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★シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
専門委員長 浅野 種正 (九大)  副委員長 杉井 寿博 (富士通)
幹事 川中 繁 (東芝), 安斎 久浩 (ソニー)
幹事補佐 大見 俊一郎 (東工大)

日時 2007年10月 4日(木) 13:00~17:20
   2007年10月 5日(金) 09:30~16:40

会場 東北大学 未来科学技術共同研究センター(980-8579 仙台市青葉区荒巻字青葉6-6-10.仙台駅バスプール9番より、「工学部経由動物公園循環」、「宮教大」もしくは「青葉台」行きに乗ってください。最寄のバス停は、「情報科学研究科前」です。http://www.fff.niche.tohoku.ac.jp/ja/index.php?%5B%5BMap%5D%5D.未来科学技術共同研究センター 寺本章伸.022-795-3977)

議題 プロセス科学と新プロセス技術

10月4日(木) 午後 (13:00~17:20)

(1) 13:00 - 13:25
プラズマディスプレイ用MgO保護膜の構造破壊ダイナミクスと理論設計
○久保百司・芹澤和実・菊地宏美・鈴木 愛・Riadh Sahnoun・古山通久・坪井秀行・畠山 望・遠藤 明・高羽洋充・Carlos A. Del Carpio(東北大)・梶山博司・篠田 傅(広島大)・宮本 明(東北大)

(2) 13:25 - 13:50
分子動力学法によるMgOの力学的特性の予測
○大沼宏彰・芹澤和実・鈴木 愛・Riadh Sahnoun・古山通久・坪井秀行・畠山 望・遠藤 明・高羽洋充・久保百司・Carlos A. Del Carpio(東北大)・梶山博司・篠田 傅(広島大)・宮本 明(東北大)

(3) 13:50 - 14:15
計算化学によるプラズマディスプレイ用MgO保護膜の電子放出特性の評価
○芹澤和実・大沼宏彰・菊地宏美・鈴木 愛・Riadh Sahnoun・古山通久・坪井秀行・畠山 望・遠藤 明・高羽洋充・久保百司・Carlos A. Del Carpio(東北大)・梶山博司・篠田 傳(広島大)・宮本 明(東北大)

(4) 14:15 - 14:40
新規計算化学手法を用いたDLCの摩擦特性解析
○森田祐輔・敖敦其木格・鈴木 愛・Riadh Sahnoun・古山通久・坪井秀行・畠山 望・遠藤 明・高羽洋充・久保百司・Carlos A. Del Carpio・宮本 明(東北大)

(5) 14:40 - 15:05
Influence of Chemical Topology on the Electrical Properties of Carbon Black – A Theoretical Study
○Arunabhiram Chutia・Zhigang Zhu・Ai Suzuki・Riadh Sahnoun・Michihisa Koyama・Hideyuki Tsuboi・Nozomu Hatakeyama・Akira Endou・Hiromitsu Takaba・Momoji Kubo・Carlos A. Del Carpio・Akira Miyamoto(Tohoku Univ.)

−−− 休憩 ( 10分 ) −−−

(6) 15:15 - 15:40
Nitrogen Profile Study for SiON Gate Dielectrics of Advanced DRAM
○Shigemi Murakawa(Tokyo Electron/Tohoku Univ.)・Masashi Takeuchi・Minoru Honda・Shu-ichi Ishizuka・Toshio Nakanishi・Yoshihiro Hirota・Takuya Sugawara・Yoshitsugu Tanaka・Yasushi Akasaka(Tokyo Electron AT)・Akinobu Teramoto・Shigetoshi Sugawa・Tadahiro Ohmi(Tohoku Univ.)

(7) 15:40 - 16:05
マルチスケールトンネル電流シミュレータの開発
○坪井秀行・芹澤和実・鈴木 愛・サヌーン リアド・古山通久・畠山 望・遠藤 明・高羽洋充・久保百司・デルカルピオ カルロス(東北大)・梶山博司・篠田 傳(広島大)・宮本 明(東北大)

(8) 16:05 - 16:30
Development of Multi-Scale Electrical Conductivity Simulator with the Joule Heating Module and its Application to Polycrystalline SiO2
○John Paul Yacapin・Ai Suzuki・Riadh Sahnoun・Michihisa Koyama・Hideyuki Tsuboi・Nozomu Hatakeyama・Akira Endou・Hiromitsu Takaba・Momoji Kubo・Carlos A. Del Carpio・Akira Miyamoto(Tohoku Univ.)

(9) 16:30 - 16:55
ECRプラズマプロセスによるHfO2系絶縁膜の極薄膜化の検討
○仲野雄介・佐藤雅樹・大見俊一郎(東工大)

(10) 16:55 - 17:20
機械的歪み印加によるSrTiO3MIMキャパシタ誘電率変調
○黒木伸一郎・小谷光司・伊藤隆司(東北大)

10月5日(金) 午前 (09:30~16:40)

(11) 09:30 - 09:55
Theoretic Study of Electronic and Electrical Properties for Nano-Structural ZnO
○Zhigang Zhu・Arunabhiram Chutia・Ai Suzuki・Riadh Sahnoun・Michihisa Koyama・Hideyuki Tsuboi・Nozomu Hatakeyama・Akira Endou・Hiromitsu Takaba・Carlos A. Del Carpio・Momoji Kubo・Akira Miyamoto(Tohoku Univ.)

