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シリコン材料・デバイス研究会（SDM） [schedule] [select]
専門委員長 品田 高宏 (東北大)
副委員長 平野 博茂 (パナソニック・タワージャズ)
幹事 池田 浩也 (静岡大)， 諸岡 哲 (キオクシア)
幹事補佐 森 貴洋 (産総研)， 小林 伸彰 (日大)

日時 2020年 1月28日(火)　13:00 - 16:45
議題 先端ＣＭＯＳデバイス・ プロセス技術（ＩＥＤＭ特集） 
会場名 機械振興会館 地下3F B3-2 
住所 〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8
交通案内 東京メトロ日比谷線 神谷町駅下車 徒歩8分
http://www.jspmi.or.jp/kaigishitsu/access.html
他の共催 ◆応用物理学会共催
著作権に
ついて		 以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
参加費に
ついて		 この開催は「技報完全電子化」研究会です．参加費（SDM研究会）についてはこちらをご覧ください．

1月28日(火) 午後 
13:00 - 16:45
(1) 13:00-13:30 ［招待講演］重アンモニアを用いた高信頼性メモリセル絶縁膜の形成 SDM2019-82 ○野口将希・磯貝達典・山下博幸・澤　敬一・藤塚良太・山中孝紀・岡田俊祐・青山知憲・相宗史記・阿部淳子・小川義宏・中川聖士・宮島秀史（キオクシア）
(2) 13:30-14:00 ［招待講演］Impact of Homogeneously Dispersed Al Nanoclusters by Si-monolayer Insertion into Hf0.5Zr0.5O2 Film on FeFET Memory Array with Tight Threshold Voltage Distribution SDM2019-83 ○前川径一（ルネサス）
(3) 14:00-14:30 ［招待講演］Hf1-xZrxO2強誘電体トンネル接合を用いた強化学習 ～ ばらつき制御による性能向上 ～ SDM2019-84 ○太田健介・山口まりな（キオクシア）・ラドゥ ベルダン・丸亀孝生・西　義史（東芝）・松尾和展・高橋恒太・神谷優太・宮野信治・出口　淳・藤井章輔・齋藤真澄（キオクシア）
  14:30-14:45 休憩　（ 15分 ）
(4) 14:45-15:15 ［招待講演］インメモリ/アナログコンピューティングは深層学習による推論の高効率化の切り札となるか？ SDM2019-85 ○出口　淳・宮下大輔・眞木明香・佐々木慎一・中田憲吾・橘　文彦・藤本竜一（キオクシア）
(5) 15:15-15:45 ［招待講演］3次元フラッシュメモリの高ビット密度を実現する新規半円型ゲート分断構造セル SDM2019-86 ○諸岡　哲（キオクシア）
(6) 15:45-16:15 ［招待講演］Future of Non-Volatile Memory - From Storage to Computing SDM2019-87 ○石丸一成（キオクシア）
(7) 16:15-16:45 ［招待講演］IEDM2019を振り返って
○黒田理人（東北大）

講演時間
招待講演発表 25 分 ＋ 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
SDM シリコン材料・デバイス研究会（SDM）   [今後の予定はこちら]
問合先 諸岡 哲(キオクシア)
Tel 059-390-7451 Fax 059-361-2739
E--mail: oxia 


Last modified: 2020-01-27 10:26:33


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