| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| PRMU, MI, IE, SIP (共催) |
2014-05-22 15:50 |
愛知 | 名古屋工業大学 | 単語音声刺激に対するP300検出の雑音耐性に関する研究 前田修一（山口大）・○平林 晃（立命館大）・田中聡久（東京農工大）  SIP2014-10 IE2014-10 PRMU2014-10 MI2014-10 |
事象関連電位の一種であるP300を用いたBCIの実環境における実現を目指すために，単語音声刺激に対する雑音耐性を調査した... [more] | SIP2014-10 IE2014-10 PRMU2014-10 MI2014-10 pp.49-54 |
| EMD | 2006-12-15 14:40 |
東京 | 機械振興会館 | 有機ホウ素ポリマーの二光子吸収結合断裂 ○堀口嵩浩・藤田静雄（京大）・山雄健史・堀田 収（京都工繊大）・神原浩久・栗原 隆（NTT）・藤野正家（群馬高専）・長田裕也・中條善樹（京大）・秋山誠治・竹ノ内久美子・前田修一（三菱化学） |
[more] | EMD2006-60 pp.15-19 |
| EMD, CPM, LQE, OPE (共催) |
2006-08-25 11:10 |
北海道 | 千歳アルカディア・プラザ | 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性 ○山雄健史・堀田 収（京都工繊大）・堀口嵩浩・藤田静雄（京大）・神原浩久・森 裕平・栗原 隆（NTT）・藤野正家（群馬高専）・長田裕也・中條善樹（京大）・秋山誠治・竹ノ内久美子・前田修一（三菱化学科学技研センター） |
二光子吸収型3次元光メモリ材料への応用を目指し、二光子吸収過程により分子の結合断裂を生じる有機ホウ素化合物材料を用いて、... [more] | EMD2006-39 CPM2006-69 OPE2006-81 LQE2006-46 pp.75-79 |
| EMD, CPM, LQE, OPE (共催) |
2006-08-25 11:35 |
北海道 | 千歳アルカディア・プラザ | オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体Ⅱ ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・安達昌文・佐々木 豊・前田修一（三菱化学）・清水正毅・檜山爲次郎（京大） |
オリゴチオフェンと芳香族アジドDZDSを利用した、二段階吸収型のホログラムメモリ用材料を提案し、それぞれの分子の励起状態... [more] | EMD2006-40 CPM2006-70 OPE2006-82 LQE2006-47 pp.81-86 |
| CPM, EMD, OME (共催) |
2006-06-30 14:00 |
東京 | 機械振興会館 | オリゴチオフェンを用いた二段階吸収ホログラフィック記録媒体 ○森 裕平・神原浩久・平林克彦（NTT）・栗原 隆（NTT/京大）・安達昌文・佐々木 豊・前田修一（三菱化学）・清水正毅・檜山為次郎（京大） |
三次元多層光メモリの実現を目的として、二段階の光吸収によるメモリ材料について調べた。二段階光吸収材料としてオリゴチオフェ... [more] | EMD2006-9 CPM2006-33 OME2006-43 pp.23-27 |
| CPM, EMD, OME (共催) |
2006-06-30 14:50 |
東京 | 機械振興会館 | 新規π電子系有機化合物の二光子吸収特性 ○堀口嵩浩・藤田静雄（京大）・山雄健史・堀田 収（京都工繊大）・神原浩久・栗原 隆・中野秀俊・森 裕平（NTT）・大須賀篤弘・長田裕也・中條善樹（京大）・秋山誠治・前田修一（三菱化学） |
大容量 3次元光メモリの実現のため，高効率二光子吸収(TPA)材料に期待が集まっている．今回，大環 状分子であるポルフ... [more] |
EMD2006-11 CPM2006-35 OME2006-45 pp.33-38 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]