研究会 |
発表日時 |
開催地 |
タイトル・著者 |
抄録 |
資料番号 |
CPM |
2025-02-28 15:15 |
東京 |
日大駿河台キャンパス(予定) (東京都, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
パルスレーザー堆積法を用いた石英ガラス基板上Ni薄膜の作製 ○工藤 彰・中澤日出樹(弘前大) |
[more] |
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MRIS, CPM (共催) ITE-MMS (連催) [詳細] |
2024-11-01 11:10 |
長野 |
信州大学長野(工学)キャンパス (長野県, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
金属触媒を用いた石英基板上グラフェンの直接成長 ○工藤 彰・齋藤遼佑・中澤日出樹(弘前大) MRIS2024-23 CPM2024-52 |
真空蒸着法により石英ガラス基板上に金属触媒層を作製し、その上にパルスレーザー堆積法により炭素膜を堆積させることで、絶縁性... [more] |
MRIS2024-23 CPM2024-52 pp.64-67 |
MRIS, CPM (共催) ITE-MMS (連催) [詳細] |
2024-11-01 11:50 |
長野 |
信州大学長野(工学)キャンパス (長野県, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
プラズマCVD法によるSi、NおよびO添加DLC膜の機械的特性およびトライボロジー特性 ○山崎雄也・片山遼耶・遠田義晴・鈴木裕史・小林康之・中澤日出樹(弘前大) MRIS2024-25 CPM2024-54 |
高周波プラズマ化学気相成長法によりSi、NおよびOを添加したダイヤモンドライクカーボン(Si-N-O-DLC)薄膜を作製... [more] |
MRIS2024-25 CPM2024-54 pp.73-76 |
CPM, LQE, OPE, EMD, R (共催) |
2024-08-29 13:30 |
青森 |
弘前大学文京町地区キャンパス 創立50周年記念会館 (青森県, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
電子ビーム蒸着によるサファイア基板上Ni(111)薄膜成長 ○渡邊雅史・石井 尚・阿部星天・中澤日出樹・小林康之(弘前大) R2024-12 EMD2024-6 CPM2024-22 OPE2024-62 LQE2024-9 |
Ni(111)は、六方晶窒化ホウ素(h-BN)との格子不整合度が0.4%と非常に小さく、高品質なh-BNの成長が期待でき... [more] |
R2024-12 EMD2024-6 CPM2024-22 OPE2024-62 LQE2024-9 pp.1-4 |
CPM, LQE, OPE, EMD, R (共催) |
2024-08-29 13:55 |
青森 |
弘前大学文京町地区キャンパス 創立50周年記念会館 (青森県, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜の光起電力特性へのアニール効果 ○林 優佑・西田竜也・片山遼耶・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史・中澤日出樹(弘前大) R2024-13 EMD2024-7 CPM2024-23 OPE2024-63 LQE2024-10 |
炭化ホウ素ターゲット(B4C)を用いたRFマグネトロンスパッタ法によりアモルファス炭化ホウ素(BxC)薄膜を作製し、ポス... [more] |
R2024-13 EMD2024-7 CPM2024-23 OPE2024-63 LQE2024-10 pp.5-8 |
CPM |
2024-07-19 09:35 |
北海道 |
オホーツク・文化交流センター(愛称:エコーセンター2000) (北海道, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
金属触媒を用いた絶縁性基板上グラフェンおよび窒化ホウ素の直接成長 齋藤遼佑・○工藤 彰・中澤日出樹(弘前大) CPM2024-18 |
パルスレーザー堆積法によりSi基板上に窒化アルミニウム(AlN)絶縁層を作製し、その上にグラフェンおよび六方晶窒化ホウ素... [more] |
CPM2024-18 pp.21-24 |
CPM |
2024-02-29 13:45 |
山形 |
山形大学工学部 (山形県, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜へのO添加の効果 ○山崎雄也・鈴木裕史・小林康之・中澤日出樹(弘前大) CPM2023-105 |
高周波プラズマ化学気相成長法によりシリコン、窒素および酸素を共添加したダイヤモンドライクカーボン(Si-N-O-DLC)... [more] |
CPM2023-105 pp.38-41 |
MRIS, CPM, OME (共催) ITE-MMS (連催) [詳細] |
2023-10-27 10:30 |
新潟 |
新潟大学(駅南キャンパスときめいと) (新潟県, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の機械的特性および耐熱性 ○山崎雄也・佐々木祐弥・中澤日出樹(弘前大) MRIS2023-17 CPM2023-51 OME2023-38 |
希釈ガスにH2およびArを用いたプラズマ化学気相成長法によりシリコンおよび窒素を共添加したダイヤモンドライクカーボン(S... [more] |
MRIS2023-17 CPM2023-51 OME2023-38 pp.33-36 |
CPM |
2023-08-01 09:45 |
北海道 |
北見工業大学 (北海道, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
3°オフ角Si(110)基板上へのSiC/AlN多層構造の作製およびグラフェンの形成 ○齋藤遼佑・奈良友奎・葛西大希・郡山春人・遠田義晴・中澤日出樹(弘前大) CPM2023-19 |
3 ̊オフ角Si(110)基板上にパルスレーザーアブレーション(PLD)法によりAlN薄膜を作製し、AlN上にモノメチル... [more] |
CPM2023-19 pp.29-32 |
