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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM, ED, SDM
(共催)
2014-05-28
16:30
愛知 名古屋大学VBL3階 表面波プラズマを用いたシリコン窒化膜の化学気相堆積とデバイス応用
川上恭平石丸貴博篠原正俊岡田 浩豊橋技科大)・古川雅一アリエースリサーチ)・若原昭浩関口寛人豊橋技科大ED2014-29 CPM2014-12 SDM2014-27
マイクロ波による表面波プラズマを応用した新しい化学気相堆積法を提案し、シリコン窒化膜の堆積を行った。ビス(ジメチルアミノ... [more] ED2014-29 CPM2014-12 SDM2014-27
pp.55-58
ITS, IE
(共催)
ITE-AIT, ITE-HI, ITE-ME
(共催)
(連催) [詳細]
2014-02-17
13:50
北海道 北海道大学 スパース表現に基づく顔識別のための保護テンプレート生成法
古川昌和村木雄一藤吉正明首都大東京)・外村喜秀NTT)・貴家仁志首都大東京ITS2013-42 IE2013-107
 [more] ITS2013-42 IE2013-107
pp.73-78
SP, EA, SIP
(共催)
2013-05-17
16:25
岡山 岡山大学 カーネル法を用いたスパース表現に基づくセキュアな顔識別法
古川昌和村木雄一藤吉正明貴家仁志首都大東京EA2013-27 SIP2013-27 SP2013-27
 [more] EA2013-27 SIP2013-27 SP2013-27
pp.157-162
CPM 2008-08-04
14:00
北海道 室蘭工業大学 表面波プラズマ装置の開発と半導体プロセスへの応用
福田 永室蘭工大)・古川雅一アリエース・リサーチCPM2008-41
本研究は、高密度表面波プラズマ装置の開発と次世代半導体プロセスへの応用を目的としている。今回、300℃以下の低温領域でシ... [more] CPM2008-41
pp.1-4
MW, OPE, EMT
(共催) [詳細]
2006-07-28
09:45
北海道 北見工大 マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置のFDTD法解析
三芦大樹川口秀樹古川雅一室蘭工大
半導体素子製造の新しい方法であるマイクロ波励起表面波プラズマプロセスでは、印加されるマイクロ波とプラズマの生成、性質につ... [more] MW2006-67 OPE2006-59
pp.175-180
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