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★電子デバイス研究会(ED)
専門委員長 前澤 宏一 (富山大)  副委員長 津田 邦男 (東芝)
幹事 松永 高治 (NEC), 鈴木 寿一 (北陸先端大)
幹事補佐 新井 学 (新日本無線), 東脇 正高 (NICT)

★電子部品・材料研究会(CPM)
専門委員長 野毛 悟 (沼津高専)  副委員長 廣瀬 文彦 (山形大)
幹事 小舘 淳一 (NTT), 岩田 展幸 (日大)
幹事補佐 坂本 尊 (NTT), 中村 雄一 (豊橋技科大)

★レーザ・量子エレクトロニクス研究会(LQE)
専門委員長 小路 元 (住友電工)  副委員長 野田 進 (京大)
幹事 梅沢 俊匡 (NICT), 藤原 直樹 (NTT)

日時 2015年11月26日(木) 10:30~17:20
   2015年11月27日(金) 10:00~16:15

会場 大阪市立大学・学術情報センター会議室(https://www.media.osaka-cu.ac.jp)

議題 窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般

11月26日(木) 午前 (10:30~12:10)
座長: 橋本玲 (東芝セミコンダクタ―)

(1) 10:30 - 10:55
RF窒素プラズマを用いた表面窒化によるα-(AlGa)2O3上AlGaN形成に関する検討
○荒木 努・武馬 輝・増田 直・名西やす之(立命館大)・織田真也・人羅俊実(FLOSFIA)

(2) 10:55 - 11:20
微傾斜角度の異なるc面サファイア基板上へのAlN成長とN2-COアニール
○鈴木周平・林 家弘・三宅秀人・平松和政(三重大)・福山博之(東北大)

(3) 11:20 - 11:45
AlN/Sapphire基板を用いたRF加熱式HVPEによるAlN成長
○安井大貴・三宅秀人・平松和政(三重大)・岩谷素顕・赤崎 勇(名城大)・天野 浩(名大)

(4) 11:45 - 12:10
酸性アモノサーマル法合成GaN種結晶上にハイドライド気相エピタキシャル成長させたm面自立GaN基板の電気的・光学的特性
○小島一信(東北大)・塚田悠介(三菱化学)・古川えりか・斉藤 真(東北大)・三川 豊・久保秀一・池田宏隆・藤戸健史(三菱化学)・上殿明良(筑波大)・秩父重英(東北大)

−−− 休憩 ( 60分 ) −−−

11月26日(木) 午後 (13:10~14:50)
座長: 鈴木寿一 (北陸先端大)

(5) 13:10 - 13:35
ホール効果測定による低濃度Mgドープp型GaNの正孔キャリア密度および移動度の解析
○堀田昌宏(京大)・高島信也・田中 亮・松山秀昭・上野勝典・江戸雅晴(富士電機)・須田 淳(京大)

(6) 13:35 - 14:00
ホール効果測定によるホモエピタキシャル成長低Siドープn型GaNの電気的特性評価
○澤田直暉(京大)・成田哲生・加地 徹・上杉 勉(豊田中研)・堀田昌宏・須田 淳(京大)

(7) 14:00 - 14:25
ホモエピタキシャル成長n型GaNショットキーバリアダイオードの光電流の波長依存性
○前田拓也(京大)・岡田政也・山本喜之・上野昌紀(住友電工)・堀田昌宏・須田 淳(京大)

(8) 14:25 - 14:50
1.6kV大電流GaNトレンチ型ハイブリッドジャンクションダイオードの開発
○梶谷 亮・半田浩之・宇治田信二・柴田大輔・小川雅弘・田中健一郎・石田秀俊・田村聡之・石田昌宏・上田哲三(パナソニック)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

11月26日(木) 午後 (15:05~16:20)
座長: 藤原直樹 (NTT)

(9) 15:05 - 15:30
[招待講演]AlNテンプレート上Si添加高AlNモル分率AlxGa1-xN多重量子井戸の時間空間分解陰極線蛍光分光評価
○秩父重英(東北大)・三宅秀人・平松和政(三重大)

(10) 15:30 - 15:55
光音響・発光同時計測法及び時間分解発光計測によるGaNの輻射・非輻射再結合寿命の測定
○河上航平・中納 隆・山口敦史(金沢工大)

(11) 15:55 - 16:20
光音響・発光同時計測法を用いたGaNの内部量子効率の測定
○中納 隆・河上航平・山口敦史(金沢工大)

−−− 休憩 ( 10分 ) −−−

11月26日(木) 午後 (16:30~17:20)
座長: 梅沢俊匡 (NICT)

(12) 16:30 - 16:55
多波長励起発光分離法を用いたInGaN薄膜のラマン散乱分光
○石戸亮祐・石井良太・船戸 充・川上養一(京大)