CPM |
2023-02-28 11:30 |
東京 |
東京工科大学 + オンライン開催 (東京都, オンライン) (ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催) |
水素ガスを用いたマグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜の光起電力特性 ○西田竜也・佐藤聖能・小林康之・遠田義晴・中澤日出樹(弘前大) CPM2022-94 |
[more] |
CPM2022-94 pp.35-38 |
CPM |
2022-08-04 16:15 |
北海道 |
北見工業大学 (北海道) |
マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素膜特性への水素ガスの効果 ○西田竜也・谷口 颯・佐藤聖能・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史(弘前大)・吹留博一(東北大)・中澤日出樹(弘前大) CPM2022-15 |
炭化ホウ素(B4C)ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタ法によりアモルファスB4C薄膜およびH2を導入して水素化ア... [more] |
CPM2022-15 pp.14-17 |
CPM |
2021-10-27 13:20 |
ONLINE |
オンライン開催 (オンライン) |
プラズマ化学気相成長法によるSi及びN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の光学的特性および電気的特性に及ぼすH₂及びAr希釈の効果 ○佐々木祐弥・長内公哉・大谷優介・室野優太・佐藤聖能・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史・中澤日出樹(弘前大) CPM2021-26 |
希釈ガスにAr及びH₂を用いたプラズマ化学気相成長法によりケイ素(Si)及び窒素(N)を添加したダイヤモンドライクカーボ... [more] |
CPM2021-26 pp.23-28 |
CPM |
2020-10-29 13:40 |
ONLINE |
オンライン開催 (オンライン) |
AlN/Si(110)基板上SiCエピタキシャル成長におけるSiC低温バッファ層の効果 ○葛西大希・奈良友奎・中澤日出樹(弘前大) CPM2020-13 |
[more] |
CPM2020-13 pp.7-10 |
CPM |
2020-10-29 15:10 |
ONLINE |
オンライン開催 (オンライン) |
マグネトロンスパッタ法を用いて作製したBCN膜特性への水素の効果 ○谷口 颯・郡山春人・小林康之・遠田義晴(弘前大)・吹留博一(東北大)・中澤日出樹(弘前大) CPM2020-17 |
[more] |
CPM2020-17 pp.23-26 |
CPM |
2019-11-07 15:00 |
福井 |
福井大学 文京キャンパス (福井県) |
窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果 ○長内公哉・中村和樹・郡山春人・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史(弘前大)・末光眞希(東北大)・中澤日出樹(弘前大) CPM2019-46 |
希釈ガスにH2を用いたプラズマ化学気相成長法により窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(N-DLC)膜を作製し、真空... [more] |
CPM2019-46 pp.9-14 |
CPM |
2019-08-26 15:50 |
北海道 |
北見工業大学 1号館2F A-207講義室 (北海道) |
オフ角Si(110)基板上AlN層の形成とその上へのSiCヘテロエピタキシャル成長 ○中澤日出樹・奈良友奎・葛西大希(弘前大) CPM2019-42 |
これまで、AlN/Si基板上にSiC低温バッファ層を形成しその上にSiC薄膜を成長させた後、高温加熱を施すことでグラフェ... [more] |
CPM2019-42 pp.23-28 |
CPM |
2019-02-28 15:25 |
東京 |
電通大 (東京都) |
炭素系薄膜の作製と評価 ○中澤日出樹(弘前大) CPM2018-109 |
[more] |
CPM2018-109 pp.37-40 |
CPM, IEE-MAG (連催) |
2018-11-02 14:25 |
新潟 |
まちなかキャンパス長岡 (新潟県) |
ケイ素及び窒素を添加したDLC薄膜の熱的安定性 ○中澤日出樹・中村和樹・長内公哉・郡山春人・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史(弘前大)・末光眞希(東北大) CPM2018-52 |
希釈ガスにH_(2)を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したケイ素及び窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(Si... [more] |
CPM2018-52 pp.99-104 |
CPM |
2018-08-09 14:30 |
青森 |
弘前大学文京町地区キャンパス (青森県) |
Si添加DLC薄膜への窒素添加の効果 中村和樹・大橋 遼(弘前大)・横山 大・田島圭一郎・遠藤則史・末光眞希(東北大)・遠田義晴・小林康之・鈴木裕史・○中澤日出樹(弘前大) CPM2018-8 |
希釈ガスにH_2を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したSi添加DLC(Si-DLC)薄膜の化学結合状態、電気的・光... [more] |
CPM2018-8 pp.1-6 |
CPM |
2018-08-09 14:50 |
青森 |
弘前大学文京町地区キャンパス (青森県) |
SiC/AlN/Si(110)基板上グラフェンの成長 ○中澤日出樹・成田舜基・奈良友奎・遠田義晴(弘前大) CPM2018-9 |
3ºオフ角を有するSi(110)基板上に、レーザーアブレーション法を用いて様々な成長条件でAlN薄膜を作製した結果、レー... [more] |
CPM2018-9 pp.7-12 |