お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 【重要】研究会・各種料金のお支払い方法変更について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催スケジュール
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
    [Japanese] / [English] 
研究会名/開催地/テーマ  )→
 
講演検索  検索語:  /  範囲:題目 著者 所属 抄録 キーワード )→

すべての研究会開催スケジュール  (検索条件: すべての年度)

講演検索結果
 登録講演(開催プログラムが公開されているもの)  (日付・降順)
 63件中 1~20件目  /  [次ページ]  
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED, CPM, LQE
(共催)
2024-11-28
14:55
愛知 名古屋工業大学 (窒化物半導体マルチビジネス創生センター) (愛知県) GaInN/GaN MQW光電変換素子における結晶品質及び性能改善に関する検討
小嶋智輝石田颯汰朗江川孝志三好実人名工大ED2024-23 CPM2024-67 LQE2024-54
GaInN系光電変換素子は、様々な用途に適用が期待できる光無線給電システムの構成要素として向けて有望である。これまで我々... [more] ED2024-23 CPM2024-67 LQE2024-54
pp.13-16
ED, CPM, LQE
(共催)
2024-11-29
13:55
愛知 名古屋工業大学 (窒化物半導体マルチビジネス創生センター) (愛知県) 電流狭窄層およびδドープ導電性緩衝層に歪超格子層を用いたSi基板上AlGaN/GaN CAVETの作製とデバイス特性評価
久保俊晴三木隆太郎江川孝志名工大ED2024-33 CPM2024-77 LQE2024-64
GaN系縦型デバイスとしてCAVET(Current Aperture Vertical Electron Transi... [more] ED2024-33 CPM2024-77 LQE2024-64
pp.53-56
ED, CPM, LQE
(共催)
2024-11-29
14:20
愛知 名古屋工業大学 (窒化物半導体マルチビジネス創生センター) (愛知県) 緩衝層として歪超格子層およびAlGaN遷移層を用いたSi基板上AlGaN/GaN HEMTの電気特性評価
三木隆太郎久保俊晴江川孝志名工大ED2024-34 CPM2024-78 LQE2024-65
 [more] ED2024-34 CPM2024-78 LQE2024-65
pp.57-60
ED, CPM, LQE
(共催)
2024-11-29
15:20
愛知 名古屋工業大学 (窒化物半導体マルチビジネス創生センター) (愛知県) GaInN/GaN MQW構造からなるp型ベース層を備えたGaN系HBTの作製と特性評価
井上諒星小嶋智輝間瀬 晃江川孝志三好実人名工大ED2024-36 CPM2024-80 LQE2024-67
GaN系ヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBT)は、同じGaN系のHEMTや他材料系からなるHBTと比べて高速・大動力... [more] ED2024-36 CPM2024-80 LQE2024-67
pp.65-68
ED, MW
(共催)
2024-01-25
15:30
東京 機械振興会館 (東京都, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
EID AlGaN/GaN MOS-HEMTにおけるAl2O3ゲート酸化膜直下の電子状態解析
南條拓真清井 明今澤貴史古橋壮之西川和康三菱電機)・江川孝志名工大ED2023-68 MW2023-160
ノーマリオフ動作するプレーナ型のExtrinsically Electron Induced by Dielectric... [more] ED2023-68 MW2023-160
pp.11-14
LQE, ED, CPM
(共催)
2023-11-30
13:05
静岡 アクトシティ浜松 (静岡県) 単結晶AlN基板上の薄層UID-GaNチャネルを備えたAlGaInN/GaN HEMTの作製と特性評価
川出智之米谷宜展田中さくら江川孝志三好実人名工大ED2023-14 CPM2023-56 LQE2023-54
MOCVD法により単結晶AlN基板上に、AlNバックバリア層、UID-GaNチャネル層、歪み制御した四元混晶AlGaIn... [more] ED2023-14 CPM2023-56 LQE2023-54
pp.1-5
LQE, ED, CPM
(共催)
2023-11-30
13:30
静岡 アクトシティ浜松 (静岡県) 四元混晶AlGaInNエミッタとp型GaInNベースを用いたGaN系HBTの作製
滝本将也間瀬 晃小嶋智輝江川孝志三好実人名工大ED2023-15 CPM2023-57 LQE2023-55
GaN系半導体を用いたヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBT)は次世代の高周波デバイスとして有望視されている。GaN系... [more] ED2023-15 CPM2023-57 LQE2023-55
pp.6-10
LQE, ED, CPM
(共催)
2023-11-30
13:55
静岡 アクトシティ浜松 (静岡県) ALDにより形成した絶縁膜を有するAlGaN/GaN MIS-HFETに対するゲートリセスエッチング後表面処理の効果
久保俊晴江川孝志名工大ED2023-16 CPM2023-58 LQE2023-56
ALD-SiO2/Al2O3 2層絶縁膜を用いたゲートリセス構造を有するノーマリオフ型AlGaN/GaN MIS-HFE... [more] ED2023-16 CPM2023-58 LQE2023-56
pp.11-14
LQE, ED, CPM
(共催)
2023-11-30
17:10
静岡 アクトシティ浜松 (静岡県) 光無線給電システムに向けた自立GaN基板上GaInN系受光素子の作製と特性評価
藤澤孝博Hu Nan小嶋智輝江川孝志三好実人名工大ED2023-23 CPM2023-65 LQE2023-63
GaInN系受光素子は太陽電池だけでなく、光無線給電システムへの適用にも非常に有望である。本研究では、光無線給電システム... [more] ED2023-23 CPM2023-65 LQE2023-63
pp.44-47
CPM, ED, SDM
(共催)
2023-05-19
15:40
愛知 名古屋工大 (愛知県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
極微細構造を有するNiパターンの凝集現象を用いたサファイア基板上転写フリーグラフェンFETの作製と評価
加藤一朗久保俊晴三好実人江川孝志名工大ED2023-5 CPM2023-5 SDM2023-22
グラフェンをFETとして用いるには絶縁基板への転写が必要であり、その過程でグラフェンに欠陥が導入されてしまう可能性がある... [more] ED2023-5 CPM2023-5 SDM2023-22
pp.20-23
MW, ED
(共催)
2023-01-27
13:40
