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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2015-06-19 16:50 |
愛知 | 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー | ［依頼講演］原子薄膜の電気的極性可変トランジスタ ○中払 周（物質・材料研究機構）・飯島智彦・小川真一・八木克典・原田直樹・林 賢二郎・近藤大雄・高橋 慎（産総研）・黎 松林・山本真人・林 彦甫（物質・材料研究機構）・上野啓司（埼玉大）・塚越一仁（物質・材料研究機構）・佐藤信太郎・横山直樹（産総研）  SDM2015-55 |
原子１つまたは数個分の厚さしかないグラフェンやそれに類する原子薄膜の電気伝導体の新しいトランジスタ応用について我々の研究... [more] | SDM2015-55 pp.93-98 |
| SDM | 2015-03-02 14:25 |
東京 | 機械振興会館 | ［招待講演］インターカレーションによる低抵抗多層グラフェン配線の実現 ○近藤大雄（産総研/富士通研）・中野美尚・周 波・井 亜希子（産総研）・林 賢二郎（産総研/富士通研）・高橋 誠（産総研）・佐藤信太郎・横山直樹（産総研/富士通研） |
[more] | |
| SDM | 2014-02-28 13:50 |
東京 | 機械振興会館 | ［招待講演］インプラント法によるカーボンナノチューブプラグの作製とスパッタアニール法による多層グラフェン配線の接合 ○佐藤元伸・高橋 慎・二瓶瑞久・佐藤信太郎・横山直樹（産総研） SDM2013-170 |
カーボンナノチューブ（CNT）を微細孔に転写・移植（インプラント）する新たなプロセスを開発した。LSIのプラグやビア、T... [more] | SDM2013-170 pp.29-33 |
| SDM | 2013-02-04 10:05 |
東京 | 機械振興会館 | 排熱TSVへ向けたナノカーボン材料の熱特性評価 ○川端章夫・二瓶瑞久・村上 智・佐藤元伸・横山直樹（産総研） SDM2012-150 |
我々はナノカーボン材料のLSI排熱応用を目指している。今回、新規な高密度垂直および水平方向グラフェン (DVHG) 構造... [more] | SDM2012-150 pp.1-4 |
| LQE, LSJ (共催) |
2012-05-25 11:30 |
福井 | 福井大学文京キャンパス | 通信波長帯量子ドットを用いた励起子状態のコヒーレント制御 ○宮澤俊之（東大）・中岡俊裕（上智大）・渡邉克之・熊谷直人（東大）・横山直樹（富士通研）・荒川泰彦（東大） LQE2012-5 |
[more] | LQE2012-5 pp.21-24 |
| SDM | 2012-03-05 13:00 |
東京 | 機械振興会館 | ラマン分光法およびXPSによるSiO2/Si基板上での多層グラフェン成長初期の研究 ○尾白佳大・小川修一（東北大）・犬飼 学（高輝度光科学研究センター）・佐藤元伸（産総研）・池永英司・室 隆桂之（高輝度光科学研究センター）・二瓶瑞久（産総研）・高桑雄二（東北大）・横山直樹（産総研） SDM2011-179 |
光電子制御プラズマCVDはグラファイト材料を低温成長 (～400 ℃) 、触媒無し、大面積で成長できる有力な手法である。... [more] | SDM2011-179 pp.19-24 |
| SDM | 2011-02-07 14:10 |
東京 | 機械振興会館 | 光電子制御プラズマCVD法で成膜したネットワークナノグラファイト配線 ○佐藤元伸（富士通/JST/産総研）・小川修一（東北大/JST）・池永英司（高輝度光科学研究センター/JST）・高桑雄二（東北大/JST）・二瓶瑞久（富士通/JST/産総研）・横山直樹（産総研） SDM2010-222 |
Cuに代わる新たなLSI配線材料として、多層グラフェンを検討している。多層グラフェンはCuより低い抵抗率、高い熱伝導率、... [more] | SDM2010-222 pp.37-42 |
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