(13) 16:55 - 17:20
アルミニウムを用いたプラズモニクスの発光増強応用
○岡本晃一・立石和隆・川元 駿・西田知句・玉田 薫(九大)・船戸 充・川上養一(京大)

11月27日(金) 午前 (10:00~12:05)
座長: 重川直輝 (大阪市大)

(14) 10:00 - 10:25
伝導型の違いからみたGaN中プラズマ照射誘起欠陥の挙動解明
○古賀祐介・中村成志・奥村次徳(首都大東京)

(15) 10:25 - 10:50
Temperature-controlled atomic layer deposition of GaN using plasma-excited nitrogen source
○P.Pungboon Pansila・Kensaku Kanomata・Bashir Ahammad・Shigeru Kubota・Fumihiko Hirose(Yamagata Univ)

(16) 10:50 - 11:15
Interface analysis of Ti/Al-based ohmic contact on AlGaN/GaN structure grown on GaN substrate
○Dariush H. Zadeh・Tanabe Shinichi・Watanabe Noriyuki・Matsuzaki Hideaki(NTT)

(17) 11:15 - 11:40
ALDにより成膜したHfO2を用いたAlGaN/GaN MIS-HEMTの界面準位とデバイス特性
○西野剛介・久保俊晴・江川孝志(名工大)

(18) 11:40 - 12:05
Si基板上AlGaN/GaN HEMT構造における縦方向リーク電流の初期AlN層依存性
○山岡優哉(大陽日酸)・伊藤和宏(名工大)・生方映徳・田渕俊也・松本 功(大陽日酸)・江川孝志(名工大)

−−− 休憩 ( 60分 ) −−−

11月27日(金) 午後 (13:05~14:20)
座長: 川口真生 (パナソニック)

(19) 13:05 - 13:30
GaN系THz-QCLの最近の進展
○寺嶋 亘・平山秀樹(理研)

(20) 13:30 - 13:55
無極性a面AlGaN/AlNの高温成長と深紫外発光特性
○定 昌史・平山秀樹(理研)

(21) 13:55 - 14:20
m面サファイア上AlGaN/AlNの結晶成長と光学特性
○大島一晟(埼玉大/理研)・定 昌史・前田哲利(理研)・鎌田憲彦(埼玉大)・平山秀樹(理研)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

11月27日(金) 午後 (14:35~16:15)
座長: 津田邦男 (東芝)

(22) 14:35 - 15:00
表面保護膜形成によるInGaN系太陽電池の特性改善
○加畑智基・堤 達哉・三好実人・江川孝志(名工大)

(23) 15:00 - 15:25
スマートスタック技術による多接合太陽電池の接合界面評価
○野中翔一郎・古川昭雄(東京理科大)・牧田紀久夫・水野英範・菅谷武芳・仁木 栄(産総研)

(24) 15:25 - 15:50
GaAs/GaAs接合の電気特性に対するアニール効果
○柴 麗・梁 剣波・重川直輝(阪市大)

(25) 15:50 - 16:15
表面活性化ボンディング法に依るSi/SiC接合の電気特性
○林 朋宏・梁 剣波(阪市大)・新井 学(新日本無線)・重川直輝(阪市大)

一般講演:発表 20 分 + 質疑応答 5 分


☆ED研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

12月21日(月)~22日(火) 東北大通研ナノ・スピン棟 [10月19日(月)] テーマ:ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム
2016年1月20日(水) 機械振興会館 [11月17日(火)] テーマ:パワーデバイスおよび超高周波デバイス/マイクロ波一般

☆CPM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

12月1日(火)~3日(木) 長崎県勤労福祉会館 [9月20日(日)] テーマ:デザインガイア2015 -VLSI設計の新しい大地-

☆LQE研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

12月18日(金) 機械振興会館 [10月17日(土)] テーマ:半導体レーザー関連技術および一般
2016年1月28日(木)~29日(金) 神戸市産業振興センター [11月12日(木)] テーマ:フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバーとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、マイクロ波・ミリ波フォトニクス、及び一般

【問合先】
梅沢 俊匡(情報通信研究機構)
TEL 042-327-7528, FAX 042-327-7938
E-mail: _u

藤原 直樹(日本電信電話株式会社)
TEL 046-240-3266, FAX 046-240-4345
E-mail: o

◎LQE研究会ホームページ http://www.ieice.org/~lqe/jpn/
◎LQE研究会では 平成18年度より「LQE奨励賞」を設けました。対象は発表年度の4月1日時点で32歳以下の若手研究者(学生を含む)です。積極的にご投稿下さい。


Last modified: 2015-11-26 10:59:55


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