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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
WIT, HI-SIGACI
(連催)
2017-12-07
16:15
東京 産総研臨海副都心センター(東京) タブレット端末を用いた遠隔リハビリ支援装置 ~ UIの改善と対話機能の実現 ~
梅田優樹磯西優太佐々木 豊西森健太郎前田義信牧野秀夫新潟大WIT2017-64
近年,本邦では高齢化と過疎化を背景に,遠隔医療の必要性が増大している.とりわけ,遠隔医療におけるリハビリテーション(以下... [more] WIT2017-64
pp.137-142
PRMU 2013-03-14
17:30
東京 電気通信大学 SNS・マイクロブログサービスのための画像からの主観文自動生成
小林寛子藤縄展宏栗林英範佐々木豊春松尾武史中島伸一ニコンPRMU2012-203
近年, 与えられた画像に対して自然文を出力する研究が注目されている. 物体の動作やシーンを客観的に記述する自然文を生成す... [more] PRMU2012-203
pp.135-139
OPE, OFT
(共催)
2012-03-02
15:50
東京 機械振興会館 テルライトファイバへの屈折率変調グレーティング形成
横田浩久真野恭輔小林資昭今井 洋佐々木 豊茨城大OFT2011-83 OPE2011-209
低い制御光パワーで動作する全光スイッチへの応用を目的として,テルライトファイバへの屈折率変調グレーティング形成を試みた.... [more] OFT2011-83 OPE2011-209
pp.53-56
OFT 2010-10-25
15:05
埼玉 日本工業大学 CO2レーザ照射による空孔径制御を用いたフォトニック結晶ファイバ光減衰器の作製
横田浩久後田耕佑井上直哉今井 洋佐々木 豊茨城大OFT2010-34
CO_2レーザ光をフォトニック結晶ファイバ(PCF)に照射して加熱・溶融することで,PCFの空孔径を制御して,フォトニッ... [more] OFT2010-34
pp.29-32
OFT 2009-10-30
13:15
大分 別府国際コンベンションセンター【変更】 CO2レーザ照射による空孔制御を用いたフォトニック結晶ファイバカプラの結合特性調整
横田浩久中島 優市毛友也今井 洋佐々木 豊茨城大OFT2009-49
フォトニック結晶ファイバカプラ(PCFC)の光結合特性は,カプラテーパ部の空孔の有無や空孔消失部の長さに依存することが報... [more] OFT2009-49
pp.73-76
OFT, OPE
(共催)
2009-03-06
15:50
東京 機械振興会館 CO2レーザ照射を用いたテルライトファイバカプラの作製
中村祐介小林資昭横田浩久茨城大)・森 淳NTT)・佐々木 豊茨城大OFT2008-98 OPE2008-198
融着型ファイバカプラのテーパ部に屈折率変調グレーティングを形成した光ファイバグレーティングカプラ(FGC)を用いた全光ス... [more] OFT2008-98 OPE2008-198
pp.63-66
ITE-BCT, IEE-CMN
(共催)
OFT, OCS
(併催) [詳細]
2008-11-21
09:35
大分 日本文理大学 湯布院研修所 フォトニック結晶ファイバとシングルモードファイバの融着型カプラ形成による接続
横田浩久八嶋紘寛今井 洋佐々木 豊茨城大OFT2008-61
フォトニック結晶ファイバ(PCF)とシングルモードファイバ(SMF)の接続方法の一つとして,SMFとPCFによる融着型カ... [more] OFT2008-61
pp.77-80
OCS, OFT
(併催)
2008-08-28
13:00
北海道 北海道大学 [特別招待講演]偏波保持光ファイバの研究・開発とその応用
佐々木 豊茨城大OCS2008-37 OFT2008-19
最初に,偏波保持光ファイバの基礎的な事項に触れ,ついで,研究・開発について述べる.さらに,その応用に言及し,最後に、今後... [more] OCS2008-37 OFT2008-19
pp.21-30(OCS), pp.13-22(OFT)
ITE-BCT, IEE-CMN
(共催)
OCS, OFT
(併催) [詳細]
2007-11-21
15:25
大阪 大阪大学 テーパ部の空孔を制御したフォトニック結晶ファイバカプラの設計および作製
横田浩久川尻宏樹八嶋紘寛佐々木 豊茨城大OFT2007-42
フォトニック結晶ファイバカプラ(PCFC)の結合特性について理論検討を行った.カプラテーパ部の空孔を残したPCFCでは,... [more] OFT2007-42
pp.17-21
EMD, CPM, LQE, OPE
(共催)
2006-08-25
11:35
北海道 千歳アルカディア・プラザ オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体Ⅱ
森 裕平神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/京大)・安達昌文佐々木 豊前田修一三菱化学)・清水正毅檜山爲次郎京大
オリゴチオフェンと芳香族アジドDZDSを利用した、二段階吸収型のホログラムメモリ用材料を提案し、それぞれの分子の励起状態... [more] EMD2006-40 CPM2006-70 OPE2006-82 LQE2006-47
pp.81-86
CPM, EMD, OME
(共催)
2006-06-30
14:00
東京 機械振興会館 オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体
森 裕平神原浩久平林克彦NTT)・栗原 隆NTT/京大)・安達昌文佐々木 豊前田修一三菱化学)・清水正毅檜山為次郎京大
三次元多層光メモリの実現を目的として、二段階の光吸収によるメモリ材料について調べた。二段階光吸収材料としてオリゴチオフェ... [more] EMD2006-9 CPM2006-33 OME2006-43
pp.23-27
OCS, OFT
(共催)
2004-08-26
14:45
北海道 室蘭工業大学 フォトニック結晶ファイバカプラの設計および作製
横田浩久小林善博平城昌浩西田幸生佐々木 豊茨城大
コアの周囲に空孔を配置したフォトニック結晶ファイバ(PCF)は,従来のファイバには見られない多くの特徴を有することから大... [more] OCS2004-62 OFT2004-25
pp.53-56
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