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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2022-12-08
15:55
愛媛 愛媛大学 + オンライン開催
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
CoFeB/Sb2Te3の相制御による磁気緩和定数の増大
諸田美砂子齊藤雄太畑山祥吾内田紀行産総研MRIS2022-23
Sb_2Te_3やBi_2Te_3などのカルコゲナイド材料は、結晶とアモルファスの相の違いにより抵抗率が変化する相変化材... [more] MRIS2022-23
pp.28-31
SDM 2019-02-07
15:30
東京 東京大学/本郷 工学部4号館 42講義室 [招待講演]微細CMOS向け新コンタクト材料:クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜
岡田直也内田紀行小川真一金山敏彦産総研SDM2018-96
 [more] SDM2018-96
pp.23-26
SDM 2018-02-08
10:05
東京 東京大学/本郷 [招待講演]クラスター気相合成法で形成したWSin (n=12)挿入膜を用いたCu直接コンタクト
岡田直也内田紀行小川真一遠藤和彦金山敏彦産総研SDM2017-97
 [more] SDM2017-97
pp.1-4
SDM 2015-06-19
17:10
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー [依頼講演]High-k/MetalゲートMoS2 MOSFETの試作と評価
森 貴洋産総研)・二之宮成樹横浜国大)・内田紀行久保利隆産総研)・渡辺英一郎津谷大樹森山悟士物質・材料研究機構)・田中正俊横浜国大)・安藤 淳産総研SDM2015-56
極薄ボディトランジスタとして注目を集めるMoS2 MOSFETを、high-k/metalゲートを適用し試作、評価した結... [more] SDM2015-56
pp.99-103
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