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★電子部品・材料研究会(CPM)
専門委員長 上村 喜一 (信州大)  副委員長 安井 寛治 (長岡技科大)
幹事 豊田 誠治 (NTT), 清水 英彦 (新潟大)
幹事補佐 竹村 泰司 (横浜国大), 大庭 直樹 (NTT)

日時 2007年11月16日(金) 12:30~17:50
   2007年11月17日(土) 09:00~15:55

会場 長岡技術科学大学(〒940-2188 新潟県長岡市上富岡町1603-1.JR長岡駅大手口7番線から技大前行き乗車にて約30分.http://www.nagaokaut.ac.jp/j/index.html.電気系 安井寛治.0258-47-9502)

議題 薄膜プロセス・材料、一般

11月16日(金) 午後 (12:30~17:50)

(1) 12:30 - 12:55
Bi-2212固有ジョセフソン接合の温度特性の解析
○毛利千里・小黒恭平・吉田 隆・富永隼賢・加藤孝弘・濱崎勝義(長岡技科大)

(2) 12:55 - 13:20
Bi系高温超伝導デバイスの作製とその特性評価
○吉田 隆・名和海明・富永隼賢・三輪 淳・加藤孝弘・濱崎勝義(長岡技科大)・島影 尚(NICT)

(3) 13:20 - 13:45
RFプラズマ堆積法により作製した有機薄膜の電気的特性・光学的特性
○テンクー ナズリン ビン テンクー イブラヒム・田中久仁彦・打木久雄(長岡技科大)

(4) 13:45 - 14:10
低温成膜したITO薄膜を用いた有機EL素子の検討
○中田悠介・宮崎伸介・梅津 岳・伊藤嘉宏・二木雅斗・清水英彦・丸山武男(新潟大)・星 陽一(東京工芸大)・皆川正寛(日本精機)

−−− 休憩 ( 10分 ) −−−

(5) 14:20 - 14:45
第三電極を有するRFマグネトロンスパッタ法によるZnO透明導電膜特性の均一性評価
○朝野 章(長岡技科大)・片桐裕則(長岡高専)・黒木雄一郎・安井寛治・高田雅介・赤羽正志(長岡技科大)

(6) 14:45 - 15:10
スパッタビーム堆積法によるMo/Si多層薄膜の作製
○長浜大作・愛甲隆史・平田 真・清水英彦・丸山武男・岡 徹雄・岩野春男(新潟大)

(7) 15:10 - 15:35
2スパッタ源反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の高速堆積
境 哲也・神谷 攻・○星 陽一(東京工芸大)・清水英彦(新潟大)

(8) 15:35 - 16:00
ガスフロースパッタ法で作製されたZrO2膜をバッファ層として用いたNiCr薄膜抵抗の抵抗温度係数
○岩坪 聡(富山県工技センター)

−−− 休憩 ( 10分 ) −−−

(9) 16:10 - 16:35
ZrB2薄膜のキャラクタリゼーションとCu/SiO2間のバリヤ特性
○武山真弓(北見工大)・中台保夫・神原正三(アルバックマテリアル)・畠中正信(アルバック)・野矢 厚(北見工大)

(10) 16:35 - 17:00
ZrNバリヤを用いたCu/層間絶縁膜間の界面制御
武山真弓・○佐藤 勝・野矢 厚(北見工大)

(11) 17:00 - 17:25
サファイア基板及び白金電極上のCr2O3スパッタ薄膜の結晶成長
○大月俊平・浅田 毅・岩田展幸・山本 寛(日大)

(12) 17:25 - 17:50
ディップコートしたFeMo及びFePtナノ粒子触媒を用いたCVD法によるカーボンナノチューブの成長
○石塚大祐・園村拓也・奥山博基・岩田展幸・山本 寛(日大)

11月17日(土) 午前 (09:00~15:55)

