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電子デバイス研究会(ED)
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専門委員長
加地 徹 (豊田中研)
副委員長
原 直紀 (富士通研)
幹事
須原 理彦 (首都大東京), 上田 哲三 (パナソニック)
幹事補佐
葛西 誠也 (北大), 松永 高治 (NEC)
日時
2012年 7月26日(木) 13:30 - 16:40
2012年 7月27日(金) 09:30 - 12:15
議題
半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般
会場名
福井大学 文京キャンパス産学官連携本部3F研修室
住所
〒910-8507 福井県福井市文京3丁目9番1号
交通案内
http://www.u-fukui.ac.jp/cont_about/outline/campus.html
著作権に
ついて
以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
7月26日(木) 午後 【1日目】
13:30 - 16:40
(1)
13:30-13:55
AlGaN/GaN MIS HEMTの直流特性に与える熱処理の影響
ED2012-41
○
畑野舞子
・
谷口裕哉
・
徳田博邦
・
葛原正明
(
福井大
)
(2)
13:55-14:20
AlGaN/GaN MISHFETチャネル電子移動度の測定
ED2012-42
○
玉井健太郎
・
敖 金平
(
徳島大
)・
菊田大悟
(
豊田中研
)・
杉本雅裕
(
トヨタ自動車
)・
大野泰夫
(
徳島大
)
(3)
14:20-14:45
Temperature dependence of frequency dispersion in $C$-$V$ characteristics of AlN/AlGaN/GaN MIS-HFET
ED2012-43
○
Hong-An Shih
・
Masahiro Kudo
・
Toshi-kazu Suzuki
(
JAIST
)
14:45-15:00
休憩 ( 15分 )
(4)
15:00-15:25
AlInN/GaN系へテロ構造の表面・界面評価
ED2012-44
○
橋詰 保
・
堀 祐臣
・
赤澤正道
(
北大
)
(5)
15:25-15:50
Effect of ICP Etching on p-type GaN Schottky Contacts
ED2012-45
○
Toshifumi Takahashi
(
Univ. of Fukui
)・
Naoki Kaneda
・
Tomoyoshi Mishima
(
Hitachi Cable
)・
Kazuki Nomoto
(
Univ. of Notre Dame
)・
Kenji Shiojima
(
Univ. of Fukui
)
(6)
15:50-16:15
Electrical Characteristics of Surface Stoichiometry Controlled p-GaN Schottky Contacts
ED2012-46
○
Toshifumi Takahashi
(
Univ. of Fukui
)・
Naoki Kaneda
・
Tomoyoshi Mishima
(
Hitachi Cable
)・
Takashi Kajiwara
・
Satoru Tanaka
(
Kyushu Univ.
)・
Kenji Shiojima
(
Univ. of Fukui
)
(7)
16:15-16:40
フルバンドモデルに基づくAlGaN/GaN HEMTの衝突イオン化の理論検討
ED2012-47
○
児玉和樹
・
徳田博邦
・
葛原正明
(
福井大
)
7月27日(金) 午前 【2日目】
09:30 - 12:15
(8)
09:30-09:55
量子補正モンテカルロ法による歪みInSb HEMTの遅延時間解析
ED2012-48
○
永井佑太郎
・
佐藤 純
・
原 紳介
・
藤代博記
(
東京理科大
)・
遠藤 聡
・
渡邊一世
(
NICT
)
(9)
09:55-10:20
トンネルダイオードの非平衡量子輸送モデルの構築と遮断周波数の理論解析
ED2012-49
○
山下 新
・
倉上祐司
・
斉藤光史
・
須原理彦
(
首都大東京
)
(10)
10:20-10:45
広帯域アンテナ集積共鳴トンネルダイオードのアレイ化発振源における注入同期特性および周波数コム特性の大信号解析
ED2012-50
○
浅川澄人
・
田代篤史
・
斉藤光史
・
須原理彦
(
首都大東京
)
10:45-11:00
休憩 ( 15分 )
(11)
11:00-11:25
GaAs系エッチングナノワイヤCCDにおける同期電荷転送と効率に関する検討
ED2012-51
中野雄紀
・
田中貴之
・○
葛西誠也
(
北大
)
(12)
11:25-11:50
非局所配置を用いた高In組成InGaAs/InAlAs2次元電子系へのスピン注入実験
ED2012-52
日高志郎
・
近藤太郎
・
赤堀誠志
・○
山田省二
(
北陸先端大
)
(13)
11:50-12:15
ダイヤモンドライクカーボン絶縁膜を用いたグラフェンFET
ED2012-53
○
鷹林 将
・
楊 猛
・
小川修一
・
林 広幸
・
栗田裕記
・
高桑雄二
・
末光哲也
・
尾辻泰一
(
東北大
)
講演時間
一般講演
発表 20 分 + 質疑応答 5 分
問合先と今後の予定
ED
電子デバイス研究会(ED)
[今後の予定はこちら]
問合先
須原 理彦(首都大)
TEL : 042-677-2765 Fax : 042-677-2756
E-
:
t
上田 哲三(パナソニック)
TEL:075-956-8273、FAX:075-956-9110
E-
:
zo
pa
c
Last modified: 2012-05-23 18:33:32
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