太陽電池の開発
○景山　弘（琉球大）

(3) 14:50 - 15:15
過渡インピーダンス測定による有機薄膜太陽電池の光電変換過程
○酒井正俊・益子朋晃・高野晃希・戒能　智・黒政　颯・藤井伸太郎・大森達也・工藤一浩・三野弘文（千葉大）

−−−　休憩　（ 15分）　−−−

(4) 15:30 - 15:55
励起子ポラリトンレージング用BODIPY色素を用いた強結合デバイスの光物理
○角谷聡太（東大）・田中菜月・石田真敏・杉浦健一（都立大）・古田弘幸（立命館大）・岡部浩隆・松田直樹（産総研）・神野莉衣奈・深津　晋（東大）

(5) 15:55 - 16:20
摩擦発電用P（VDF-TrFE)スピンコート膜の分極条件の検討
○呉　沁洋・田口　大・間中孝彰（東工大）

(6) 16:20 - 16:45
分散剤フリー金ナノ粒子の応用
○松田直樹・岡部浩隆（産総研）

4月22日(土) 午前（09：40～11：45）

(7) 09:40 - 10:05
絶縁膜上におけるSn添加Ge薄膜の固相成長とTFT応用
古賀泰志郎・永野貴弥・茂藤健太・山本圭介・○佐道泰造（九大）

(8) 10:05 - 10:30
Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化
○岡田竜弥・チャリットジャヤナダコスワッタゲー（琉球大）・梶原隆司・佐道泰造（九大）・野口　隆（琉球大）

(9) 10:30 - 10:55
スパッタ堆積InSb薄膜/ガラス基板の急速熱処理法による結晶成長
○梶原隆司（九大）・岡田竜弥・チャリットジャヤナダコスワッタゲー・野口　隆（琉球大）・佐道泰造（九大）

(10) 10:55 - 11:20
多結晶酸化インジウムによる高移動度薄膜トランジスタ
○古田　守・Xiaoqian Wang（高知工科大）

(11) 11:20 - 11:45
Optimal Tantalum Nitride Composition Investigation for Source/Drain Electrodes in c-Axis Aligned Crystalline In-Ga-Zn Oxide FET
○Jesper Berglund Eklind（UU）・Shun Ohta・Rena Wakasa・Satoru Saito・Naoki Okuno・Kenta Takatsu・Yuichi Sato・Tomoya Takeshita・Hiroki Komagata・Yumiko Noda・Toshihiko Takeuchi・Tatsuya Onuki・Hitoshi Kunitake・Shunpei Yamazaki（SEL）

4月22日(土) 午後（13：00～16：35）

(12) 13:00 - 13:35
［招待講演］高効率・長寿命結晶シリコン太陽電池の研究動向
○増田　淳（新潟大）

(13) 13:35 - 14:10
［招待講演］エキシマレーザアニールによるSi薄膜の結晶化技術～温故知新になる事を期待して～
○栗山博之（高砂熱学）

(14) 14:10 - 14:45
［招待講演］ディスプレイ基板としてのPIフィルムの応用技術
○奧山哲雄（東洋紡）

−−−　休憩　（ 15分）　−−−

(15) 15:00 - 15:35
［招待講演］絶縁基板上における非晶質Ge薄膜の金属誘起横方向成長
○角田　功・高倉健一郎（熊本高専）

(16) 15:35 - 16:10
［招待講演］ガラス基板上のダブルゲート薄膜トランジスタ
○原　明人・野村海成・永吉輝央・新田誠英・鈴木　翔・伊藤悠人（東北学院大）

(17) 16:10 - 16:35
プラズマプロセス中のウェハ温度の非接触測定に向けた計測システムの開発
○後藤隆之介・堀内憲志郎・Jiawen Yu・花房宏明・東　清一郎（広島大）

一般講演：発表 15 分＋質疑応答 10 分
招待講演：発表 25 分＋質疑応答 10 分

☆SDM研究会今後の予定　[ ]内発表申込締切日

5月19日(金)　名古屋工大　[3月13日(月)]　テーマ：機能性デバイス材料・作製・特性評価および関連技術
6月26日(月)　広島大学ナノデバイス研究所　[4月18日(火)]　テーマ：MOSデバイス・メモリ・パワーデバイス高性能化－材料・プロセス技術（応用物理学会シリコンテクノロジー分科会との合同開催）

【問合先】
※各研究会幹事もしくは担当者の連絡先を記載してください。

☆OME研究会今後の予定　[ ]内発表申込締切日

5月26日(金)～27日(土)　東京工業大学大岡山キャンパス西9号館コラボレーションルーム　[5月2日(火)]　テーマ：有機エレクトロニクスデバイス・材料に関する研究討論会
7月7日(金)～8日(土)　尾鷲市立中央公民館　[5月12日(金)]　テーマ：バイオテクノロジー，医工学，界面
7月28日(金)　新潟大学駅南キャンパスときめいと　[5月29日(月)]　テーマ：有機薄膜，有機・バイオデバイス，一般

【問合先】
山田俊樹（NICT)
E-mail: