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シリコン材料・デバイス研究会(SDM) [schedule] [select]
専門委員長 奈良 安雄
副委員長 大野 裕三 (筑波大)
幹事 笹子 佳孝 (日立)
幹事補佐 黒田 理人 (東北大)

日時 2013年11月14日(木) 10:00 - 16:40
2013年11月15日(金) 10:00 - 15:50
議題 プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
会場名 機械振興会館 地下2階1号室 
住所 〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
交通案内 http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/
他の共催 ◆応用物理学会共催

11月14日(木) 午前 
座長: 廣木 彰 (京都工芸繊維大学)
10:00 - 11:35
  10:00-10:05 オープニング アドレス ( 5分 )
(1) 10:05-10:50 [招待講演]2013 SISPADレビュー ~ 輸送,信頼性 ~ ○森 伸也(阪大)
(2) 10:50-11:35 [招待講演]2013 SISPADレビュー ~ 併設ワークショップ1 ~ ○植松真司(慶大)
  11:35-13:00 昼食 ( 85分 )
11月14日(木) 午後 
座長: 安斎 久浩 (ソニー)
13:00 - 14:40
(3) 13:00-13:50 [招待講演]計算科学に基づく電子デバイス設計の現状 ○白石賢二(名大)
(4) 13:50-14:15 低温RTAにおけるSi中のSの挙動とS2形成の原子レベルシミュレーション ○金村貴永・加藤弘一・谷本弘吉・青木伸俊・豊島義明(東芝)
(5) 14:15-14:40 窒化シリコン中の窒素空孔に導入された元素が電子トラップ準位に与える影響 ○園田賢一郎・佃 栄次・谷沢元昭・石川清志・山口泰男(ルネサス エレクトロニクス)
  14:40-15:00 休憩 ( 20分 )
11月14日(木) 午後 
座長: 山川 真弥 (ソニー)
15:00 - 16:40
(6) 15:00-15:50 [招待講演]シリコントライゲートナノワイヤトランジスタの低周波ノイズ特性解析 ○齋藤真澄・太田健介・田中千加・沼田敏典(東芝)
(7) 15:50-16:40 [招待講演]量子エネルギー輸送モデルを用いた先端MOSFETシミュレーション ○鍾 菁廣・小田中紳二(阪大)
11月15日(金) 午前 
座長: 鎌倉 良成 (大阪大学)
10:00 - 11:40
(8) 10:00-10:25 シリコンナノワイヤトランジスタの解析的ドレイン電流モデルとデバイス設計 ○田中千加・萩島大輔(東芝)・内田 建(慶大)・沼田敏典(東芝)
(9) 10:25-10:50 DIBL効果を取り入れた弾道・準弾道GAA-MOSFSETのコンパクトモデル ○程 賀(名大)・宇野重康(立命館大)・中里和郎(名大)
(10) 10:50-11:15 Pt/TiO2/Pt系の抵抗変化現象の物理モデルとシミュレーションによる検証 ○大村泰久・近藤祐介(関西大)
(11) 11:15-11:40 Double-gate Lateral Tunnel FETのデバイスモデル 大村泰久・○佐藤大貴・佐藤伸吾(関西大)・Abhijit Mallik(カルカッタ大)
  11:40-13:00 昼食 ( 80分 )
11月15日(金) 午後 
座長: 森 伸也 (大阪大学)
13:00 - 14:15
(12) 13:00-13:25 ジャンクションレストランジスタにおけるNEGF法を用いたデバイスシミュレーション ~ 不純物散乱と遮蔽の影響の考察 ~ ○植田暁子(筑波大)・Mathieu Luisier(チューリッヒ工科大)・吉田勝尚・本多周太・佐野伸行(筑波大)
(13) 13:25-13:50 ウィグナーモンテカルロ法を用いた極微細III-V MOSFETの量子輸送解析 ○大森正規・木場隼介・前川容佑(神戸大)・土屋英昭(神戸大/JST)・鎌倉良成・森 伸也(阪大/JST)・小川真人(神戸大)
(14) 13:50-14:15 モンテカルロ法を用いたSiナノ構造の熱電変換性能に関する解析 ○インドラ ヌル アディスシロ・久木田健太郎(阪大)・鎌倉良成(阪大/JST)
  14:15-14:35 休憩 ( 20分 )
11月15日(金) 午後 
座長: 園田 賢一郎 (ルネサスエレクトロニクス)
14:35 - 15:50
(15) 14:35-15:00 MOSFETの1/f雑音におけるHoogeパラメータの統合モデル ○大村泰久(関西大)
(16) 15:00-15:25 Impacts of Channel Doping on Random Telegraph Signal Noise and Successful Noise Suppression by Mobility Enhancement ○Jiezhi Chen・Yusuke Higashi・Izumi Hirano・Yuichiro Mitani(Toshiba)
(17) 15:25-15:50 MOSFETの実効チャネル長の再考 ○寺田和夫・讃井和彦・辻 勝弘(広島市大)

講演時間
一般講演発表 20 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
SDM シリコン材料・デバイス研究会(SDM)   [今後の予定はこちら]
問合先 國清辰也 (ルネサスエレクトロニクス)
TEL: 072-787-2408
FAX: 072-789-3438
E--mail: zns 


Last modified: 2013-09-17 12:44:12


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