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 26件中 1~20件目  /  [次ページ]  
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2025-02-28
15:15
東京 日大駿河台キャンパス(予定) (東京都, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
パルスレーザー堆積法を用いた石英ガラス基板上Ni薄膜の作製
工藤 彰中澤日出樹弘前大
 [more]
MRIS, CPM
(共催)
ITE-MMS
(連催) [詳細]
2024-11-01
11:10
長野 信州大学長野(工学)キャンパス (長野県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
金属触媒を用いた石英基板上グラフェンの直接成長
工藤 彰齋藤遼佑中澤日出樹弘前大MRIS2024-23 CPM2024-52
真空蒸着法により石英ガラス基板上に金属触媒層を作製し、その上にパルスレーザー堆積法により炭素膜を堆積させることで、絶縁性... [more] MRIS2024-23 CPM2024-52
pp.64-67
MRIS, CPM
(共催)
ITE-MMS
(連催) [詳細]
2024-11-01
11:50
長野 信州大学長野(工学)キャンパス (長野県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
プラズマCVD法によるSi、NおよびO添加DLC膜の機械的特性およびトライボロジー特性
山崎雄也片山遼耶遠田義晴鈴木裕史小林康之中澤日出樹弘前大MRIS2024-25 CPM2024-54
高周波プラズマ化学気相成長法によりSi、NおよびOを添加したダイヤモンドライクカーボン(Si-N-O-DLC)薄膜を作製... [more] MRIS2024-25 CPM2024-54
pp.73-76
CPM, LQE, OPE, EMD, R
(共催)
2024-08-29
13:30
青森 弘前大学文京町地区キャンパス 創立50周年記念会館 (青森県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
電子ビーム蒸着によるサファイア基板上Ni(111)薄膜成長
渡邊雅史石井 尚阿部星天中澤日出樹小林康之弘前大R2024-12 EMD2024-6 CPM2024-22 OPE2024-62 LQE2024-9
Ni(111)は、六方晶窒化ホウ素(h-BN)との格子不整合度が0.4%と非常に小さく、高品質なh-BNの成長が期待でき... [more] R2024-12 EMD2024-6 CPM2024-22 OPE2024-62 LQE2024-9
pp.1-4
CPM, LQE, OPE, EMD, R
(共催)
2024-08-29
13:55
青森 弘前大学文京町地区キャンパス 創立50周年記念会館 (青森県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜の光起電力特性へのアニール効果
林 優佑西田竜也片山遼耶小林康之遠田義晴鈴木裕史中澤日出樹弘前大R2024-13 EMD2024-7 CPM2024-23 OPE2024-63 LQE2024-10
炭化ホウ素ターゲット(B4C)を用いたRFマグネトロンスパッタ法によりアモルファス炭化ホウ素(BxC)薄膜を作製し、ポス... [more] R2024-13 EMD2024-7 CPM2024-23 OPE2024-63 LQE2024-10
pp.5-8
CPM 2024-07-19
09:35
北海道 オホーツク・文化交流センター(愛称:エコーセンター2000) (北海道, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
金属触媒を用いた絶縁性基板上グラフェンおよび窒化ホウ素の直接成長
齋藤遼佑・○工藤 彰中澤日出樹弘前大CPM2024-18
パルスレーザー堆積法によりSi基板上に窒化アルミニウム(AlN)絶縁層を作製し、その上にグラフェンおよび六方晶窒化ホウ素... [more] CPM2024-18
pp.21-24
CPM 2024-02-29
13:45
山形 山形大学工学部 (山形県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜へのO添加の効果
山崎雄也鈴木裕史小林康之中澤日出樹弘前大CPM2023-105
高周波プラズマ化学気相成長法によりシリコン、窒素および酸素を共添加したダイヤモンドライクカーボン(Si-N-O-DLC)... [more] CPM2023-105
pp.38-41
MRIS, CPM, OME
(共催)
ITE-MMS
(連催) [詳細]
2023-10-27
10:30
新潟 新潟大学(駅南キャンパスときめいと) (新潟県, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
SiおよびN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の機械的特性および耐熱性
山崎雄也佐々木祐弥中澤日出樹弘前大MRIS2023-17 CPM2023-51 OME2023-38
希釈ガスにH2およびArを用いたプラズマ化学気相成長法によりシリコンおよび窒素を共添加したダイヤモンドライクカーボン(S... [more] MRIS2023-17 CPM2023-51 OME2023-38
pp.33-36
CPM 2023-08-01
09:45
北海道 北見工業大学 (北海道, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
