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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
VLD, DC, RECONF, ICD
(共催)
IPSJ-SLDM
(連催) [詳細]
2022-11-30
10:45
石川 金沢市文化ホール
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法
野中尚貴小平行秀会津大)・高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64
製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち,ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化に... [more] VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64
pp.127-132
VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM
(連催)
(併催) [詳細]
2021-12-02
15:35
ONLINE オンライン開催 シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法
小平行秀中山晴貴野中尚貴会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53
半導体プロセスの微細化のために,光リソグラフィ技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち,ウ... [more] VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53
pp.162-167
HWS, VLD
(共催) [詳細]
2020-03-04
16:00
沖縄 沖縄県青年会館
(開催中止,技報発行あり)
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-105 HWS2019-78
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-105 HWS2019-78
pp.65-70
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2019-11-15
16:35
愛媛 愛媛県男女共同参画センター 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法
小平行秀東 梨奈会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-53 DC2019-77
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-53 DC2019-77
pp.197-202
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
CPM, ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2018-12-07
14:10
広島 サテライトキャンパスひろしま 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮野嶋茂樹東芝メモリVLD2018-70 DC2018-56
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソグ... [more] VLD2018-70 DC2018-56
pp.209-214
VLD, IPSJ-SLDM
(連催)
2014-05-29
11:30
福岡 北九州国際会議場 11会議室 半正定値緩和法を用いたLELECUTトリプルパターニングのためのレイアウト分割手法
小平行秀会津大)・松井知己東工大)・横山陽子児玉親亮東芝)・高橋篤司東工大)・野嶋茂樹田中 聡東芝VLD2014-6
次世代リソグラフィ技術として,2つのマスクをパタン形成のために,3つ目のマスクを形成したパタンを削除するためのカットとし... [more] VLD2014-6
pp.27-32
VLD 2014-03-04
13:20
沖縄 沖縄県青年会館 [招待講演]Advanced Model-Based Hotspot Fix Flow for Layout Optimization with Genetic Algorithm
Shuhei SotaToshiba Microelectronics)・Taiga UnoMasanari KajiwaraChikaaki KodamaToshiba)・Hirotaka IchikawaToshiba Microelectronics)・Ryota AburadaToshiya KotaniToshiba)・Kei NakagawaTamaki SaitoToshiba MicroelectronicsVLD2013-148
Low-k1リソグラフィ・プロセスでは、ホットスポットと呼ばれるリソグラフィ上の欠陥が多数発生するため、その削減が歩留り... [more] VLD2013-148
p.85
VLD 2014-03-04
14:15
沖縄 沖縄県青年会館 側壁ダブルパターニングのための修正2色グリッド配線法
井原岳志高橋篤司東工大)・児玉親亮東芝VLD2013-150
 [more] VLD2013-150
pp.93-98
VLD 2014-03-04
14:40
沖縄 沖縄県青年会館 超微細化を実現する側壁ダブル・クアドラプルパターニングのための3色グリッド配線手法
児玉親亮東芝)・市川裕隆東芝マイクロエレクトロニクス)・中嶌史晴中山幸一野嶋茂樹小谷敏也東芝VLD2013-151
光リソグラフィの延命技術とよばれ,次世代リソグラフィ技術の実用化までの「つなぎ」のような存在であったダブルパターニング技... [more] VLD2013-151
pp.99-104
VLD, DC, IPSJ-SLDM
(連催)
ICD, CPM
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2011-11-29
13:00
宮崎 ニューウェルシティ宮崎 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法
児玉親亮中山幸一小谷敏也野嶋茂樹三本木省次宮本晋示東芝VLD2011-76 DC2011-52
光リソグラフィの限界を超えたパターンを露光するために近年様々な技術が提案されており,その代表的なものにダブルパターニング... [more] VLD2011-76 DC2011-52
pp.141-146
VLD, DC, IPSJ-SLDM
(共催)
CPSY, RECONF, IPSJ-ARC
(併催) [詳細]
2007-11-22
13:00
福岡 北九州国際会議場 対称配置可能な相対位置関係について
藤吉邦洋児玉親亮甲田真一東京農工大
アナログICのレイアウト設計においては、指定されたセル対を線対称に配置配線するという『対称配置制約』を守ることが要求され... [more] VLD2007-95 DC2007-50
pp.37-41
VLD, ICD, DC, IPSJ-SLDM
(共催)
2005-12-01
17:05
福岡 北九州国際会議場 3次元集積回路のためのフロアプラン探索
太田秀典東京農工大)・山田敏規埼玉大)・児玉親亮藤吉邦洋東京農工大
 [more] VLD2005-75 ICD2005-170 DC2005-52
pp.85-90
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