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 15件中 1~15件目  /   
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
VLD, DC, RECONF, ICD
(共催)
IPSJ-SLDM
(連催) [詳細]
2022-11-30
10:45
石川 金沢市文化ホール
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法
野中尚貴小平行秀会津大)・高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64
製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち,ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化に... [more] VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64
pp.127-132
ICD, SDM
(共催)
ITE-IST
(連催) [詳細]
2022-08-08
11:45
ONLINE オンライン開催に変更 現地開催(北海道大学百年記念会館)は中止 [招待講演]3次元フラッシュメモリの高ビット密度を実現する半円型ゲート分断構造セルの構造及び動作の最適化検討
諸岡 哲キオクシアSDM2022-36 ICD2022-4
3次元フラッシュメモリのセルサイズを縮小し、少ない層数で高いビット密度を実現する技術として期待されているゲート分断構造セ... [more] SDM2022-36 ICD2022-4
p.12
IA, ICSS
(共催)
2022-06-23
13:55
長崎 長崎県立大学シーボルト校
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
Decentralized Identifiersとアクセスコントロールを用いたプライバシーデータ配信サービスアーキテクチャ
奥 怜也塩本公平東京都市大)・大場義洋キオクシアIA2022-3 ICSS2022-3
 [more] IA2022-3 ICSS2022-3
pp.15-18
SDM 2022-01-31
14:15
ONLINE オンライン開催 [招待講演]高速荷電中心解析によるチャージトラップのダイナミクス把握に基づくHfO2-FeFETサイクル劣化メカニズム解明
市原玲華キオクシアSDM2021-70
HfO2-FeFETで生じる様々な種類のチャージトラップのサイクル過程における挙動を、高速電流計測に基づく荷電中心解析に... [more] SDM2021-70
pp.9-11
VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM
(連催)
(併催) [詳細]
2021-12-02
15:35
ONLINE オンライン開催 シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法
小平行秀中山晴貴野中尚貴会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53
半導体プロセスの微細化のために,光リソグラフィ技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち,ウ... [more] VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53
pp.162-167
SDM 2021-01-28
13:05
ONLINE オンライン開催 [招待講演]自発分極とトラップ電荷の分離抽出に基づく強誘電HfO2-FeFETにおけるVthウインドウ及び信頼性決定要因の解析
市原玲華キオクシアSDM2020-49
HfO2-FeFETでは,自発分極の反転に加え,その効果を相殺する極性の電荷トラップがHfO2/SiO2界面近傍に生じる... [more] SDM2020-49
pp.1-2
ISEC, IT, WBS
(共催)
2020-03-10
11:55
兵庫 兵庫県立大学 神戸情報科学キャンパス(神戸ポートアイランド)
(開催中止,技報発行あり)
Weighted-BPにおける重み学習効果向上のための訓練データフィルタリング手法に関する検討
吉沢竜太古田憲一郎吉永悠真鳥井 修児玉知也キオクシアIT2019-101 ISEC2019-97 WBS2019-50
Weighted-BP は、BP 復号において伝播されるメッセージに乗算する重みをニューラルネットワークにより学習するこ... [more] IT2019-101 ISEC2019-97 WBS2019-50
pp.73-78
HWS, VLD
(共催) [詳細]
2020-03-04
16:00
沖縄 沖縄県青年会館
(開催中止,技報発行あり)
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-105 HWS2019-78
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-105 HWS2019-78
pp.65-70
SDM 2020-01-28
13:00
東京 機械振興会館 [招待講演]重アンモニアを用いた高信頼性メモリセル絶縁膜の形成
野口将希磯貝達典山下博幸澤 敬一藤塚良太山中孝紀岡田俊祐青山知憲相宗史記阿部淳子小川義宏中川聖士宮島秀史キオクシアSDM2019-82
信頼性の高い不揮発性メモリを実現するために、メモリセル絶縁膜の電荷保持特性の向上が望まれている。セル絶縁膜の一部であるト... [more] SDM2019-82
pp.1-4
SDM 2020-01-28
14:00
東京 機械振興会館 [招待講演]Hf1-xZrxO2強誘電体トンネル接合を用いた強化学習 ~ ばらつき制御による性能向上 ~
太田健介山口まりなキオクシア)・ラドゥ ベルダン丸亀孝生西 義史東芝)・松尾和展高橋恒太神谷優太宮野信治出口 淳藤井章輔齋藤真澄キオクシアSDM2019-84
Hf1-xZrxO2を用いた強誘電体トンネル接合において、メモリ内演算による強化学習性能を最大化するための構造及び組成に... [more] SDM2019-84
p.9
SDM 2020-01-28
14:45
東京 機械振興会館 [招待講演]インメモリ/アナログコンピューティングは深層学習による推論の高効率化の切り札となるか?
出口 淳宮下大輔眞木明香佐々木慎一中田憲吾橘 文彦藤本竜一キオクシアSDM2019-85
本発表では,深層学習による推論向けインメモリ/アナログコンピューティングの動向について,2019 IEEE Intern... [more] SDM2019-85
p.11
SDM 2020-01-28
15:15
東京 機械振興会館 [招待講演]3次元フラッシュメモリの高ビット密度を実現する新規半円型ゲート分断構造セル
諸岡 哲キオクシアSDM2019-86
 [more] SDM2019-86
pp.13-18
SDM 2020-01-28
15:45
東京 機械振興会館 [招待講演]Future of Non-Volatile Memory - From Storage to Computing
石丸一成キオクシアSDM2019-87
最初のNANDフラッシュメモリが国際学会で発表されてから30年以上経つ。NANDフラッシュメモリは単位容量辺りのコスト(... [more] SDM2019-87
p.19
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2019-11-15
10:45
愛媛 愛媛県男女共同参画センター [基調講演]ハードウェアとアルゴリズムの協調最適化によるCNN推論処理の高効率化
宮下大輔キオクシアVLD2019-47 ICD2019-36 IE2019-42 CPSY2019-46 DC2019-71 RECONF2019-42
Deep convolutional neural network (CNN)を用いた画像分類,物体検出,画像セグメンテ... [more] VLD2019-47 ICD2019-36 IE2019-42 CPSY2019-46 DC2019-71 RECONF2019-42
p.173(VLD), p.41(ICD), p.41(IE), p.53(CPSY), p.173(DC), p.31(RECONF)
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2019-11-15
16:35
愛媛 愛媛県男女共同参画センター 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法
小平行秀東 梨奈会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-53 DC2019-77
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-53 DC2019-77
pp.197-202
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