(12) 09:55 - 10:20
Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Study on Interfacial Electron Transfer in Dye-Sensitized Anatase (001) Surface
○Chen Lv・Agalya Govindasamy・Kei Ogiya・Ai Suzuki・Riadh Sahnoun・Michihisa Koyama・Hideyuki Tsuboi・Nozomu Hatakeyama・Akira Endou・Hiromitsu Takaba・Momoji Kubo・Carlos A. Del Carpio・Akira Miyamoto(Tohoku Univ.)

(13) 10:20 - 10:45
量子分子動力学法によるダイヤモンドライクカーボン膜生成過程の検討
○敖敦其木格・森田祐輔・鈴木 愛・Riadh Sahnoun・古山通久・坪井秀行・畠山 望・遠藤 明・高羽洋充・久保百司・Carlos A. Del Carpio・宮本 明(東北大)

−−− 休憩 ( 10分 ) −−−

(14) 10:55 - 11:20
低誘電率アモルファスハイドロカーボン(aCHx)膜の銅配線バリアー特性の検討
○石川 拓(東京エレクトロン技研/東北大)・野沢俊久・松岡孝明(東京エレクトロン技研)・寺本章伸・平山昌樹・伊藤隆司・大見忠弘(東北大)

(15) 11:20 - 11:45
減圧雰囲気下でプラズマとCa(OH)2/CaOを用いる高効率フロロカーボン除去システムの開発
○鈴木克昌・石原良夫・迫田 薫(大陽日酸)・白井泰雪・平山昌樹・寺本章伸・大見忠弘(東北大)・渡辺高行(宇部マテリアルズ)

(16) 11:45 - 12:10
色素増感型太陽電池のためのマルチスケールシミュレータの開発
○扇谷 恵・呂 晨・鈴木 愛・Riadh Sahnoun・古山通久・坪井秀行・畠山 望・遠藤 明・高羽洋充・久保百司・Carlos A. Del Carpio・宮本 明(東北大)

−−− 昼食 ( 60分 ) −−−

(17) 13:10 - 13:35
マイクロ波CVDを用いた高移動度ボトムゲート微結晶シリコンTFTの試作
○廣江昭彦・寺本章伸・大見忠弘(東北大)

(18) 13:35 - 14:00
High Performance Accumulation Mode FD-SOI MOSFETs on Si(100) and (110) Surfaces
○Weitao Cheng・Akinobu Teramoto・Rihito Kuroda・Chingfoa Tye・Syunichi Watabe・Tomoyuki Suwa・Tetsuya Goto・Fuminobu Imaizumi・Shigetoshi Sugawa・Tadahiro Ohmi(Tohoku Univ.)

(19) 14:00 - 14:25
SBSI プロセスによるSOI/BOX 層の均一形成に関する検討
○野武幸輝・須田雄一郎・大見俊一郎(東工大)

(20) 14:25 - 14:50
Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数制御
○大見俊一郎・高 峻・仲野雄介(東工大)

−−− 休憩 ( 10分 ) −−−

(21) 15:00 - 15:25
シリコン表面の原子オーダー平坦化技術
○諏訪智之・黒田理人・寺本章伸・大見忠弘(東北大)

(22) 15:25 - 15:50
LSAとSpike-RTAの組合せによる極浅接合形成技術
○遠藤誠一・丸山祥輝・川崎洋司・山下朋弘・尾田秀一・井上靖朗(ルネサステクノロジ)

(23) 15:50 - 16:15
大規模アレイTEGを用いたランダム・テレグラフ・シグナルの統計的評価
○阿部健一・須川成利・黒田理人・渡部俊一・寺本章伸・大見忠弘(東北大)

(24) 16:15 - 16:40
プラズマプロセスによるMOSFET特性ばらつきの統計的評価
○渡部俊一・須川成利・阿部健一・藤澤孝文・宮本直人・寺本章伸・大見忠弘(東北大)

一般講演(25):発表 20 分 + 質疑応答 5 分

◎10月4日研究会終了後,懇親会を予定していますので御参加ください


☆SDM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

10月30日(火)~31日(水) 機械振興会館 [8月10日(金)] テーマ:プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
11月16日(金) 中央電気倶楽部 [9月20日(木)] テーマ:半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性
12月14日(金) 奈良先端科学技術大学院大学 [10月12日(金)] テーマ:シリコン関連材料の作製と評価
2008年1月24日(木) 機械振興会館 [未定] テーマ:IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
2008年1月30日(水)~31日(木) 北海道大学 [11月9日(金)] テーマ:機能ナノデバイスとおよび関連技術

【問合先】
西岡泰城(日本大学理工学部 精密機械工学科)
TEL047-469-6482,FAX047-467-9504
E-mail:etn-u,acmsk


Last modified: 2007-08-12 14:46:13


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