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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2024-01-31
12:35
東京 金沢工業大学大学院 虎ノ門キャンパス
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]mK評価が明らかにするMOSFET極低温動作におけるバンド端準位の役割
岡 博史浅井栄大稲葉 工下方駿佑由井 斉更田裕司飯塚将太加藤公彦中山隆史森 貴洋産総研SDM2023-74
高集積量子コンピュータの実現に向けて,量子ビット制御機器の機能を集積回路化して冷凍機内部で信号の送受信を行うクライオCM... [more] SDM2023-74
pp.1-4
SDM 2014-06-19
10:30
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 金属/Ge界面における空孔欠陥の安定性:第一原理計算による検討
佐々木奨悟中山隆史千葉大SDM2014-46
GeはSiより空孔欠陥の多い半導体として知られている。特に金属界面近傍の空孔は界面の電子物性を支配する鍵となるが、その密... [more] SDM2014-46
pp.17-20
SDM 2013-06-18
11:35
東京 機械振興会館 Fe3Si/Geの界面構造によるSBHとスピン電流の変調:第一原理計算による理論的検討
小日向恭祐中山隆史千葉大SDM2013-51
 [more] SDM2013-51
pp.39-42
SDM 2012-06-21
14:15
愛知 名古屋大学(ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー) 金属/(Si/Ge)界面の構造乱れとSBH変調の関係:第一原理計算による理論的検討
小日向恭祐中山隆史千葉大SDM2012-54
 [more] SDM2012-54
pp.59-62
SDM 2011-07-04
14:20
愛知 名古屋大学(ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー) 金属/Si界面の構造乱れによるショットキーバリア変調:第一原理計算による理論的検討
小日向恭祐中山隆史千葉大SDM2011-62
金属(Au)/Si(111)界面に構造乱れを形成した際のショットキーバリア変調を、界面近傍の半導体に原子空孔や格子間原子... [more] SDM2011-62
pp.69-73
SDM 2010-06-22
11:25
東京 東京大学(生産研An棟) 金属/Si界面の偏析層によるショットキーバリアの変調:第一原理計算による化学的傾向の検討
小日向恭祐丸田勇亮中山隆史千葉大SDM2010-37
金属/Si界面に発生する偏析原子層の安定性とショットキーバリア変調の化学的傾向を、偏析原子種をII族からVII族までを変... [more] SDM2010-37
pp.23-26
SDM 2009-06-19
16:55
東京 東京大学(生産研An棟) ドープした金属シリサイドの電子構造に関する理論的検討
五月女真一中山隆史千葉大SDM2009-43
 [more] SDM2009-43
pp.93-97
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