東京 機械振興会館 (東京都, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
ノーマリオフ型EID-AlGaN/GaN MOS-HEMTの大電流/高耐圧動作実証
南條拓真品川友宏綿引達郎三浦成久古橋壮之西川和康三菱電機)・江川孝志名工大ED2022-93 MW2022-152
AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistor(HEMT)は,通信用の高周波高出... [more] ED2022-93 MW2022-152
pp.36-39
CPM, ED, LQE
(共催)
2022-11-24
14:55
愛知 ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋) (愛知県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
単結晶AlN基板上AlGaInN/GaN HEMTの作製と特性評価
田中さくら川出智之井上暁喜江川孝志三好実人名工大ED2022-35 CPM2022-60 LQE2022-68
 [more] ED2022-35 CPM2022-60 LQE2022-68
pp.53-56
CPM, ED, LQE
(共催)
2022-11-24
15:15
愛知 ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋) (愛知県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
GaN系HBTに向けたp-GaInN base層と四元AlGaInN emitter層の検討
飯田悠介間瀬 晃滝本将也二階祐宇江川孝志三好実人名工大ED2022-36 CPM2022-61 LQE2022-69
窒化物半導体HBTは次世代の高周波パワーデバイスとして非常に有望である。窒化物半導体HBTはp型ベース層が高抵抗であるこ... [more] ED2022-36 CPM2022-61 LQE2022-69
pp.57-60
CPM, ED, LQE
(共催)
2022-11-24
15:45
愛知 ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋) (愛知県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
リセス構造形成後表面処理を施したAlGaN/GaN MIS-HEMTの電気特性評価
戸田圭太郎久保俊晴江川孝志名工大ED2022-37 CPM2022-62 LQE2022-70
ALD-SiO2/Al2O3 2層絶縁膜を用いたゲートリセス構造を有するノーマリオフ型AlGaN/GaN MIS-HEM... [more] ED2022-37 CPM2022-62 LQE2022-70
pp.61-64
CPM, ED, LQE
(共催)
2022-11-24
16:05
愛知 ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋) (愛知県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
高抵抗歪超格子層を用いたSi基板上のAlGaN/GaN縦型デバイス
小池貴也林 航希早藤綾佑久保俊晴江川孝志名工大ED2022-38 CPM2022-63 LQE2022-71
 [more] ED2022-38 CPM2022-63 LQE2022-71
pp.65-68
CPM, ED, LQE
(共催)
2022-11-25
11:25
愛知 ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋) (愛知県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
半極性 {11-22}AlInN/GaInN の成長温度依存性
藤澤孝博中林泰希江川孝志三好実人名工大)・竹内哲也名城大)・岡田成仁只友一行山口大ED2022-42 CPM2022-67 LQE2022-75
AlInNはGaN系の電子デバイスや光デバイスの要素構造への応用が期待されている。本研究では、GaN系の長波長LDクラッ... [more] ED2022-42 CPM2022-67 LQE2022-75
pp.81-84
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-25
15:25
ONLINE オンライン開催 (オンライン) c面Al0.83In0.17N/GaN格子整合ヘテロ構造の光学特性評価
李 リヤン嶋 紘平東北大)・山中瑞樹名工大)・小島一信東北大)・江川孝志名工大)・上殿明良筑波大)・石橋章司産総研)・竹内哲也名城大)・三好実人名工大)・秩父重英東北大ED2021-24 CPM2021-58 LQE2021-36
Al1-xInxNは、禁制帯幅 (Eg) 波長を深紫外線から赤外線まで変化させられる直接遷移型半導体混晶であり光・電子デ... [more] ED2021-24 CPM2021-58 LQE2021-36
pp.45-50
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-25
16:55
ONLINE オンライン開催 (オンライン) 光無線給電システムに向けたGaInN系受光素子の単色光照射下でのPV性能評価
中林泰希山本皓介Pradip Dalapati江川孝志三好実人名工大ED2021-27 CPM2021-61 LQE2021-39
GaInN系受光素子は太陽電池だけでなく、光無線給電システムへの適用にも非常に有望である。本研究では、光無線給電システム... [more] ED2021-27 CPM2021-61 LQE2021-39
pp.59-62
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-26
14:30
ONLINE オンライン開催 (オンライン) ALDにより成膜したSiO2/Al2O3 2層絶縁膜を用いたノーマリーオフ型AlGaN/GaN MIS-HEMTの電気特性評価
戸田圭太郎久保俊晴江川孝志名工大ED2021-31 CPM2021-65 LQE2021-43
 [more] ED2021-31 CPM2021-65 LQE2021-43
pp.75-78
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-26
14:55
ONLINE オンライン開催 (オンライン) AlN/AlGaInNバリアを備えた高耐圧Al0.36Ga0.64NチャネルHFET
井上暁喜田中さくら江川孝志三好実人名工大ED2021-32 CPM2021-66 LQE2021-44
本研究では、AlNおよび四元混晶AlGaInNバリア層を備えたAl0.36Ga0.64Nチャネルヘテロ電界効果トランジス... [more] ED2021-32 CPM2021-66 LQE2021-44
pp.79-82
 63件中 1~20件目  /  [次ページ]  
ダウンロード書式の初期値を指定してください NEW!!
テキスト形式 pLaTeX形式 CSV形式 BibTeX形式
著作権について : 以上の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会