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すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| CPM | 2023-08-01 09:45 |
北海道 | 北見工業大学 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
3°オフ角Si(110)基板上へのSiC/AlN多層構造の作製およびグラフェンの形成 ○齋藤遼佑・奈良友奎・葛西大希・郡山春人・遠田義晴・中澤日出樹（弘前大）  CPM2023-19 |
3 ̊オフ角Si(110)基板上にパルスレーザーアブレーション(PLD)法によりAlN薄膜を作製し、AlN上にモノメチル... [more] | CPM2023-19 pp.29-32 |
| CPM | 2023-02-28 11:30 |
東京 | 東京工科大学 + オンライン開催 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
水素ガスを用いたマグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜の光起電力特性 ○西田竜也・佐藤聖能・小林康之・遠田義晴・中澤日出樹（弘前大） CPM2022-94 |
[more] | CPM2022-94 pp.35-38 |
| CPM | 2022-08-04 16:15 |
北海道 | 北見工業大学 | マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素膜特性への水素ガスの効果 ○西田竜也・谷口 颯・佐藤聖能・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史（弘前大）・吹留博一（東北大）・中澤日出樹（弘前大） CPM2022-15 |
炭化ホウ素(B4C)ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタ法によりアモルファスB4C薄膜およびH2を導入して水素化ア... [more] | CPM2022-15 pp.14-17 |
| CPM | 2021-10-27 13:20 |
ONLINE | オンライン開催 | プラズマ化学気相成長法によるSi及びN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の光学的特性および電気的特性に及ぼすH₂及びAr希釈の効果 ○佐々木祐弥・長内公哉・大谷優介・室野優太・佐藤聖能・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史・中澤日出樹（弘前大） CPM2021-26 |
希釈ガスにAr及びH₂を用いたプラズマ化学気相成長法によりケイ素(Si)及び窒素(N)を添加したダイヤモンドライクカーボ... [more] | CPM2021-26 pp.23-28 |
| CPM | 2020-10-29 15:10 |
ONLINE | オンライン開催 | マグネトロンスパッタ法を用いて作製したBCN膜特性への水素の効果 ○谷口 颯・郡山春人・小林康之・遠田義晴（弘前大）・吹留博一（東北大）・中澤日出樹（弘前大） CPM2020-17 |
[more] | CPM2020-17 pp.23-26 |
| CPM | 2019-11-07 15:00 |
福井 | 福井大学 文京キャンパス | 窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果 ○長内公哉・中村和樹・郡山春人・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史（弘前大）・末光眞希（東北大）・中澤日出樹（弘前大） CPM2019-46 |
希釈ガスにH2を用いたプラズマ化学気相成長法により窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(N-DLC)膜を作製し、真空... [more] | CPM2019-46 pp.9-14 |
| CPM, IEE-MAG (連催) |
2018-11-02 14:25 |
新潟 | まちなかキャンパス長岡 | ケイ素及び窒素を添加したDLC薄膜の熱的安定性 ○中澤日出樹・中村和樹・長内公哉・郡山春人・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史（弘前大）・末光眞希（東北大） CPM2018-52 |
希釈ガスにH_(2)を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したケイ素及び窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(Si... [more] | CPM2018-52 pp.99-104 |
| CPM | 2018-08-09 14:30 |
青森 | 弘前大学文京町地区キャンパス | Si添加DLC薄膜への窒素添加の効果 中村和樹・大橋 遼（弘前大）・横山 大・田島圭一郎・遠藤則史・末光眞希（東北大）・遠田義晴・小林康之・鈴木裕史・○中澤日出樹（弘前大） CPM2018-8 |
希釈ガスにH_2を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したSi添加DLC(Si-DLC)薄膜の化学結合状態、電気的・光... [more] | CPM2018-8 pp.1-6 |
| CPM | 2018-08-09 14:50 |
青森 | 弘前大学文京町地区キャンパス | SiC/AlN/Si(110)基板上グラフェンの成長 ○中澤日出樹・成田舜基・奈良友奎・遠田義晴（弘前大） CPM2018-9 |
3ºオフ角を有するSi(110)基板上に、レーザーアブレーション法を用いて様々な成長条件でAlN薄膜を作製した結果、レー... [more] | CPM2018-9 pp.7-12 |
| CPM | 2018-08-10 11:05 |
青森 | 弘前大学文京町地区キャンパス | Si基板上SiO2薄膜の電子線照射による還元反応 ○藤森敬典・千田陽介・増田悠右・氏家夏樹・遠田義晴（弘前大） CPM2018-18 |
20 nm～100 nm厚のSiO_{2}膜を有するSi(100)表面に様々な条件で電子線照射し、その後フッ酸処理や真 ... [more] | CPM2018-18 pp.47-52 |
| CPM | 2018-08-10 11:25 |
青森 | 弘前大学文京町地区キャンパス | Zr系金属ガラス表面の元素組成と化学結合状態 ○郡山春人・藤森敬典・遠田義晴（弘前大）・富樫 望（アダマンド並木精密宝石） CPM2018-19 |
Zr系金属ガラスであるVit 105合金(Zr_{52.5}Cu_{17.9}Ni_{14.6}Al_{10}Ti_{5... [more] | CPM2018-19 pp.53-56 |
| CPM | 2015-08-10 13:40 |
青森 | 弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 | 高周波プラズマ化学気相成長法による窒素添加DLC薄膜の膜特性への基板バイアスの影響 ○土屋政人・村上和輝・佐藤達人・高見貴弘・遠田義晴・中澤日出樹（弘前大） CPM2015-32 |
CH4、N2および希釈ガスとしてArを用い、基板バイアスにパルスバイアスを用いたRFプラズマCVD法により、基板パルスバ... [more] | CPM2015-32 pp.7-10 |
| CPM | 2015-08-11 11:40 |
青森 | 弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 | シリコン酸窒化膜の内殻準位異常シフトに対する表面吸着種の影響 ○高見貴弘・和田 誠・遠田義晴（弘前大） CPM2015-45 |
特定の条件下で形成されたシリコン酸窒化膜（SiON膜）において、X線光電子分光の内殻準位スペクトルの化学シフトピーク位置... [more] | CPM2015-45 pp.71-74 |
| CPM | 2011-08-11 09:50 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | シリコン酸化膜の不均一な熱分解 ○遠田義晴・小川可乃・永井孝幸（弘前大） CPM2011-68 |
Si(100)基板上に形成された20nm膜厚のシリコン熱酸化膜を，真空中1100℃で加熱し，これにより生ずる酸化膜の熱分... [more] | CPM2011-68 pp.61-64 |
| CPM | 2009-08-10 16:30 |
青森 | 弘前大学 | 原子状水素照射によるダイヤモンドライクカーボン膜の化学結合状態の変化 ○遲澤遼一・中澤日出樹・奥崎知秀・佐藤直之・遠田義晴（弘前大）・末光眞希（東北大） CPM2009-37 |
KrFエキシマレーザーを用いたレーザーアブレーション法によりSi基板上にダイヤモンドライクカーボン（diamond-li... [more] | CPM2009-37 pp.19-24 |
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