(13) 09:00 - 09:25
ホットメッシュCVD法によるGaN成長 ~ ルテニウムコーティッドタングステンメッシュの効果 ~
○深田祐介・安部和貴・黒木雄一郎(長岡技科大)・末光眞希・伊藤 隆(東北大)・成田 克(九工大)・遠藤哲郎(東北大)・中澤日出樹(弘前大)・高田雅介・安井寛治・赤羽正志(長岡技科大)

(14) 09:25 - 09:50
モノメチルゲルマンによるSi(001)-2x1清浄表面上へのGe, SiCナノドットの形成と制御
○荻原智明・須藤晴紀・安井寛治・赤羽正志・高田雅介(長岡技科大)

(15) 09:50 - 10:15
ホットメッシュCVD法によるSiCOI構造基板の作製とトップSi層厚依存性
○牧野雄一郎・三浦仁嗣・西山 洋・安井寛治・高田雅介・井上泰宣・赤羽正志(長岡技科大)

(16) 10:15 - 10:40
バイアス印加RFプラズマ窒化法によるSiC-MIS構造の作製
○石田芳樹・陳 晨・萩原正宜・塩沢宏章・仙石 昌・林部林平・山上朋彦・上村喜一(信州大)

−−− 休憩 ( 10分 ) −−−

(17) 10:50 - 11:15
Cu2ZnSnS4のバルク単結晶とゾル-ゲル・硫化法で作製した薄膜の光学特性
○宮本裕介・田中久仁彦・大貫雅俊・森竹典子・打木久雄(長岡技科大)

(18) 11:15 - 11:40
ゾルゲル・硫化法によるCu2ZnSnS4薄膜太陽電池の作製と評価
○大貫雅俊・森竹典子・田中久仁彦・打木久雄(長岡技科大)

(19) 11:40 - 12:05
PCD法によるCu2ZnSnS4を用いた3Dセル構造の作製
○森谷克彦・佐伯勇輔・田中久仁彦・打木久雄(長岡技科大)

−−− 昼食 ( 70分 ) −−−

(20) 13:15 - 13:40
PLD法によるEuGa2S4薄膜の作製と評価
○金田亮平・田中久仁彦・打木久雄(長岡技科大)

(21) 13:40 - 14:05
Sn添加CaAl2S4の光学特性
○太田 均・田中久仁彦・打木久雄(長岡技科大)

(22) 14:05 - 14:30
ケミカルバス法によるZnS薄膜の作製 ~ 膜厚の制御 ~
○上條和隆・小林敏志・坪井 望(新潟大)

−−− 休憩 ( 10分 ) −−−

(23) 14:40 - 15:05
Electrical properties of ZnSnAs2 thin films grown by MBE
○Joel T. Asubar・Tadasuke Yokoyama・Yoshio Jinbo・Naotaka Uchitomi(Nagaoka Univ. of Tech.)

(24) 15:05 - 15:30
強磁性半導体(Ga,Mn)As/Zn-doped-GaAs超格子構造のMBE成長とその低温熱処理効果
○中川久幸・ジョエル アスバル・神保良夫・内富直隆(長岡技科大)

(25) 15:30 - 15:55
Si基板上に成長したGaSb/AlGaSb多重量子井戸構造の評価
○豊田英之・安田武史・藤江周作(長岡技科大)・中村新一(青学大)・神保良夫・内富直隆(長岡技科大)

一般講演(25):発表 20 分 + 質疑応答 5 分


☆CPM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

2008年1月17日(木)~18日(金) 機械振興会館 [11月14日(水)] テーマ:LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術、テスト技術、一般:特集テーマ 「チップ・パッケージ・ボードにおけるパワーインテグリティの設計評価」(オーガナイザ:須藤俊夫先生(芝浦工業大学 ))
2008年2月22日(金) 機械振興会館 [12月10日(月)] テーマ:電池技術関連,一般

【問合先】
清水英彦(新潟大学)
TEL 025-262-6811, FAX 025-262-6811
E-mail: engi-u

竹村 泰司(横浜国立大学)
TEL 045-339-4151, FAX 045-339-4151
E-mail: y


Last modified: 2007-09-21 03:53:49


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