3°オフ角Si(110)基板上へのSiC/AlN多層構造の作製およびグラフェンの形成
齋藤遼佑奈良友奎葛西大希郡山春人遠田義晴中澤日出樹弘前大CPM2023-19
3 ̊オフ角Si(110)基板上にパルスレーザーアブレーション(PLD)法によりAlN薄膜を作製し、AlN上にモノメチル... [more] CPM2023-19
pp.29-32
CPM 2023-02-28
11:30
東京 東京工科大学 + オンライン開催 (東京都, オンライン)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
水素ガスを用いたマグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素薄膜の光起電力特性
西田竜也佐藤聖能小林康之遠田義晴中澤日出樹弘前大CPM2022-94
 [more] CPM2022-94
pp.35-38
CPM 2022-08-04
16:15
北海道 北見工業大学 (北海道) マグネトロンスパッタ法による炭化ホウ素膜特性への水素ガスの効果
西田竜也谷口 颯佐藤聖能小林康之遠田義晴鈴木裕史弘前大)・吹留博一東北大)・中澤日出樹弘前大CPM2022-15
炭化ホウ素(B4C)ターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタ法によりアモルファスB4C薄膜およびH2を導入して水素化ア... [more] CPM2022-15
pp.14-17
CPM 2021-10-27
13:20
ONLINE オンライン開催 (オンライン) プラズマ化学気相成長法によるSi及びN添加ダイヤモンドライクカーボン膜の光学的特性および電気的特性に及ぼすH₂及びAr希釈の効果
佐々木祐弥長内公哉大谷優介室野優太佐藤聖能小林康之遠田義晴鈴木裕史中澤日出樹弘前大CPM2021-26
希釈ガスにAr及びH₂を用いたプラズマ化学気相成長法によりケイ素(Si)及び窒素(N)を添加したダイヤモンドライクカーボ... [more] CPM2021-26
pp.23-28
CPM 2020-10-29
13:40
ONLINE オンライン開催 (オンライン) AlN/Si(110)基板上SiCエピタキシャル成長におけるSiC低温バッファ層の効果
葛西大希奈良友奎中澤日出樹弘前大CPM2020-13
 [more] CPM2020-13
pp.7-10
CPM 2020-10-29
15:10
ONLINE オンライン開催 (オンライン) マグネトロンスパッタ法を用いて作製したBCN膜特性への水素の効果
谷口 颯郡山春人小林康之遠田義晴弘前大)・吹留博一東北大)・中澤日出樹弘前大CPM2020-17
 [more] CPM2020-17
pp.23-26
CPM 2019-11-07
15:00
福井 福井大学 文京キャンパス (福井県) 窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果
長内公哉中村和樹郡山春人小林康之遠田義晴鈴木裕史弘前大)・末光眞希東北大)・中澤日出樹弘前大CPM2019-46
希釈ガスにH2を用いたプラズマ化学気相成長法により窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(N-DLC)膜を作製し、真空... [more] CPM2019-46
pp.9-14
CPM 2019-08-26
15:50
北海道 北見工業大学 1号館2F A-207講義室 (北海道) オフ角Si(110)基板上AlN層の形成とその上へのSiCヘテロエピタキシャル成長
中澤日出樹奈良友奎葛西大希弘前大CPM2019-42
これまで、AlN/Si基板上にSiC低温バッファ層を形成しその上にSiC薄膜を成長させた後、高温加熱を施すことでグラフェ... [more] CPM2019-42
pp.23-28
CPM 2019-02-28
15:25
東京 電通大 (東京都) 炭素系薄膜の作製と評価
中澤日出樹弘前大CPM2018-109
 [more] CPM2018-109
pp.37-40
CPM, IEE-MAG
(連催)
2018-11-02
14:25
新潟 まちなかキャンパス長岡 (新潟県) ケイ素及び窒素を添加したDLC薄膜の熱的安定性
中澤日出樹中村和樹長内公哉郡山春人小林康之遠田義晴鈴木裕史弘前大)・末光眞希東北大CPM2018-52
希釈ガスにH_(2)を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したケイ素及び窒素を添加したダイヤモンドライクカーボン(Si... [more] CPM2018-52
pp.99-104
CPM 2018-08-09
14:30
青森 弘前大学文京町地区キャンパス (青森県) Si添加DLC薄膜への窒素添加の効果
中村和樹大橋 遼弘前大)・横山 大田島圭一郎遠藤則史末光眞希東北大)・遠田義晴小林康之鈴木裕史・○中澤日出樹弘前大CPM2018-8
希釈ガスにH_2を用いたプラズマ化学気相成長法により作製したSi添加DLC(Si-DLC)薄膜の化学結合状態、電気的・光... [more] CPM2018-8
pp.1-6
CPM 2018-08-09
14:50
青森 弘前大学文京町地区キャンパス (青森県) SiC/AlN/Si(110)基板上グラフェンの成長
中澤日出樹成田舜基奈良友奎遠田義晴弘前大CPM2018-9
3ºオフ角を有するSi(110)基板上に、レーザーアブレーション法を用いて様々な成長条件でAlN薄膜を作製した結果、レー... [more] CPM2018-9
pp.7-12
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