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★電子部品・材料研究会（CPM）
専門委員長 野毛 悟 (沼津高専) 副委員長 廣瀬 文彦 (山形大)
幹事 小舘 淳一 (NTT)， 岩田 展幸 (日大)
幹事補佐 坂本 尊 (NTT)， 中村 雄一 (豊橋技科大)
日時 2015年10月14日(水) 13：05～16：45
会場 機械振興会館（東京都港区芝公園3-5-8．東京メトロ日比谷線 神谷町駅下車 徒歩8分）
議題 光記録技術・電子材料、一般
10月14日(水) 午後 （13：00～16：45）
−−− 開会挨拶 （ 5分 ） −−−
(1) 13:05 - 13:30
反応性プラズマ蒸着法で作製したGa添加ZnO薄膜の構造、電気及び光学特性
○寺迫智昭（愛媛大）・野本淳一・牧野久雄（高知工科大）・矢木正和（香川高専）・白方 祥（愛媛大）・山本哲也（高知工科大）
(2) 13:30 - 13:55
ホモジニアス配向した光配向性複合体液晶の紫外直線偏光露光による配向方位制御
○小歩岳史・Tran Minh Tien・河合孝太郎・佐々木友之・坂本盛嗣・野田浩平（長岡技科大）・川月喜弘（兵庫県立大）・後藤耕平（日産化学工業）・小野浩司（長岡技科大）
(3) 13:55 - 14:20
MOD法によりガラス基板上へ作製したNd0.5Bi2.5Fe5-yGayO12 (y = 0-1) 薄膜の磁気異方性
○婁 庚健・佐々木教真（長岡技科大）・加藤剛志・岩田 聡（名大）・石橋隆幸（長岡技科大）
(4) 14:20 - 14:45
超高密度イオン照射ビットパターン媒体実現のためのMnGa膜の薄膜化
○松永隆雅・福田憲吾・大島大輝・加藤剛志・岩田 聡（名大）・綱島 滋（名古屋産業科学研）
−−− 休憩 （ 20分 ） −−−
(5) 15:05 - 15:30
コリニア磁気ホログラム再生像改善にむけた記録条件の検討
○鈴木章太・磯谷亮介・河津航大・後藤太一・高木宏幸・中村雄一・林 攀梅・井上光輝（豊橋技科大）
(6) 15:30 - 15:55
大容量記録再生に向けたホログラフィックメモリシステムの開発
○池田直仁・星沢 拓・中村悠介（日立）・石飛竜哉・西村孝一郎（日立LGデータストレージ）
(7) 15:55 - 16:20
ホログラフィックメモリシステムの為の高速参照光制御技術
○緒方 岳・山田健一郎・藤田浩司・保坂 誠・山崎和良・島田堅一（日立）・奥山 淳（東海大）
(8) 16:20 - 16:45
時系列信号方式角度多重ホログラフィックメモリーの諸特性
○志村 努・林 佑樹・遠藤政男・梅垣真祐（東大）・藤村隆史（宇都宮大）
−−− 閉会挨拶 （ 5分 ） −−−
一般講演：発表 20 分 ＋ 質疑応答 5 分
☆CPM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日
11月6日(金)～7日(土) まちなかキャンパス長岡 [9月11日(金)] テーマ：薄膜プロセス・材料，一般
11月26日(木)～27日(金) 大阪市立大学・学術情報センター会議室 [9月16日(水)] テーマ：窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般
12月1日(火)～3日(木) 長崎県勤労福祉会館 [9月20日(日)] テーマ：デザインガイア2015 -VLSI設計の新しい大地-
Last modified: 2015-08-12 21:48:45
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